JPH01168672A - １，３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド誘導体の製造方法 - Google Patents
１，３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH01168672A JPH01168672A JP32720787A JP32720787A JPH01168672A JP H01168672 A JPH01168672 A JP H01168672A JP 32720787 A JP32720787 A JP 32720787A JP 32720787 A JP32720787 A JP 32720787A JP H01168672 A JPH01168672 A JP H01168672A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- formula
- dimethylformamide
- phosgene
- dialkylpyrazole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 claims abstract description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 15
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 abstract description 13
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 abstract description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 abstract description 4
- QQVDYSUDFZZPSU-UHFFFAOYSA-M chloromethylidene(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)=CCl QQVDYSUDFZZPSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 4
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 2
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 2
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- JXSSEZYJBTUIGX-UHFFFAOYSA-N n-(propan-2-ylideneamino)methanamine Chemical compound CNN=C(C)C JXSSEZYJBTUIGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IGJREDVLGVEPFI-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylpyrazole-4-carbaldehyde Chemical compound CC1=NN(C)C=C1C=O IGJREDVLGVEPFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 4
- OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 4
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- NODLZCJDRXTSJO-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylpyrazole Chemical compound CC=1C=CN(C)N=1 NODLZCJDRXTSJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- -1 aromatic halogenated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000006170 formylation reaction Methods 0.000 description 2
- JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylformamide Chemical compound O=CN(C)C1=CC=CC=C1 JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000005185 salting out Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100022210 COX assembly mitochondrial protein 2 homolog Human genes 0.000 description 1
- 101000900446 Homo sapiens COX assembly mitochondrial protein 2 homolog Proteins 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000022244 formylation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は式（１）
で示される１、３−ジアルキルピラゾール−４−アルデ
ヒド誘導体の製造方法に関する。
ヒド誘導体の製造方法に関する。
本発明に係る製造方法により製造される前記式（１）で
示される１、３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒ
ド誘導体は農薬の中間体、すなわち殺菌剤及び除草剤の
中間体として有用である。
示される１、３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒ
ド誘導体は農薬の中間体、すなわち殺菌剤及び除草剤の
中間体として有用である。
１．３−ジメチルピラゾール−４−アルデヒドの製造方
法についてはケミカル アブストラクト（Ｃ。
法についてはケミカル アブストラクト（Ｃ。
Ａ、、）第７９＠、１８６３１Ｘ （１９７３）、’）
ユ）Ｌｔｆ −ＪＬ／ 、ｔ ／Ｌ／ガニチェスコ
イ ヒミー（Ｚｈｒｕｎａｌ Ｏｒｇａｎｉｃｈｅｓｋ
ｏｉＫｈｉｍｉｉ、 ３０巻、１１２６ページ（１９６
５））に、１．３−ジメチルピラゾールをヴイルスマイ
ヤーＶｉｌｓｍｅｉｅｒ試薬によりホルミル化する方法
（収率５８％）が記載されている。
ユ）Ｌｔｆ −ＪＬ／ 、ｔ ／Ｌ／ガニチェスコ
イ ヒミー（Ｚｈｒｕｎａｌ Ｏｒｇａｎｉｃｈｅｓｋ
ｏｉＫｈｉｍｉｉ、 ３０巻、１１２６ページ（１９６
５））に、１．３−ジメチルピラゾールをヴイルスマイ
ヤーＶｉｌｓｍｅｉｅｒ試薬によりホルミル化する方法
（収率５８％）が記載されている。
前記従来法は、例えば下記に示す合成ルートによって原
料の１．３−ジメチルピラゾールを合成し、得られた１
、３−ジメチルピラゾールをヴイルスマイヤーＶｉｌｓ
ｍｅｉｅｒ反応により核ホルミル化し目的とする１、３
−ジメチルピラゾール−４−アルデヒドを得る方法であ
るが、ホルミル化反応の収率が低い、また反応工程が長
く、製造コストが高くなる等の問題点がある。
料の１．３−ジメチルピラゾールを合成し、得られた１
、３−ジメチルピラゾールをヴイルスマイヤーＶｉｌｓ
ｍｅｉｅｒ反応により核ホルミル化し目的とする１、３
−ジメチルピラゾール−４−アルデヒドを得る方法であ
るが、ホルミル化反応の収率が低い、また反応工程が長
く、製造コストが高くなる等の問題点がある。
本発明は、１，３−ジアルキルピラゾール−４−アルデ
ヒド誘導体の製造方法について前記問題点を解決し、反
応工程が短く、収率良く製造する方法を提供することを
課題とする。
ヒド誘導体の製造方法について前記問題点を解決し、反
応工程が短く、収率良く製造する方法を提供することを
課題とする。
〔問題を解決するための手段および作用〕前記問題点を
解決すべく鋭意検討した結果、ある種のヴイルスマイヤ
ーＶｉｌｓｍｅｉｅｒｔＪ：、薬と式（Ｉｔ）で示され
るアセトンメチルヒドラゾンを反応させるごとにより１
工程で、しかも高収率で位置選択的に１．３−ジメチル
ピラゾール−４−アルデヒドが得られることを見い出し
本発明を完成した。
解決すべく鋭意検討した結果、ある種のヴイルスマイヤ
ーＶｉｌｓｍｅｉｅｒｔＪ：、薬と式（Ｉｔ）で示され
るアセトンメチルヒドラゾンを反応させるごとにより１
工程で、しかも高収率で位置選択的に１．３−ジメチル
ピラゾール−４−アルデヒドが得られることを見い出し
本発明を完成した。
すなわち、本発明はジメチルホルムアミドにホスゲンを
反応させた後、式（ＩＩ） ｇ富 す） で示されるヒドラゾン誘導体を反応させることを特徴と
する式（１） （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ前記の意味を示す）で
示される１、３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒ
ド誘導体の製造方法である。
反応させた後、式（ＩＩ） ｇ富 す） で示されるヒドラゾン誘導体を反応させることを特徴と
する式（１） （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ前記の意味を示す）で
示される１、３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒ
ド誘導体の製造方法である。
本発明に係る製造方法は１，３−ジアルキルピラゾール
−４−アルデヒド誘導体の新規な製造方法であり、本発
明に係る製造方法によって製造される１、３−ジアルキ
ルピラゾール−４−アルデヒド誘導体は疫病、ぺと病用
殺閏剤として優れた性質を有するピラゾール誘導体の重
要な製造中間体として有用である。
−４−アルデヒド誘導体の新規な製造方法であり、本発
明に係る製造方法によって製造される１、３−ジアルキ
ルピラゾール−４−アルデヒド誘導体は疫病、ぺと病用
殺閏剤として優れた性質を有するピラゾール誘導体の重
要な製造中間体として有用である。
本発明に係わる製造法について以下に詳しく説明する。
出発原料の式（ＩＩ）で示されるヒドラゾン誘導体はジ
ャーナル オプ オルガニック ケミストリー（Ｊ、Ｏ
ｒｇ、Ｃｈｅａ＋、）、第３２巻、２８６５（１９６７
）及びテトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、第
２２巻、９１３（１９６６）に記載されているアセトン
メチルヒドラゾンの合成法に従い次式により製造するこ
とが出来る。
ャーナル オプ オルガニック ケミストリー（Ｊ、Ｏ
ｒｇ、Ｃｈｅａ＋、）、第３２巻、２８６５（１９６７
）及びテトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、第
２２巻、９１３（１９６６）に記載されているアセトン
メチルヒドラゾンの合成法に従い次式により製造するこ
とが出来る。
本発明に係る製造方法においては、過剰のジメチルホル
ムアミド、又は、不活性溶媒にジメチルホルムアミドを
溶解させた液に、撹拌下にホスゲンを吹き込み反応させ
て、いわゆるヴイルスマイヤーＶｉｌｓｍｅｉｅｒ試薬
を合成する。不活性溶媒を用いた場合は、過剰のホスゲ
ンを反応系外に除去した後攪拌下に式（ＩＩ）で示され
るヒドラゾン誘導体を滴下し反応させるのが望ましい、
用いた不活性溶媒の沸点が低い場合はヒドラゾン誘導体
との反応に長時間を要するので、好ましくは、反応系外
に低沸点の不活性溶媒を除去し、希釈剤としてジメチル
ホルムアミドを加えると反応時間が短縮出来る。ヴイル
スマイヤーＶｉｌｓｍｅｉｅｒ試薬としては種りのもの
が知られているが、ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、Ｎ−メチルホルムアニリドとオキシ塩化リンまたは
塩化チオニル等の組合せでは式（ｎ）で示されるヒドラ
ゾン誘導体との反応の目的物式（Ｉ）で示される１、３
−ジアルキルピラゾール−４−アルデ′ヒト誘導体の収
率は非常に低い、又、ヴイルスマイヤーＶｉｌｓｍｅｉ
ｅｒ試薬を合成せずにジメチルホルムアミドと式（ｎ）
で示されるヒドラゾン誘導体の混合物中にホスゲンを吹
き込み反応させる方法は収率が低くなり好ましくない。
ムアミド、又は、不活性溶媒にジメチルホルムアミドを
溶解させた液に、撹拌下にホスゲンを吹き込み反応させ
て、いわゆるヴイルスマイヤーＶｉｌｓｍｅｉｅｒ試薬
を合成する。不活性溶媒を用いた場合は、過剰のホスゲ
ンを反応系外に除去した後攪拌下に式（ＩＩ）で示され
るヒドラゾン誘導体を滴下し反応させるのが望ましい、
用いた不活性溶媒の沸点が低い場合はヒドラゾン誘導体
との反応に長時間を要するので、好ましくは、反応系外
に低沸点の不活性溶媒を除去し、希釈剤としてジメチル
ホルムアミドを加えると反応時間が短縮出来る。ヴイル
スマイヤーＶｉｌｓｍｅｉｅｒ試薬としては種りのもの
が知られているが、ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、Ｎ−メチルホルムアニリドとオキシ塩化リンまたは
塩化チオニル等の組合せでは式（ｎ）で示されるヒドラ
ゾン誘導体との反応の目的物式（Ｉ）で示される１、３
−ジアルキルピラゾール−４−アルデ′ヒト誘導体の収
率は非常に低い、又、ヴイルスマイヤーＶｉｌｓｍｅｉ
ｅｒ試薬を合成せずにジメチルホルムアミドと式（ｎ）
で示されるヒドラゾン誘導体の混合物中にホスゲンを吹
き込み反応させる方法は収率が低くなり好ましくない。
反応は開放又は密閉された反応容器のどちらでも行い得
る。
る。
本発明に用いるジメチルホルムアミドの使用量は、不活
性溶媒を用いない場合は式（ＩＩ）で示されるヒドラゾ
ン誘導体１モルに対し１０〜３０モル、不活性溶媒を用
いる場合は１〜４モル、好ましくは１．６〜２．４モル
である。不活性溶媒の使用量は、ヒドラゾン誘導体の重
量に対し１０〜３０倍、好ましくは１５〜２５倍量であ
る。
性溶媒を用いない場合は式（ＩＩ）で示されるヒドラゾ
ン誘導体１モルに対し１０〜３０モル、不活性溶媒を用
いる場合は１〜４モル、好ましくは１．６〜２．４モル
である。不活性溶媒の使用量は、ヒドラゾン誘導体の重
量に対し１０〜３０倍、好ましくは１５〜２５倍量であ
る。
本発明に用いるホスゲンの使用量は、不活性溶媒を用い
ない場合はヒドラゾン誘導体１モルに対し１〜３モル、
好ましくは１．８〜２．２モルが望ましい、不活性溶媒
を用いる場合は１〜１０モル、好ましくは２．０〜４．
０モルである。ホスゲンの吹き込み温度は一１０°Ｃ−
１ｏｏ°Ｃ１好ましくはＯ″Ｃ〜５０℃である。ホスゲ
ン吹き込み後のホスゲンとジメチルホルムアミドとの反
応温度は０°Ｃ〜１００°Ｃ１好ましくはＯ″Ｃ〜５０
°Ｃである。
ない場合はヒドラゾン誘導体１モルに対し１〜３モル、
好ましくは１．８〜２．２モルが望ましい、不活性溶媒
を用いる場合は１〜１０モル、好ましくは２．０〜４．
０モルである。ホスゲンの吹き込み温度は一１０°Ｃ−
１ｏｏ°Ｃ１好ましくはＯ″Ｃ〜５０℃である。ホスゲ
ン吹き込み後のホスゲンとジメチルホルムアミドとの反
応温度は０°Ｃ〜１００°Ｃ１好ましくはＯ″Ｃ〜５０
°Ｃである。
本発明に用いるヒドラゾン誘導体は一１０℃〜５０℃、
好ましくは０°Ｃ〜１０°Ｃで滴下装入され、０℃〜１
００°Ｃ１好ましくは６０″Ｃ〜９０°Ｃでヴイルスマ
イヤー試薬と反応させる。
好ましくは０°Ｃ〜１０°Ｃで滴下装入され、０℃〜１
００°Ｃ１好ましくは６０″Ｃ〜９０°Ｃでヴイルスマ
イヤー試薬と反応させる。
本発明に用いる不活性溶媒としては、ジクロロベンゼン
、クロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、及びこれらの混
合物等が挙げられる。
、クロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、及びこれらの混
合物等が挙げられる。
反応終了後は、反応混合物を冷却した希アルカリ水溶液
中に加え、加水分解して１．３−ジアルキルピラゾール
−４−アルデヒドとし、ｙ留、又はカラムクロマトグラ
フィーによって容易に精製することが出来る。
中に加え、加水分解して１．３−ジアルキルピラゾール
−４−アルデヒドとし、ｙ留、又はカラムクロマトグラ
フィーによって容易に精製することが出来る。
以下に本発明に係る製造方法について実施例を挙げ具体
的に説明する。
的に説明する。
実施例１
不活性溶媒としてクロロホルム１２５ｄを用い、これに
ジメチルホルムアミド１４．６ ｇ （０，２モル）を
溶解させる。撹拌下この混合物にホスゲン３３．２ｇ（
０，３３５モル）を内温が５０℃を越えないように冷却
しながら吹き込んだ、混合物を５０°Ｃで１時間攪拌し
た後、窒素ガスを吹き込んで過剰のホスゲンを反応系外
に除去した０反応混合物を水浴にて５〜１０″Ｃに冷却
した後、アセトンメチルヒドラゾン８．６ｇ（０，１モ
ル）を内温が１０°Ｃを越えないように冷却下滴下した
０次に反応混合物を６０〜６５℃に加熱し軽沸点物を反
応系外に除去した後、ジメチルホルムアミド３８ｄを加
え８０°Ｃに加熱し、４〜５時間攪拌を続は反応を終了
した。反応物を室温迄冷却した後、氷４００ ｇと水酸
化ナトリウム５０ｇの混合物中に排出し、１時間攪拌を
行ない濃塩酸で中和した０反応物を塩析した後、酢酸エ
チルエステル２００ｄで３回抽出を行ない、有機層を合
わせて飽和食塩水で洗浄、忙硝で乾燥した後、減圧下に
蒸留を行ない軽沸点物を除去した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。ヘキサ
ン−酢酸エチル系より溶出し、所望の１．３−ジメチル
ピラゾール−４−アルデヒドを１２．２ ｇ得た。
ジメチルホルムアミド１４．６ ｇ （０，２モル）を
溶解させる。撹拌下この混合物にホスゲン３３．２ｇ（
０，３３５モル）を内温が５０℃を越えないように冷却
しながら吹き込んだ、混合物を５０°Ｃで１時間攪拌し
た後、窒素ガスを吹き込んで過剰のホスゲンを反応系外
に除去した０反応混合物を水浴にて５〜１０″Ｃに冷却
した後、アセトンメチルヒドラゾン８．６ｇ（０，１モ
ル）を内温が１０°Ｃを越えないように冷却下滴下した
０次に反応混合物を６０〜６５℃に加熱し軽沸点物を反
応系外に除去した後、ジメチルホルムアミド３８ｄを加
え８０°Ｃに加熱し、４〜５時間攪拌を続は反応を終了
した。反応物を室温迄冷却した後、氷４００ ｇと水酸
化ナトリウム５０ｇの混合物中に排出し、１時間攪拌を
行ない濃塩酸で中和した０反応物を塩析した後、酢酸エ
チルエステル２００ｄで３回抽出を行ない、有機層を合
わせて飽和食塩水で洗浄、忙硝で乾燥した後、減圧下に
蒸留を行ない軽沸点物を除去した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。ヘキサ
ン−酢酸エチル系より溶出し、所望の１．３−ジメチル
ピラゾール−４−アルデヒドを１２．２ ｇ得た。
収率９８．２％
ｎ＋、ｐ、 ４６．５〜４７．０°Ｃ
ＮＭＲδ”’ （ｐｐｍ）： ２．４５（３１，ｓ）
、３．９０（３）１．ｓ）、ＤＣ１３ ７，９４（ＩＨ，ｓ） 、９．８５ＣＬＨ，ｓ）元素分
析値 ＣＩ（Ｎ 計算値 ５８．０５ ６．４９ ２２．５６測定値
５８．０１ ６．５０ ２２．５２実施例２ 不活性溶媒としてクロロホルム６２．５ｄとジクロロメ
タン６２．５ｄの混合物を用い、実施例１に記載した方
法に準じて反応した結果、所望の１．３−ジメチルピラ
ゾール−４−アルデヒド１１．８ ｇを得た。
、３．９０（３）１．ｓ）、ＤＣ１３ ７，９４（ＩＨ，ｓ） 、９．８５ＣＬＨ，ｓ）元素分
析値 ＣＩ（Ｎ 計算値 ５８．０５ ６．４９ ２２．５６測定値
５８．０１ ６．５０ ２２．５２実施例２ 不活性溶媒としてクロロホルム６２．５ｄとジクロロメ
タン６２．５ｄの混合物を用い、実施例１に記載した方
法に準じて反応した結果、所望の１．３−ジメチルピラ
ゾール−４−アルデヒド１１．８ ｇを得た。
収率９５．２％
実施例３
不活性溶媒としてジクロロメタン１２５ｍｆｆ１を用い
、実施例１に記載した方法に準じて反応した結果、所望
の１．３−ジメチルピラゾール−４−アルデヒド１１．
２ ｇを得た。収率９０．５％実施例４ ジメチルホルムアミド１４６．２ ｇ （２，０モル）
中に、撹拌下にホスゲン１９．８ ｇ （０，２モル）
を内温が５０°Ｃを越えないように吹き込んだ、５０°
Ｃで１時間攪拌した後、窒素ガスを吹き込んで未反応ホ
スゲンを反応系外に除去した。反応混合物を水浴にて５
〜１０°Ｃに冷却した後、アセトンメチルヒドラゾン８
．６ ｇ （０，１モル）を内温か１０″Ｃを越えない
ように滴下した０次に反応混合物を８０℃に加熱し４〜
５時間攪拌を続は反応を終了した０反応物を室温迄冷却
した後、氷２００ｇと水酸化ナトリウム３２ｇの混合物
中に排出し、１時間攪拌を行ない濃塩酸で中和した０反
応物を塩析した後、酢酸エチルエステル２００ｄで３回
抽出を行ない、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄、忙
硝で乾燥した後、減圧下に蒸留を行ない軽沸点物を除去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製した。ヘキサン−酢酸エチル系より溶出し
、所望の１．３−ジメチルピラゾール−４−アルデヒド
１１．７ｇを得た。
、実施例１に記載した方法に準じて反応した結果、所望
の１．３−ジメチルピラゾール−４−アルデヒド１１．
２ ｇを得た。収率９０．５％実施例４ ジメチルホルムアミド１４６．２ ｇ （２，０モル）
中に、撹拌下にホスゲン１９．８ ｇ （０，２モル）
を内温が５０°Ｃを越えないように吹き込んだ、５０°
Ｃで１時間攪拌した後、窒素ガスを吹き込んで未反応ホ
スゲンを反応系外に除去した。反応混合物を水浴にて５
〜１０°Ｃに冷却した後、アセトンメチルヒドラゾン８
．６ ｇ （０，１モル）を内温か１０″Ｃを越えない
ように滴下した０次に反応混合物を８０℃に加熱し４〜
５時間攪拌を続は反応を終了した０反応物を室温迄冷却
した後、氷２００ｇと水酸化ナトリウム３２ｇの混合物
中に排出し、１時間攪拌を行ない濃塩酸で中和した０反
応物を塩析した後、酢酸エチルエステル２００ｄで３回
抽出を行ない、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄、忙
硝で乾燥した後、減圧下に蒸留を行ない軽沸点物を除去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製した。ヘキサン−酢酸エチル系より溶出し
、所望の１．３−ジメチルピラゾール−４−アルデヒド
１１．７ｇを得た。
収率９４．３％
参考例１
ジメチルホルムアミド２４．１ｇ （０，３３モル）の
中に、攪拌上塩化チオニル２３．８ ｇ （０，２モル
）を内温か５０°Ｃ以上にならないように徐々に滴下し
た。反応物を１００〜１１０℃に加熱し１時間攪拌した
０反応物を水浴にて５〜１０°Ｃに冷却した後、攪拌下
アセトンメチルヒドラゾン８．６ ｇ （０，１モル）
を内温が１０°Ｃ以上にならないように徐々に滴下した
。次に水浴をはずし、反応混合物を８０″Ｃに加熱して
４〜５時間攪拌を続は反応を終了した。反応物を氷２０
０ｇと苛性ソーダ３２ｇの混合物に注入し、０．５〜１
時間攪拌し濃塩酸で中和した。反応物を塩析した後、酢
酸エチルエステル１００１ｄで３回抽出し、有機層を合
わせて飽和食塩水で洗浄し、次いで忙硝で乾燥した後、
減圧上蒸留して溶媒を除去した。
中に、攪拌上塩化チオニル２３．８ ｇ （０，２モル
）を内温か５０°Ｃ以上にならないように徐々に滴下し
た。反応物を１００〜１１０℃に加熱し１時間攪拌した
０反応物を水浴にて５〜１０°Ｃに冷却した後、攪拌下
アセトンメチルヒドラゾン８．６ ｇ （０，１モル）
を内温が１０°Ｃ以上にならないように徐々に滴下した
。次に水浴をはずし、反応混合物を８０″Ｃに加熱して
４〜５時間攪拌を続は反応を終了した。反応物を氷２０
０ｇと苛性ソーダ３２ｇの混合物に注入し、０．５〜１
時間攪拌し濃塩酸で中和した。反応物を塩析した後、酢
酸エチルエステル１００１ｄで３回抽出し、有機層を合
わせて飽和食塩水で洗浄し、次いで忙硝で乾燥した後、
減圧上蒸留して溶媒を除去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した
。ヘキサン−酢酸エチル系で溶出し、所望の１．３−ジ
メチルピラゾール−４−アルデヒドを０．８７ｇ得た。
。ヘキサン−酢酸エチル系で溶出し、所望の１．３−ジ
メチルピラゾール−４−アルデヒドを０．８７ｇ得た。
収率７．０％
参考例２
Ｎ−メチルホルムアニリド４４．６ｇ （０，３３モル
）の中に攪拌下オキシ塩化リン３０．６ ｇ （０，２
モル）を内温が４０°Ｃを越えないように徐々に滴下し
た０反応混合物を４０〜５０°Ｃで１時間攪拌した後、
水浴にて０〜５℃に冷却した０次に攪拌下にアセトンメ
チルヒドラゾン８．６ ｇ （０，１モル）を内温が１
０℃以上にならないように徐々に滴下した０滴下終了後
水浴をはずし、反応混合物を４０°Ｃに加熱し５時間攪
拌を続は反応を終了した０反応物を氷２００ｇと水酸化
ナトリウム３２ｇの混合物に排出し１時間攪拌し、濃塩
酸で中和した０反応物を塩析した後、酢酸エチルエステ
ル１０．０ ｍｌで３回抽出し、有機層を合わせて飽和
食塩水で洗浄し、次いで忙硝で乾燥した後、減圧上蒸留
して溶媒を除去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製した。ヘキサン−酢酸エチル系で溶出
し、所望の１゜３−ジメチルピラゾール−４−アルデヒ
ド１．３ｇを得た。 収率１０．５％ 参考例３ アセトンメチルヒドラゾンの合成 アセトン２３２ｇを水浴で冷却し、窒素ガスで反応系内
を置換した後、攪拌下にメチルヒドラゾン４６ ｇ （
１，０モル）を内温か１０℃を越えないように徐々に滴
下した０次に水浴を除き、室温で５〜６時間撹拌した後
、−夜装置し反応を終了した０反応物を減圧下に濃縮し
、軽沸点物を留去した。得られた油状物を減圧下に蒸留
し所望のアセトンメチルヒドラゾン８４．７ ｇを得た
。収率９８．５％油状 ＮＭＲδ”Ｓ（ｐｐｍ）：１．７５（３８，ｓ）、１．
９３（３Ｈ，ｓ）、ＤＣＩ ｘ ２．８８（３Ｈ，ｓ）、４．２〜４．４（ＬＨ，ｍ）以
下同様に一般式（ｎ）で表されるヒドラゾン誘導体は参
考例３に準じて合成できる。
）の中に攪拌下オキシ塩化リン３０．６ ｇ （０，２
モル）を内温が４０°Ｃを越えないように徐々に滴下し
た０反応混合物を４０〜５０°Ｃで１時間攪拌した後、
水浴にて０〜５℃に冷却した０次に攪拌下にアセトンメ
チルヒドラゾン８．６ ｇ （０，１モル）を内温が１
０℃以上にならないように徐々に滴下した０滴下終了後
水浴をはずし、反応混合物を４０°Ｃに加熱し５時間攪
拌を続は反応を終了した０反応物を氷２００ｇと水酸化
ナトリウム３２ｇの混合物に排出し１時間攪拌し、濃塩
酸で中和した０反応物を塩析した後、酢酸エチルエステ
ル１０．０ ｍｌで３回抽出し、有機層を合わせて飽和
食塩水で洗浄し、次いで忙硝で乾燥した後、減圧上蒸留
して溶媒を除去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製した。ヘキサン−酢酸エチル系で溶出
し、所望の１゜３−ジメチルピラゾール−４−アルデヒ
ド１．３ｇを得た。 収率１０．５％ 参考例３ アセトンメチルヒドラゾンの合成 アセトン２３２ｇを水浴で冷却し、窒素ガスで反応系内
を置換した後、攪拌下にメチルヒドラゾン４６ ｇ （
１，０モル）を内温か１０℃を越えないように徐々に滴
下した０次に水浴を除き、室温で５〜６時間撹拌した後
、−夜装置し反応を終了した０反応物を減圧下に濃縮し
、軽沸点物を留去した。得られた油状物を減圧下に蒸留
し所望のアセトンメチルヒドラゾン８４．７ ｇを得た
。収率９８．５％油状 ＮＭＲδ”Ｓ（ｐｐｍ）：１．７５（３８，ｓ）、１．
９３（３Ｈ，ｓ）、ＤＣＩ ｘ ２．８８（３Ｈ，ｓ）、４．２〜４．４（ＬＨ，ｍ）以
下同様に一般式（ｎ）で表されるヒドラゾン誘導体は参
考例３に準じて合成できる。
本発明に係る１、３−ジアルキルピラゾール−４−アル
デヒド誘導体の製造方法は、反応工程が長く、収率が低
いという従来法の欠点を克服し、反応工程が短かく、し
かも高い収率で目的物を合成することを可能とした。
デヒド誘導体の製造方法は、反応工程が長く、収率が低
いという従来法の欠点を克服し、反応工程が短かく、し
かも高い収率で目的物を合成することを可能とした。
また、本発明に係る製造方法によって製造される１、３
−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド誘導体は、疫
病、べと病用殺菌剤として優れた性質を有するピラゾー
ル誘導体の重要な製造中間体であり、本発明に係る製造
方法は農産業上有用である。
−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド誘導体は、疫
病、べと病用殺菌剤として優れた性質を有するピラゾー
ル誘導体の重要な製造中間体であり、本発明に係る製造
方法は農産業上有用である。
Claims (4)
- （１）ジメチルホルムアミドにホスゲンを反応させた後
、式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ低級アルキル基を
示す） で示されるヒドラゾン誘導体を反応させることを特徴と
する式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ前記の意味を示す
）で示される１，３−ジアルキルピラゾール−４−アル
デヒド誘導体の製造方法。 - （２）過剰のジメチルホルムアミド又は不活性溶媒中で
反応させることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の製造方法。 - （３）不活性溶媒としてハロゲン化炭化水素を用いるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の製造方法。 - （４）ハロゲン化炭化水素がクロロホルムまたはジクロ
ロメタンまたはそれらの混合物であることを特徴とする
特許請求の範囲第３項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32720787A JPH0759557B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | １，３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32720787A JPH0759557B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | １，３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01168672A true JPH01168672A (ja) | 1989-07-04 |
| JPH0759557B2 JPH0759557B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=18196509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32720787A Expired - Fee Related JPH0759557B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | １，３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0759557B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101796021A (zh) * | 2007-06-27 | 2010-08-04 | 先正达参股股份有限公司 | 制备吡唑的方法 |
| CN113968819A (zh) * | 2021-11-15 | 2022-01-25 | 成都普赛唯新生物科技有限公司 | 一种多取代吡唑类化合物的合成方法 |
-
1987
- 1987-12-25 JP JP32720787A patent/JPH0759557B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101796021A (zh) * | 2007-06-27 | 2010-08-04 | 先正达参股股份有限公司 | 制备吡唑的方法 |
| JP2010531314A (ja) * | 2007-06-27 | 2010-09-24 | シンジェンタ パーティシペーションズ アクチェンゲゼルシャフト | ピラゾールの調製方法 |
| CN113968819A (zh) * | 2021-11-15 | 2022-01-25 | 成都普赛唯新生物科技有限公司 | 一种多取代吡唑类化合物的合成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0759557B2 (ja) | 1995-06-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3478830B2 (ja) | ピラゾール誘導体 | |
| JPH01168672A (ja) | １，３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド誘導体の製造方法 | |
| JPH01168673A (ja) | １，３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド類の製造法 | |
| JPH01168674A (ja) | １．３−ジアルキルピラゾール−４−カルボン酸誘導体の製造方法 | |
| JPS61249968A (ja) | ５−ヒドラジノ−１ｈ−ピラゾ−ル系化合物 | |
| US4532363A (en) | Phenylbutyraldehydes | |
| JPH0759562B2 (ja) | １，３−ジアルキルピラゾール−５−カルボン酸エステル類の製造法 | |
| CN107857729B (zh) | 一种4-碘化-n-芳基化的吡唑类化合物的合成方法 | |
| JPH06199805A (ja) | ３−（置換フェニル）ピラゾール誘導体の製造方法 | |
| JP3066594B2 (ja) | アニリン誘導体及びその製造法 | |
| JP3646224B2 (ja) | ベンゾイルアセトニトリル誘導体の製造方法 | |
| JPS62153278A (ja) | ４−アシルイソオキサゾ−ル誘導体の製造法 | |
| JP3646225B2 (ja) | 芳香族エステル誘導体及びその中間体並びにそれらの製造方法 | |
| JP4075342B2 (ja) | ４，５−ジ置換−１，２，３−トリアゾールの製造方法 | |
| JPH09124610A (ja) | １，２−ジホルミルヘキサヒドロピリダジン、その製造法およびヘキサヒドロピリダジンの製造法 | |
| JPH06228103A (ja) | 新規なオクタヒドロアクリジン誘導体とその製造方法 | |
| SU1299504A3 (ru) | Способ получени производных 3-хлор-1-формил-4-фенилпирролов | |
| JPH07133271A (ja) | ベンズアルデヒド誘導体及びそれを中間体とするクロマンカルボン酸誘導体の製法 | |
| JPS60139672A (ja) | アミド誘導体の製造法 | |
| JP4013772B2 (ja) | ２−ヒドロキシイミノ−３−オキソプロピオニトリル及びその製法 | |
| JPS6248667A (ja) | チオカルバメ−ト誘導体の製造法 | |
| JP3864763B2 (ja) | ３−ハロ−２−ヒドラゾノ−１−ヒドロキシイミノプロパン誘導体及びその製造法 | |
| NO144887B (no) | Fremgangsmaate for fremstilling av 1-(tetrahydro-2-furyl)-5-fluoruracil, av 1,3-bis-(tetrahydro-2-furyl)-5-fluor-uracil eller av en blanding av disse | |
| JPH0812658A (ja) | シドノン類の製造法 | |
| JPS6277371A (ja) | 含フツ素ピラゾ−ル誘導体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |