JPS61249968A - 5−ヒドラジノ−1h−ピラゾ−ル系化合物 - Google Patents
5−ヒドラジノ−1h−ピラゾ−ル系化合物Info
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- JPS61249968A JPS61249968A JP9148985A JP9148985A JPS61249968A JP S61249968 A JPS61249968 A JP S61249968A JP 9148985 A JP9148985 A JP 9148985A JP 9148985 A JP9148985 A JP 9148985A JP S61249968 A JPS61249968 A JP S61249968A
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract description 19
- ZOHGOQJROHLKIB-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazol-5-ylhydrazine Chemical compound NNC=1C=CNN=1 ZOHGOQJROHLKIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 5
- -1 Pyrazole compound Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 6
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 6
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 6
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 abstract description 3
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- FWPIDFUJEMBDLS-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride dihydrate Chemical compound O.O.Cl[Sn]Cl FWPIDFUJEMBDLS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- ZHBXGHWSVIBUCQ-UHFFFAOYSA-N 5-tert-butyl-1h-pyrazol-3-amine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(N)=NN1 ZHBXGHWSVIBUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N odevixibat Chemical compound C12=CC(SC)=C(OCC(=O)N[C@@H](C(=O)N[C@@H](CC)C(O)=O)C=3C=CC(O)=CC=3)C=C2S(=O)(=O)NC(CCCC)(CCCC)CN1C1=CC=CC=C1 XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 2
- QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N (3s)-n-[(3s,5s,6r)-6-methyl-2-oxo-1-(2,2,2-trifluoroethyl)-5-(2,3,6-trifluorophenyl)piperidin-3-yl]-2-oxospiro[1h-pyrrolo[2,3-b]pyridine-3,6'-5,7-dihydrocyclopenta[b]pyridine]-3'-carboxamide Chemical compound C1([C@H]2[C@H](N(C(=O)[C@@H](NC(=O)C=3C=C4C[C@]5(CC4=NC=3)C3=CC=CN=C3NC5=O)C2)CC(F)(F)F)C)=C(F)C=CC(F)=C1F QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N 0.000 description 1
- DQXKOHDUMJLXKH-PHEQNACWSA-N (e)-n-[2-[2-[[(e)-oct-2-enoyl]amino]ethyldisulfanyl]ethyl]oct-2-enamide Chemical compound CCCCC\C=C\C(=O)NCCSSCCNC(=O)\C=C\CCCCC DQXKOHDUMJLXKH-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound O=C1CC=NN1 ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1h-triazole Chemical class N1NC=CN1 SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical compound NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-M hydrosulfide Chemical compound [SH-] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000013332 literature search Methods 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- AYOOGWWGECJQPI-NSHDSACASA-N n-[(1s)-1-(5-fluoropyrimidin-2-yl)ethyl]-3-(3-propan-2-yloxy-1h-pyrazol-5-yl)imidazo[4,5-b]pyridin-5-amine Chemical compound N1C(OC(C)C)=CC(N2C3=NC(N[C@@H](C)C=4N=CC(F)=CN=4)=CC=C3N=C2)=N1 AYOOGWWGECJQPI-NSHDSACASA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- REEZZSHJLXOIHL-UHFFFAOYSA-N octanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCC(Cl)=O REEZZSHJLXOIHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は新規な5−ヒドラジノー1H−ピラゾール系化
合物に関し、更に詳しくは写真用カプラーの中間体とし
て有用な5−ヒドラジノーIH−ピラゾール系化合物に
関するものである。
合物に関し、更に詳しくは写真用カプラーの中間体とし
て有用な5−ヒドラジノーIH−ピラゾール系化合物に
関するものである。
[従来技術]
IH−ピラゾロ[3,2−a ] −1,2,4−トリ
アゾール系化合物は写真用カプラー、特にマゼンタカプ
ラーとして有用な化合物で、例えば英国特許1,252
,418号、米国特許3,725,067号、ジャーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイアテイ、パーキンii
l (JourzLal of the Chemi
ca13oo1ety 、 Perkin Trans
aotions I) 、 1977年。
アゾール系化合物は写真用カプラー、特にマゼンタカプ
ラーとして有用な化合物で、例えば英国特許1,252
,418号、米国特許3,725,067号、ジャーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイアテイ、パーキンii
l (JourzLal of the Chemi
ca13oo1ety 、 Perkin Trans
aotions I) 、 1977年。
2047〜2052頁にその重要性が記述されている。
この化合物の製造方法については、上記特許、文献およ
びリサーチ・ディスクロジャー(R55earohDi
soLosure ) 、 124巻1項目12443
(1974年]等に記載されている。それらの製造方
法は以下に示す反応スキームで代表できる。
びリサーチ・ディスクロジャー(R55earohDi
soLosure ) 、 124巻1項目12443
(1974年]等に記載されている。それらの製造方
法は以下に示す反応スキームで代表できる。
反応スキームA(英国特許、米国特許、 J、 0he
z Boo、 )反応スキームB (Re5earch
Disclosure )反応スキームから明らかな
如く、5−ヒドラジノーIH−ピラゾール−4−カルボ
キシレートあるいは3−メルカプト−4−アミノ−4H
−12,4−)IJ7ゾールが重要な中間体として用い
られるが、これらの工程は大きな欠点を有している。要
約すると、 ■工程(a)および(r)にみられる硫黄の生成。
z Boo、 )反応スキームB (Re5earch
Disclosure )反応スキームから明らかな
如く、5−ヒドラジノーIH−ピラゾール−4−カルボ
キシレートあるいは3−メルカプト−4−アミノ−4H
−12,4−)IJ7ゾールが重要な中間体として用い
られるが、これらの工程は大きな欠点を有している。要
約すると、 ■工程(a)および(r)にみられる硫黄の生成。
■工程(屯]および(りにおける大量の硫酸使用と、そ
れに伴なう中和処理および生成する硫酸ナトリウムの処
分。
れに伴なう中和処理および生成する硫酸ナトリウムの処
分。
■工程(f)での250℃という高温。
■工程(&)における適用範囲の狭さと低収率。
いずれもが工業化を阻むものであるが、特に■の適用範
囲の狭さと低収率は有用な写真用カプラーの開発を不可
能ならしめる最大因子である。
囲の狭さと低収率は有用な写真用カプラーの開発を不可
能ならしめる最大因子である。
[発明の目的]
本発明の目的は5−ヒドラジノー1H−ピラゾール系化
合物を提供することにあり、更に詳しくは写真用カプラ
ーの中間体として有用な5−ヒト”7ジ/−IH−ピラ
ゾール系化合物を提供することにある。
合物を提供することにあり、更に詳しくは写真用カプラ
ーの中間体として有用な5−ヒト”7ジ/−IH−ピラ
ゾール系化合物を提供することにある。
[発明の構成コ
下記一般式[Iコで表される5−ヒドラジノー1H−ピ
ラゾール系化合物は、優れた写真用力ダラーを広範囲に
かつ高収率で製造できる中間体として有用である。
ラゾール系化合物は、優れた写真用力ダラーを広範囲に
かつ高収率で製造できる中間体として有用である。
式中、R1は炭素原子数3〜3oの2級または3級アル
キル基または炭素原子数3〜12のシクロアルキル基を
表し、Xは水素原子またはハロゲン原子を表す。Aはプ
ロトン酸を表しnは0または正数を表す。
キル基または炭素原子数3〜12のシクロアルキル基を
表し、Xは水素原子またはハロゲン原子を表す。Aはプ
ロトン酸を表しnは0または正数を表す。
以下、より具体的に本発明を説明する。
一般式[’I ]においてR1で表される炭素原子数3
〜Iの2Rまたは3riiアルキル基は置換されてもよ
く、具体的にはイソプロピル基、t−ブチル基、l−エ
チルペンチル基、β−ドテシルスルホニル−α、α−ジ
メチルエチル基、r−)’7’シルスルホニルーα、α
−ジメチルプロピル基、r−ドデシルスルホニル−α−
メチルグロビル基等カ挙ケられる。
〜Iの2Rまたは3riiアルキル基は置換されてもよ
く、具体的にはイソプロピル基、t−ブチル基、l−エ
チルペンチル基、β−ドテシルスルホニル−α、α−ジ
メチルエチル基、r−)’7’シルスルホニルーα、α
−ジメチルプロピル基、r−ドデシルスルホニル−α−
メチルグロビル基等カ挙ケられる。
Ft、テ表すレる炭素原子数3〜12のシクロアルキル
基としては、例えばシクロプロピル基、シクロ 。
基としては、例えばシクロプロピル基、シクロ 。
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロドデシル基等を
挙げることができる。
挙げることができる。
一般式[IコにおいてXで表されるハロゲン原子として
は、例えば塩素原子、臭素原子、沃素原子、弗素原子が
挙げられるが、塩素原子、臭素原子が好ましく、より好
ましくは塩素原子である。
は、例えば塩素原子、臭素原子、沃素原子、弗素原子が
挙げられるが、塩素原子、臭素原子が好ましく、より好
ましくは塩素原子である。
一般式[I]はプロトン酸により形成された塩も。
包含するが、これは本発明の重要構成要素ではなく広範
囲の有機酸、無機酸が用いられる。代表的なものとして
、塩酸、臭化水素酸、硫酸、酢酸、メタンスルホン酸、
ピロメリティック酸等を挙ケることができる。
囲の有機酸、無機酸が用いられる。代表的なものとして
、塩酸、臭化水素酸、硫酸、酢酸、メタンスルホン酸、
ピロメリティック酸等を挙ケることができる。
本発明の5−ヒドラジノーIH−ピラゾール系化合物は
対応する5−アミノ−IH−ビラシー′系化合物を通常
の方法でジアゾ化し次いで還元することにより得られる
。例えばオーガニック・シンセシス・合冊(Organ
io 5yntheses OolleotiveVo
lume ) 、 I巻、442頁、またジャーナル・
オブ・ザ・ケミカル・ソサイアティ(Journal
ofthe Ohsmioal 5ooisty )
、 1971年、167頁に記載されている方法で合成
できる。
対応する5−アミノ−IH−ビラシー′系化合物を通常
の方法でジアゾ化し次いで還元することにより得られる
。例えばオーガニック・シンセシス・合冊(Organ
io 5yntheses OolleotiveVo
lume ) 、 I巻、442頁、またジャーナル・
オブ・ザ・ケミカル・ソサイアティ(Journal
ofthe Ohsmioal 5ooisty )
、 1971年、167頁に記載されている方法で合成
できる。
ジアゾ化剤としては亜硝酸す) IJウムが一般的に用
いられる。
いられる。
還元剤としては亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイ
ド、亜鉛、錫などが用いられる。その他、パラジウム炭
素触媒を用いての還元を行うこともできる。
ド、亜鉛、錫などが用いられる。その他、パラジウム炭
素触媒を用いての還元を行うこともできる。
反応に用いられる溶剤としては水が好ましいが、有機溶
剤を用いることも可能であり、例えば水と相溶性の浴剤
としてアルコール@(メタノール、エタノール等J1テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、N、N−ジメチルホル
ム了ミド等を挙げることができる。用いられる溶剤の敏
は出発原料のアミノトリアゾール1重量部当り1〜10
00重量部、好ましくは5〜100重量部の割合である
。
剤を用いることも可能であり、例えば水と相溶性の浴剤
としてアルコール@(メタノール、エタノール等J1テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、N、N−ジメチルホル
ム了ミド等を挙げることができる。用いられる溶剤の敏
は出発原料のアミノトリアゾール1重量部当り1〜10
00重量部、好ましくは5〜100重量部の割合である
。
ジアゾ化に用いられる酸としては塩酸、硫酸などが好ま
しい。
しい。
次に本発明の化合物の代表的具体例を以下に示すが、本
発明はこれによって限定されない。
発明はこれによって限定されない。
Ha
■
CH。
I
■ −12。
−NH
I =13
従来の製造法では、本発明の化合物に相当する5−ヒド
ラジノーIH−ピラゾール−4−カルボキシレートの3
位がメチル基の場合でも収率が5%程度と低く、このメ
チル基を2級アルキル基(イソプロピル基、イソブチル
基等)にすると収率が更に低下し、3級アルキル基(t
−ブチル基、t−ペンチル基等)では実質的に合成する
ことができない。
ラジノーIH−ピラゾール−4−カルボキシレートの3
位がメチル基の場合でも収率が5%程度と低く、このメ
チル基を2級アルキル基(イソプロピル基、イソブチル
基等)にすると収率が更に低下し、3級アルキル基(t
−ブチル基、t−ペンチル基等)では実質的に合成する
ことができない。
本発明の5−ヒドラジノーIH−ピラゾール系化合物よ
り写真用マゼンタカプラーIH−ピラゾロ[3,2−C
コー1.2.4−トリアゾール系化合物に至る合成経路
は次の如くである。
り写真用マゼンタカプラーIH−ピラゾロ[3,2−C
コー1.2.4−トリアゾール系化合物に至る合成経路
は次の如くである。
上記経路中、FLI、X、Aおよびnは一般式[I]で
説明したR1、X、Aおよびnと同義であり、R。
説明したR1、X、Aおよびnと同義であり、R。
はアルキル基を表し、Yは塩素原子またはヒドロキシ基
を表す。
を表す。
このようにして得られるIH−ピラゾロ[3゜2−Cコ
ー1.2.4−)リアゾール系化合物は、カラー写真感
光材料に用いられるマゼンタカプラーとして従来最も多
く使用されてきた5−ピラゾロン系カプラーにみられる
430 nm近辺の2次吸収がない、或いは長波長部の
切れがシャープな点で近年注目されているカプラーであ
る。
ー1.2.4−)リアゾール系化合物は、カラー写真感
光材料に用いられるマゼンタカプラーとして従来最も多
く使用されてきた5−ピラゾロン系カプラーにみられる
430 nm近辺の2次吸収がない、或いは長波長部の
切れがシャープな点で近年注目されているカプラーであ
る。
本発明の化合物より誘導される6位に2級または3級ア
ルキル基もしくはシクロアルキル基を有するIH−ピラ
ゾロ[3,2−C]−1,2,4−トリアゾール系カプ
ラーは、特に耐光性に優れたマゼンタ色素を形成する有
用な写真用カプラーである。これらのカプラーを従来の
製造法により合成しようとしても、非常圧低収率である
か或いは全然得られず工業化はできない。
ルキル基もしくはシクロアルキル基を有するIH−ピラ
ゾロ[3,2−C]−1,2,4−トリアゾール系カプ
ラーは、特に耐光性に優れたマゼンタ色素を形成する有
用な写真用カプラーである。これらのカプラーを従来の
製造法により合成しようとしても、非常圧低収率である
か或いは全然得られず工業化はできない。
次に本発明の5−ヒドラジノーIH−ピラゾール系化合
物より誘導されるIH−ピラゾロ[3゜2−C]−1,
2,4−トリアゾール系化合物の代表的具体例を以下に
示す。
物より誘導されるIH−ピラゾロ[3゜2−C]−1,
2,4−トリアゾール系化合物の代表的具体例を以下に
示す。
H3
QC,R1チ
H3
[実施例]
以下、本発明の化合物の合成Sよび本発明の化合物から
誘導される写真用カプラーの合成について具体例を挙げ
て説明する。
誘導される写真用カプラーの合成について具体例を挙げ
て説明する。
合成例−1(例示化合物I−4の合成)13.91iの
5−アミノ−3−t−ブチル−IH−ピラゾールを15
0mJのクロロホルムに溶解する。
5−アミノ−3−t−ブチル−IH−ピラゾールを15
0mJのクロロホルムに溶解する。
13.31iのN−クロロコハク酸イミドな0〜5℃で
添加した後(支)分反応させる。反応液は50dの5%
炭酸水素す) +3ウム水溶液で洗浄、次いで水で洗浄
し硫酸マグネシウムで乾燥する。クロロホルムを40℃
以下で減圧留去し、残渣に100 mlの6N塩酸を加
え一5〜θ℃で7gの亜硝酸す) IJウムを含む水溶
液20gを滴下する。(至)分径、更に50Iiの塩化
第1錫・2水塩を3514の濃塩酸に溶解した溶液を一
5〜0℃で滴下する。−5〜θ℃で(資)分攪拌し析出
した結晶を濾取、濃塩酸で次いでアセトニトリルで洗浄
する。自然乾燥にJ:’)13・2g(58,7%)の
3−t−ブチル−4−クロロ−5−ヒドラジノーIH−
ピラゾール・塩酸塩を得た。
添加した後(支)分反応させる。反応液は50dの5%
炭酸水素す) +3ウム水溶液で洗浄、次いで水で洗浄
し硫酸マグネシウムで乾燥する。クロロホルムを40℃
以下で減圧留去し、残渣に100 mlの6N塩酸を加
え一5〜θ℃で7gの亜硝酸す) IJウムを含む水溶
液20gを滴下する。(至)分径、更に50Iiの塩化
第1錫・2水塩を3514の濃塩酸に溶解した溶液を一
5〜0℃で滴下する。−5〜θ℃で(資)分攪拌し析出
した結晶を濾取、濃塩酸で次いでアセトニトリルで洗浄
する。自然乾燥にJ:’)13・2g(58,7%)の
3−t−ブチル−4−クロロ−5−ヒドラジノーIH−
ピラゾール・塩酸塩を得た。
融点165℃(分解)
CフH1,CJN4・HClとしての元素分析値計算値
(憎C:37.34 H:6.27 C131,50N
:24.89実測値(憎C:37.30 ■:6.21
CI:31.48 N:24.95FDマススペクト
ルが188を示し、この化合物が目的とするI−4の構
造を有することを支持した。
(憎C:37.34 H:6.27 C131,50N
:24.89実測値(憎C:37.30 ■:6.21
CI:31.48 N:24.95FDマススペクト
ルが188を示し、この化合物が目的とするI−4の構
造を有することを支持した。
合成例−2(例示化合物I−3の合成)13.9gの5
−アミノ−3−t−ブチル−Iff−ピラゾールを10
0−の6N塩酸に溶解し、−5〜0℃で7Iの亜硝酸ナ
トリウムを含む水溶液題Iを滴下する。加分後、更に5
0gの塩化第1錫・2水塩を351の濃塩酸、に溶解し
た溶液を一5〜θ℃で滴下する。その後、同温度で田分
攪拌し101の食塩を加え析出した結晶な濾取、濃塩酸
で次いでアセトニトリルで洗浄する。自然乾燥により8
.0 g(44,4%)の3−t−ブチル−5−ヒドラ
ジノーIH−ピラゾール・塩酸塩を得た。 融点220
℃(分解) C,H,、N、・■C/としての元素分析値計算値開C
:44.09 Hニア、93 CJ:18.60 N:
29.3B実測値(%C:44,01 Hニア、88
CI:18.62 N:29.44FDマススペクトル
が154を示し、上記の構造を支持した。
−アミノ−3−t−ブチル−Iff−ピラゾールを10
0−の6N塩酸に溶解し、−5〜0℃で7Iの亜硝酸ナ
トリウムを含む水溶液題Iを滴下する。加分後、更に5
0gの塩化第1錫・2水塩を351の濃塩酸、に溶解し
た溶液を一5〜θ℃で滴下する。その後、同温度で田分
攪拌し101の食塩を加え析出した結晶な濾取、濃塩酸
で次いでアセトニトリルで洗浄する。自然乾燥により8
.0 g(44,4%)の3−t−ブチル−5−ヒドラ
ジノーIH−ピラゾール・塩酸塩を得た。 融点220
℃(分解) C,H,、N、・■C/としての元素分析値計算値開C
:44.09 Hニア、93 CJ:18.60 N:
29.3B実測値(%C:44,01 Hニア、88
CI:18.62 N:29.44FDマススペクトル
が154を示し、上記の構造を支持した。
合成例−3(例示化合物I−2の合成)合成例−1の1
3.9gの5−アミノ−3−t−ブチル−IH−ピラゾ
ールを12.59のIH−5−アミノ−3−インプロピ
ルピラゾールltiた以外は合成例−1と全く同様の操
作により3−イソプロピル−4−クロロ−5−ヒドラジ
ノーIH−ピラゾール・塩酸塩9.5.9 (45,0
%)を得た。
3.9gの5−アミノ−3−t−ブチル−IH−ピラゾ
ールを12.59のIH−5−アミノ−3−インプロピ
ルピラゾールltiた以外は合成例−1と全く同様の操
作により3−イソプロピル−4−クロロ−5−ヒドラジ
ノーIH−ピラゾール・塩酸塩9.5.9 (45,0
%)を得た。
融点158℃(分解)
CIHttCINも・H(Jとしての元素分析値計算値
(へ)C:34.13 H:5.7301:33.59
N:26.54実測値%) C:34.19 H:5
.67 Cl:33.61 N:26.47FDマスス
ペクトル値は174を示した。
(へ)C:34.13 H:5.7301:33.59
N:26.54実測値%) C:34.19 H:5
.67 Cl:33.61 N:26.47FDマスス
ペクトル値は174を示した。
合成例−4(例示化合物I−1の合成)12.5.ji
lの5−アミノ−3−イングロビルーIH−ピラゾール
を40Mの6N塩酸に溶解(一部懸濁)L、−s〜θ℃
で7gの亜硝酸ナトリウムを含む水溶液20!iを滴下
する。加分後、44gの亜硫酸ナトリウムを含む水溶液
180gを水冷下に加えた後、内温80℃以下で減圧濃
縮する。、 120mの水を留去した処で濃縮を止め6
0 atの濃塩酸を加え5時間還流する。冷却により析
出した結晶を濾取、濃塩酸で次いでアセトニトリルで洗
浄する。自然乾燥により5.59 (31,1%)の3
−イソプロピル−5−ヒドラジノーIH−ピラゾール・
塩酸塩を得た。 融点208℃(分解) C@H1NN4・HCIとしての元素分析値針XtEe
%J C:40.79 Hニア、42 Cl2O,07
N:31.72実測値(’74 C:40.72 Hニ
ア、39 (J:20.05 N:31.79FDマス
スペクトルが140を示し、上記の構造を支持した。
lの5−アミノ−3−イングロビルーIH−ピラゾール
を40Mの6N塩酸に溶解(一部懸濁)L、−s〜θ℃
で7gの亜硝酸ナトリウムを含む水溶液20!iを滴下
する。加分後、44gの亜硫酸ナトリウムを含む水溶液
180gを水冷下に加えた後、内温80℃以下で減圧濃
縮する。、 120mの水を留去した処で濃縮を止め6
0 atの濃塩酸を加え5時間還流する。冷却により析
出した結晶を濾取、濃塩酸で次いでアセトニトリルで洗
浄する。自然乾燥により5.59 (31,1%)の3
−イソプロピル−5−ヒドラジノーIH−ピラゾール・
塩酸塩を得た。 融点208℃(分解) C@H1NN4・HCIとしての元素分析値針XtEe
%J C:40.79 Hニア、42 Cl2O,07
N:31.72実測値(’74 C:40.72 Hニ
ア、39 (J:20.05 N:31.79FDマス
スペクトルが140を示し、上記の構造を支持した。
上記合成例と同様にし°C合成した例示化合物の特性値
を表−1に示す。
を表−1に示す。
合成例−5
11,2gの例示化合物I−4を100−のアセトニト
リルに分散し、−5℃を保ちながら16gのトリエチル
アミンを加える。更に8.1yのオクタノイルクロリド
を20dのアセトニトリルに溶解した液を一5℃以下で
滴下する。反応液を濃縮した後カラムクロマトグラフィ
ーで分離精製シ、カラメル状の目的物9.7 g(62
%)を得た。
リルに分散し、−5℃を保ちながら16gのトリエチル
アミンを加える。更に8.1yのオクタノイルクロリド
を20dのアセトニトリルに溶解した液を一5℃以下で
滴下する。反応液を濃縮した後カラムクロマトグラフィ
ーで分離精製シ、カラメル状の目的物9.7 g(62
%)を得た。
Cs5HxtCA’N40としての元素分析値計算値−
C:57,22 H:8.65 N:17.80 CC
11,26実測値(’Fd C:57.18 H:8.
59 N:17.83 C111,25FDマススペク
トル値は314を示した。
C:57,22 H:8.65 N:17.80 CC
11,26実測値(’Fd C:57.18 H:8.
59 N:17.83 C111,25FDマススペク
トル値は314を示した。
NMR(溶媒CDCl5 、基準TM8 )がδ=0.
85a H(t) 、δ= 1.22 8 H(m)
、δ= 1.32 9 H(a) 。
85a H(t) 、δ= 1.22 8 H(m)
、δ= 1.32 9 H(a) 。
δ=1.51 28(ml、δ= 2.08 2 Hi
t) 、δ=6.57 1 H(d) 、δ= 8.7
3 1 H(diを示し、F’Dマススペクトルと共
に上記の構造を支持した〇合成例−6(例示カプラーM
−3の合成)6.21の3−t−ブチル−4−クロI:
r−5−オクタノイルヒドラジノ−IH−ピラゾール(
合成例−5で得られた化合物)を60mのベンゼン、3
.2.litのオキシ塩化燐と共に攪拌下に3時間還流
する。反応液をカラムクロマトダラフイーで分離精製し
、4.1.9 (69%)の6−t−ブチル−7−クロ
ロ−3−ヘプチル−IH−ピラゾロ[3,2−Cl−1
,2,4−トリアゾールを得た。
t) 、δ=6.57 1 H(d) 、δ= 8.7
3 1 H(diを示し、F’Dマススペクトルと共
に上記の構造を支持した〇合成例−6(例示カプラーM
−3の合成)6.21の3−t−ブチル−4−クロI:
r−5−オクタノイルヒドラジノ−IH−ピラゾール(
合成例−5で得られた化合物)を60mのベンゼン、3
.2.litのオキシ塩化燐と共に攪拌下に3時間還流
する。反応液をカラムクロマトダラフイーで分離精製し
、4.1.9 (69%)の6−t−ブチル−7−クロ
ロ−3−ヘプチル−IH−ピラゾロ[3,2−Cl−1
,2,4−トリアゾールを得た。
融点46〜49℃
C1,H,、N4Clとしての元素分析値計算値(%C
:60.6’9 H:8.49 (J:11.94 N
:18.88実611値e7J C:60.61 H
:8.52 (J:11.89 N:18.84FDマ
ススペクトルは296を示した。
:60.6’9 H:8.49 (J:11.94 N
:18.88実611値e7J C:60.61 H
:8.52 (J:11.89 N:18.84FDマ
ススペクトルは296を示した。
NM R(溶K CDCl5− M準T M S )が
に=0.863 H(t) 、δ= 1.26 8 H
(ml 、δ= 1.43 9 H(s)。
に=0.863 H(t) 、δ= 1.26 8 H
(ml 、δ= 1.43 9 H(s)。
δ= 1.85 2 H(ml 、δ=2.93 2
H(t) 、δ=9.68 1H(alヲ示しFDマス
スペクトルト共に上記構造を支持した。
H(t) 、δ=9.68 1H(alヲ示しFDマス
スペクトルト共に上記構造を支持した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式[ I ]で表される5−ヒドラジノー1H−
ピラゾール系化合物。 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1は炭素原子数3〜30の2級または3級
アルキル基または炭素原子数3〜12のシクロアルキル
基を表し、Xは水素原子またはハロゲン原子を表す。A
はプロトン酸を表しnは0または正数を表す。]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60091489A JPH0613477B2 (ja) | 1985-04-29 | 1985-04-29 | 5−ヒドラジノ−1h−ピラゾ−ル系化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60091489A JPH0613477B2 (ja) | 1985-04-29 | 1985-04-29 | 5−ヒドラジノ−1h−ピラゾ−ル系化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61249968A true JPS61249968A (ja) | 1986-11-07 |
JPH0613477B2 JPH0613477B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=14027826
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60091489A Expired - Lifetime JPH0613477B2 (ja) | 1985-04-29 | 1985-04-29 | 5−ヒドラジノ−1h−ピラゾ−ル系化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0613477B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62252773A (ja) * | 1986-03-29 | 1987-11-04 | アグフア−ゲヴエルト・アクチエンゲゼルシヤフト | 4−ハロゲン−ピラゾロン−5のイミノ誘導体及びその製造法 |
JPH02115183A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 1H−ピラゾロ〔5,1−c〕−1,2,4−トリアゾール類およびピラゾール誘導体の製造方法 |
US5556986A (en) * | 1991-11-13 | 1996-09-17 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Pyrazole hydrazine compounds |
US5580986A (en) * | 1992-10-12 | 1996-12-03 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Substituted pyrazole derivatives |
EP0678519B1 (en) * | 1994-04-22 | 2002-08-28 | Eastman Kodak Company | Intermediates for the preparation of pyrazoloazole photographic couplers, processes of making and using them |
CN114105878A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-03-01 | 安徽理工大学 | 3-氨基-5-肼基吡唑含能离子盐及其制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6033552A (ja) * | 1983-08-04 | 1985-02-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−画像形成方法 |
-
1985
- 1985-04-29 JP JP60091489A patent/JPH0613477B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6033552A (ja) * | 1983-08-04 | 1985-02-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−画像形成方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62252773A (ja) * | 1986-03-29 | 1987-11-04 | アグフア−ゲヴエルト・アクチエンゲゼルシヤフト | 4−ハロゲン−ピラゾロン−5のイミノ誘導体及びその製造法 |
JPH02115183A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 1H−ピラゾロ〔5,1−c〕−1,2,4−トリアゾール類およびピラゾール誘導体の製造方法 |
US5556986A (en) * | 1991-11-13 | 1996-09-17 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Pyrazole hydrazine compounds |
US5580986A (en) * | 1992-10-12 | 1996-12-03 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Substituted pyrazole derivatives |
EP0678519B1 (en) * | 1994-04-22 | 2002-08-28 | Eastman Kodak Company | Intermediates for the preparation of pyrazoloazole photographic couplers, processes of making and using them |
CN114105878A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-03-01 | 安徽理工大学 | 3-氨基-5-肼基吡唑含能离子盐及其制备方法 |
CN114105878B (zh) * | 2021-11-29 | 2023-10-13 | 安徽理工大学 | 3-氨基-5-肼基吡唑含能离子盐及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0613477B2 (ja) | 1994-02-23 |
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