JPH04192136A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

光磁気記録媒体

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JPH04192136A
JPH04192136A JP2324272A JP32427290A JPH04192136A JP H04192136 A JPH04192136 A JP H04192136A JP 2324272 A JP2324272 A JP 2324272A JP 32427290 A JP32427290 A JP 32427290A JP H04192136 A JPH04192136 A JP H04192136A
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達也 深見
Kazuhiko Tsutsumi
和彦 堤
Takashi Tokunaga
隆志 徳永
Yoshiyuki Nakagi
義幸 中木
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、光強度変調ダイレクト・オーバーライト可
能な光磁気記録媒体に関するものである。
〔従来の技術〕
第6図は、例えばJournal of Applie
d Physicsvol、67 No、9  par
tI[A、(1,May、’90)、 pp、4415
〜4416に示された従来の光磁気記録媒体の構成図お
よび記録・再生時の光ビームである。(1)は半導体レ
ーザ等より出射されレンズにより集光された光ビーム、
(2)はHbの磁界を発生させる外部磁界発生装置、(
3)はガラスまたはプラスチックの透明基板、(4)〜
(7)は互いに交換結合した4層の磁性層であり、(4
)が第1磁性層、(5)が第2磁性層、(6)が第3磁
性層、(7)が第4磁性層である。
次に、ダイレクト・オーバーライトのメカニズムについ
て説明する。第7図(a)は、ある温度での遷移金属副
格子磁化の方向を示し、第6図(b)に記録時(P 1
4+o14.  P L。W)と再生時(P■AD)の
3値変調される光ビームの光強度を示している。
P amAoは非常に小さなパワーのため磁化状態(記
録状態)は変化しないが、P Low、 P 、l+。
□では記録膜の温度が上昇し、その最高到達温度はT 
Low、TIIIo□となり、以後冷却時の磁化状態の
変化によす0“または1”の記録が行われ、それぞれ“
低パワー・プロセス”と“高パワー・プロセス”と呼び
、この2つについて説明する。°低パワー・プロセス”
においては第2磁性層(5)と第4磁性層(7)はその
遷移金属副格子磁化の方向に変化な(上向であり、その
後の冷却時に第1磁性層(4)は第2磁性層(5)から
の交換力により遷移金属副格子磁化の方向は揃い上向き
となり“0”が記録される。また、“高パワー・プロセ
ス”においては媒体温度かT、11゜、まで、つまり第
2磁性層(5)のキュリー温度Tc、近傍まで上昇する
ため第4磁性層(7)のみが遷移金属副格子磁化の方向
は上向きとなっている。
その後の冷却時に外部磁界発生装fl(2)による磁界
Hbにより第2磁性層(5)の遷移金属副格子磁化の方
向が下向きとなり、次に第1磁性層(4)が“低パワー
・プロセス”同様に第2磁性層(5)からの交換力によ
り下向きになる。そして、室温近傍において第2磁性層
(5)が第3磁性層(6)からの交換力により上向きと
なる初期化過程か起こるが、第1磁性層(4)はこの時
点では交換力による反転はなく下向きを保ち“l”が記
録される。
〔発明が解決しようとする課題〕
以上のような光磁気記録媒体ては、第1磁性層は第2磁
性層の交換力の関係なとから、TbFeCoを代表とす
る磁性層を用いている。
ところで、光磁気記録装置では、高記録密度の達成のた
め記録・再生に用いる光ヘッド(半導体レーザ)の波長
を短くする検討がなされている。
しかしながら、従来の光磁気記録媒体においては現在の
波長800r+m付近では再生出力に十分な磁気光学効
果(カー回転角)を有しているが、例えば、400nm
という現在の波長の半分の波長に短波長化が達成された
場合、カー回転角は現波長で得られている値の半分以下
に減少し、十分な再生出力が得られないという課題があ
る。
本発明は上記のような問題点を解消するために成された
もので、400nmという現在の波長の半分の波長にお
いても十分な再生出力を得ることのできる光強度変調ダ
イレクト・オーバーライト可能な光磁気記録媒体を得る
ことを目的としている。
〔問題を解決するための手段〕
請求項1.3に記載の光磁気記録媒体は、垂直磁気異方
性を有する第1磁性層から第4磁性層までの4層が積層
され、それぞれの隣接する層は互いに交換結合されてい
る光強度変調方式によりダイレクト・オーバーライト可
能な光磁気記録媒体において、光ビームが最初に入射す
る第1磁性層に隣接 し、かつ、光の照射方向に第1磁
性層と交換結合しているNd含む希土類−遷移金属合金
膜からなる層又はPtもしくはPdとCOを交互に積層
された磁性層を設けたものである。
請求項2に記載の光磁気記録媒体は、請求項1の光磁気
記録媒体であって、Nd(ネオジウム)を含む希土類−
遷移金属合金膜がNdTbFeCo、 NdDyFeC
o、NdGdFeCoであり、NdのFeCoに対する
添加量が208t%(原子96)以下であること特徴と
するものである。
請求項に記載の光磁気記録媒体は、請求項1の光磁気記
録媒体であって、PtまたはPdとCOを交互に積層さ
れた磁性層のキュリー温度が第1磁性層のキュリー温度
よりも低いことを特徴とするものである。
〔作用〕
この発明における光磁気記録媒体は、第1磁性層に隣接
して第1磁性層と交換結合しているNd含む希土類−遷
移金属合金膜からなる層又はPtもしくは、PdとCo
を交互に積層された磁性層(第0磁性層)を設けたちの
ため、光強度変調方式によりダイレクト・オーバーライ
ト可能であり、かつ短波長においても十分な再生出力を
得ることができる。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図に本発明の光磁気記録媒体の構成を示す。(3)はガ
ラスまたはプラスチックの透明基板、(4)〜(7)は
互いに交換結合した4層の磁性層であり、(4)が第1
磁性層、(5)が第2磁性圏、(6)が第3磁性層、(
7)が第4磁性層であり、(8)が第0磁性層である。
この発明の一実施例は透明基板(3)上に第O磁性層(
8)、第1磁性層(4)、第2磁性層(5)と順次スパ
ッタ法により成膜されている。
実施例1 基板   : 1.2mm溝付きガラス基板誘電体層 
: SiNx 第O磁性層: NdTbFeCo 4元系非晶質合金N
d16Tb+oFe4oCO4o   膜厚:100人
第1磁性層: TbFeCo3元系非晶質合金Tb22
FessCOs     膜厚:  600人第2磁性
層: GdDyFeCo 4元系非晶質合金Gd5Dy
+tFes*CO+s    膜厚: 1000人第3
磁性層: TbPeCo3元系非晶質合金TbzFes
4         膜厚:200人第4磁性層:Tb
Co2元系非晶質合金Tb*oCOva       
  膜厚:400人保護II   :SiNx 実施例1の光磁気記録媒体を用い、光変調ダイレクト・
オーバーライトの動作確認を行ったところ、ビット長2
μmの信号上にビット長0.76μmの信号を線速11
m/sec印加磁界3000e、光ビーム強度13mW
と5mWでダイレクト・オーバーライトし、波長532
nmの再生光で再生したところCN比47dBが得られ
た。
比較例として実施例1の光磁気記録媒体で第0層を省い
た媒体で同様な測定を行った場合は、CN比40dBで
あった。
第2図に実施例1と比較例の媒体のカー回転角の波長依
存性を示す。波長800nm付近では同程度であるが、
400〜500nmでは、実施例1のほうが比較例に比
べ約2倍のカー回転角を示す。
第3図には第O磁性層のFeCoに対するNdの添加量
を種々変化させた時のカーループを示す。NdがFeC
oとの比で208t%をこえるとループがななめになる
ため、安定した記録ビットの保持ができなくなり、雑音
が上昇し良好なCN比を得ることができなくなる。した
がって、PeCoに対するNdの添加量は20a t%
を越えないことが望ましい。
なお、本実施例では第0磁性層にNdTbFeCo層を
用いたが、NdDyFeCo層、NdGdFeCo層で
も同様の結果が得られた。
実施例2 基板   :1.2mm溝付きガラス基板誘電体層 :
 SiN工 第O磁性層: Pt/Go積層磁性膜 P t (20人) /Co(5人) 膜厚:150人
第1磁性層: TbFeCo 3元系非晶質合金Tb*
2Fe、CO*     膜厚:600人第2磁性層:
 GdDyFeCo 4元系非晶質合金Gd5D)’t
tFesocO4膜厚: 1000人第3磁性層: T
bFeCo3元系非晶質合金Tb+aFesi    
   膜厚:200人第4磁性層:TbCo2元系非晶
質合金Tb−eCOto       膜厚;400人
保護眉  : SiNx 実施例2の光磁気記録媒体を用い、光変調ダイレクト・
オーバーライトの動作確認を行ったところ、ビット長2
μmの信号上にビット長0.76μmの信号を線速11
rn/see印加磁界3000e、光ビーム強度13m
Wと5mWでダイレクト・オーバーライトし、波長53
2nmの再生光で再生したところCN比46dBが得ら
れた。
第4図に第2図と同様に実施例2と比較例の媒体のカー
回転角の波長依存性を示す。波長800nm付近ではわ
ずかに大きなカー回転角を示すが、400〜500nm
では、実施例2のほうが比較例に比べ約2倍のカー回転
角を示す。
第5図には第0磁性層のPt/Co積層膜の膜厚を変え
ないで、積層周期を種々変化させてキュリー温度を変え
た時のCN比の変化を示す。第1磁性層のキュリー温度
は200℃であり、この結果より第0磁性層のキュリー
温度が第1磁性層のキュリー温度より低い場合に良好な
特性を示す。この原因は第0磁性層のキュリー温度が第
1磁性層のキュリー温度より高い場合、第1磁性層に記
録されるビットが第0磁性層の磁化の影響を受けて乱さ
れるため、雑音が上昇からである。このため第0磁性層
のキュリー温度が第1磁性層のキュリー温度より低いほ
うが望ましい。 なお、本実施例ではPt/Co積層膜
を第O磁性層に用いたが、Pd/Co積層膜でも同様な
結果が得られている。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば第1磁性層に隣接して
第1磁性層と交換結合しているNd含む希土類−遷移金
属合金膜からなる層又はP【もしくはPdとCOを交互
に積層された磁性層(第0磁性層)を設けたちのため、
光強度変調方式によりダイレクト・オーバーライト可能
であり、かつ短波長においても十分な再生出力を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による光磁気記録媒体の構
成図、第2図は実施例1と比較例の媒体のカー回転角の
波長依存性、第3図は第0磁性層のFeCoに対するN
dの添加量を種々変化させた時のカーループ。第4図は
実施例2と比較例の媒体のカー回転角の波長依存性。第
5図は第0磁性層のPt/Co積層膜の膜厚を変えない
で、積層周期を種々変化させてキュリー温度を変えた時
のCN比の変化。(3)はガラスまたはプラスチックか
らなる透明基板、(4)は第1磁性層、(5)は第2磁
性層、(6)は第3磁性層、(7)は第4磁性層、(8
)は第O磁性層、(9)は誘電体層、QOIは保護層で
ある。なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示
す。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に垂直磁気異方性を有する第1磁性層から
    第4磁性層までの4層が積層され、それぞれの隣接する
    層は互いに交換結合されている光強度変調方式によりダ
    イレクト・オーバーライト可能な光磁気記録媒体におい
    て、光ビームが最初に入射する第1磁性層に隣接し、か
    つ、光の照射方向にNd(ネオジウム)を含む希土類−
    遷移金属合金膜からなる層を有し、この層が第1磁性層
    と交換結合していることを特徴とする光磁気記録媒体。
  2. (2)Nd(ネオジウム)を含む希土類−遷移金属合金
    膜がNdTbFeCo、NdDyFeCo、NdGdF
    eCoであり、NdのFeCoに対する添加量が20a
    t%(原子%)以下であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項の光磁気記録媒体。
  3. (3)垂直磁気異方性を有する第1磁性層から第4磁性
    層までの4層が積層され、それぞれの隣接する層は互い
    に交換結合されている光強度変調方式によりダイレクト
    ・オーバーライト可能な光磁気記録媒体において、光ビ
    ームが最初に入射する第1磁性層に隣接し、かつ、光の
    照射方向にPtまたはPdとCoを交互に積層された磁
    性層を有し、この層が第1磁性層と交換結合しているこ
    とを特徴とする光磁気記録媒体。
  4. (4)PtまたはPdとCoを交互に積層された磁性層
    のキュリー温度が第1磁性層のキュリー温度よりも低い
    ことを特徴とする特許請求の範囲第3項の光磁気記録媒
    体。
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