JPH04181757A - Ｌｓｉマスクパターン設計装置 - Google Patents
Ｌｓｉマスクパターン設計装置Info
- Publication number
- JPH04181757A JPH04181757A JP2312237A JP31223790A JPH04181757A JP H04181757 A JPH04181757 A JP H04181757A JP 2312237 A JP2312237 A JP 2312237A JP 31223790 A JP31223790 A JP 31223790A JP H04181757 A JPH04181757 A JP H04181757A
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- JP
- Japan
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- mask pattern
- cells
- lsi
- cell
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- Pending
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はＬＳＩマスクパターンの生成を行うＬＳＩマ
スクパターン設計装置に関するものである。
スクパターン設計装置に関するものである。
従来のＬＳＩマスクパターン設計装置は、第４図に示す
ように、（１）は中央演算処理装置、（２）は既設計マ
スクパターンと新たに生成でれたマスクパターンを表示
するグラフィックデイスプレィ装置ｓ （８１ハ？スク
パターンの生成のための階層展開命令、論理和処理命令
、アンダサイズ処理命令を入力する入力装置、１４）は
既設計マスクパターンと新たに生成されたマスクパター
ンを格納する磁気ディスク装置で、グラフィックデイス
プレィ装置（２）、入力装置（８）、磁気ディスク装置
１４）は中央演算処理装置（１）に接続されている。
ように、（１）は中央演算処理装置、（２）は既設計マ
スクパターンと新たに生成でれたマスクパターンを表示
するグラフィックデイスプレィ装置ｓ （８１ハ？スク
パターンの生成のための階層展開命令、論理和処理命令
、アンダサイズ処理命令を入力する入力装置、１４）は
既設計マスクパターンと新たに生成されたマスクパター
ンを格納する磁気ディスク装置で、グラフィックデイス
プレィ装置（２）、入力装置（８）、磁気ディスク装置
１４）は中央演算処理装置（１）に接続されている。
次に動作について説明する。ＬＳＩマスクパターンは第
７図に示すような階層構造をなしており、第４図の磁気
ディスク装置＋４）に格納されている既設計マスクパタ
ーンを中央演算処理装置（１）を使ってグラフィックデ
イスプレィ装置（２）に表示する。
７図に示すような階層構造をなしており、第４図の磁気
ディスク装置＋４）に格納されている既設計マスクパタ
ーンを中央演算処理装置（１）を使ってグラフィックデ
イスプレィ装置（２）に表示する。
次に、中央演算処理装置（１）を使って、既設計マスク
パターンを階層展開して、フラットな構造にする。次に
中央演算処理装置（１）ｔ−使ってマスクパターンの論
理和処理を行う。次に、中央演算処理装置（１）ｔ−使
ってアンダサイズ（縮小）処理を行い、新たなマスクパ
ターンを生成し、磁気ディスク装置１４）に収納する。
パターンを階層展開して、フラットな構造にする。次に
中央演算処理装置（１）ｔ−使ってマスクパターンの論
理和処理を行う。次に、中央演算処理装置（１）ｔ−使
ってアンダサイズ（縮小）処理を行い、新たなマスクパ
ターンを生成し、磁気ディスク装置１４）に収納する。
この階層展開、論理和処理、アンダサイズ処理の実行命
令は人力装置（８）より入力する。第５図は上記動作の
フローチャート、また、第６図は上記動作を図式的に示
す各工程各段階平面図である。
令は人力装置（８）より入力する。第５図は上記動作の
フローチャート、また、第６図は上記動作を図式的に示
す各工程各段階平面図である。
従来のＬＳＩマスクパターン設計装置は以上のように構
成されていたので、既設針マスクパターンから新たなマ
スクパターンを生成するのに長特開を必要とし、また、
生成後のマスクパターンのデータ量が膨大になるという
問題点があった。
成されていたので、既設針マスクパターンから新たなマ
スクパターンを生成するのに長特開を必要とし、また、
生成後のマスクパターンのデータ量が膨大になるという
問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、階層構造をなしている既設針マスクパターン
を階層展開をせず、階層構造のままセル毎に論理和処理
、アンダサイズ処理を行い、新たなマスクパターンを生
成することができるＬＳＩマスクパターン設計装置を得
ることを目的とする。
たもので、階層構造をなしている既設針マスクパターン
を階層展開をせず、階層構造のままセル毎に論理和処理
、アンダサイズ処理を行い、新たなマスクパターンを生
成することができるＬＳＩマスクパターン設計装置を得
ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段つ
この発明に係るＬＳＩマスクバタ〜ン設計装置け、階層
構造をなしている既設針マスクパターンからセル間接続
情報（セル間で接続されている端子）を抽出して、セル
単位の論理和処理とアンダサイズ処理にて、新たなマス
クパターンを生成する機能を備えたものである。
構造をなしている既設針マスクパターンからセル間接続
情報（セル間で接続されている端子）を抽出して、セル
単位の論理和処理とアンダサイズ処理にて、新たなマス
クパターンを生成する機能を備えたものである。
この発明におけるＬＳＩマスクパターン設置［置は、既
設針マスクパターンの階層構造を展開せず、既設針マス
クパターンからセル間情報を抽出して、セル単位に論理
和処理し、抽出されたセル間情報を考慮したアンダサイ
ズ処理（セル間で接続された端子部はアンダサイズ処理
を行わない）にて、新たなマスクパターンを自動生成す
る。
設針マスクパターンの階層構造を展開せず、既設針マス
クパターンからセル間情報を抽出して、セル単位に論理
和処理し、抽出されたセル間情報を考慮したアンダサイ
ズ処理（セル間で接続された端子部はアンダサイズ処理
を行わない）にて、新たなマスクパターンを自動生成す
る。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第１図において、（１）は中央演算処理装置、（２）は
既設針マスクパターンと新たに自動生成されたマスクパ
ターンを表示するグラフインクデイスプレィ装置、（８
）はセル間接続情報抽出命令、セル単位の論理和処理命
令、アンダサイズ処理命令を入力するための入力装置、
！４）Ｕ既設針マスクパターンと新たに自動生成でれた
マスクパターンを格納する磁気ディスク装置、（５Ｉは
既設針マスクパターンのセル間情報抽出とセル単位の論
理和処理、アンダサイズ処理を行う専用演算処理装置で
、グラフインクデイスプレィ装（ｔｆ２）、入力装置（
８）、磁気ディスク装ｆ１４）は中央演算処理装置（１
）に、また入力装置（８）、磁気ディスク装置ｔ４）は
専用演算処理装置（５＋に接続されているう 次に動作について説明する。第７図に示すように階層構
造をなしている既設針マスクパターンを中央演算処理装
置（１）を使って、グラフィックデイスプレィ装置（２
）に表示する（ステップｌ）。次に専用演算処理装置（
６１を使って、既設針マスクパターンのセル間接続情報
を抽出する（ステップ２）。
既設針マスクパターンと新たに自動生成されたマスクパ
ターンを表示するグラフインクデイスプレィ装置、（８
）はセル間接続情報抽出命令、セル単位の論理和処理命
令、アンダサイズ処理命令を入力するための入力装置、
！４）Ｕ既設針マスクパターンと新たに自動生成でれた
マスクパターンを格納する磁気ディスク装置、（５Ｉは
既設針マスクパターンのセル間情報抽出とセル単位の論
理和処理、アンダサイズ処理を行う専用演算処理装置で
、グラフインクデイスプレィ装（ｔｆ２）、入力装置（
８）、磁気ディスク装ｆ１４）は中央演算処理装置（１
）に、また入力装置（８）、磁気ディスク装置ｔ４）は
専用演算処理装置（５＋に接続されているう 次に動作について説明する。第７図に示すように階層構
造をなしている既設針マスクパターンを中央演算処理装
置（１）を使って、グラフィックデイスプレィ装置（２
）に表示する（ステップｌ）。次に専用演算処理装置（
６１を使って、既設針マスクパターンのセル間接続情報
を抽出する（ステップ２）。
次に、中央演算処理装置（１）を使って、セル単位に論
理和処理を行う（ステップ３）。次いで、専用演算処理
装置（５１（てより抽出でれたセル間接続情報に基づい
て、アノダサイズ処理を行う（ステップ４）−但し、セ
ル間の接続部の端子に対応するマスクパターンはアンダ
サイズ処理を行わない。
理和処理を行う（ステップ３）。次いで、専用演算処理
装置（５１（てより抽出でれたセル間接続情報に基づい
て、アノダサイズ処理を行う（ステップ４）−但し、セ
ル間の接続部の端子に対応するマスクパターンはアンダ
サイズ処理を行わない。
セル間接続情報の抽出（第３図（ａｌ）、セル単位の論
理和処理（＠３図ｆｂ＋）、アンダサイズ処理の実行命
令は入力装置（８）より人力する（第３図（Ｃ））。
理和処理（＠３図ｆｂ＋）、アンダサイズ処理の実行命
令は入力装置（８）より人力する（第３図（Ｃ））。
第２図にその動作フローチャートを、第３図にその動作
を図式的に示す各工程各段階平面図である。
を図式的に示す各工程各段階平面図である。
なお、上記実施例では既設針マスクパターンのセル間接
続情報抽出及びセル間接続情報に基づくアンダサイズ処
理を行う機能を専用演算処理装置（５）に設けた場合を
示したが、これを中央演算処理装置（１）に持たせても
よい。
続情報抽出及びセル間接続情報に基づくアンダサイズ処
理を行う機能を専用演算処理装置（５）に設けた場合を
示したが、これを中央演算処理装置（１）に持たせても
よい。
以上のようにこの発明によれば、階層構造をなした既設
針マスクパターンを階層展開せずセル単位に論理和処理
を行い、セル間接続情報にてアンダサイズ処理して新た
なマスクパターンを自動生成するようにしたので、従来
と比べてマスクパターンのデータ量が少なく、短時間で
処理できるという効果がある。
針マスクパターンを階層展開せずセル単位に論理和処理
を行い、セル間接続情報にてアンダサイズ処理して新た
なマスクパターンを自動生成するようにしたので、従来
と比べてマスクパターンのデータ量が少なく、短時間で
処理できるという効果がある。
第１図はこの発明の一実施例によるＬＳＩマスクパター
ン設計装置のブロック図、第２図は第１図の装置の処理
動作を示すフローチャート、第３図は第２図の動作を図
式的に示す各段階の平面図、第４図は従来のＬＳＩマス
クパターン設計装置のブロック図、第５図は第４図の装
置の処理動作を示すフローチャート、第６図は第５図の
動作と図式的に示す各段階の平面図、第７図はＬＳＩマ
スクパターンの階層構造を示す展開斜視図である。 図において、（１）は中央演算処理装置、（２）はグラ
フィックデイスプレィ装置、（８）は入力装置、（４）
は磁気ディスク装置、（５ｊは専用演算処理装置を示す
。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
ン設計装置のブロック図、第２図は第１図の装置の処理
動作を示すフローチャート、第３図は第２図の動作を図
式的に示す各段階の平面図、第４図は従来のＬＳＩマス
クパターン設計装置のブロック図、第５図は第４図の装
置の処理動作を示すフローチャート、第６図は第５図の
動作と図式的に示す各段階の平面図、第７図はＬＳＩマ
スクパターンの階層構造を示す展開斜視図である。 図において、（１）は中央演算処理装置、（２）はグラ
フィックデイスプレィ装置、（８）は入力装置、（４）
は磁気ディスク装置、（５ｊは専用演算処理装置を示す
。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
Claims (1)
- ＬＳＩマスクパターン設計における階層構造をなす既
設計済マスクパターンから新たにマスクパターンを生成
する処理において、既設計済マスクパターンからセル間
の接続情報を抽出する手段と、セル間の接続部を保持し
てアンダサイズする手段を備えたことを特徴とするＬＳ
Ｉマスクパターン設計装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2312237A JPH04181757A (ja) | 1990-11-15 | 1990-11-15 | Ｌｓｉマスクパターン設計装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2312237A JPH04181757A (ja) | 1990-11-15 | 1990-11-15 | Ｌｓｉマスクパターン設計装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04181757A true JPH04181757A (ja) | 1992-06-29 |
Family
ID=18026826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2312237A Pending JPH04181757A (ja) | 1990-11-15 | 1990-11-15 | Ｌｓｉマスクパターン設計装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04181757A (ja) |
-
1990
- 1990-11-15 JP JP2312237A patent/JPH04181757A/ja active Pending
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