JPH0417884B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0417884B2 JPH0417884B2 JP23115584A JP23115584A JPH0417884B2 JP H0417884 B2 JPH0417884 B2 JP H0417884B2 JP 23115584 A JP23115584 A JP 23115584A JP 23115584 A JP23115584 A JP 23115584A JP H0417884 B2 JPH0417884 B2 JP H0417884B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boron nitride
- reaction product
- hexagonal boron
- washing
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 10
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 10
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 claims description 10
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 claims description 10
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、六方晶窒化硼素の製法に関する。さ
らに詳しくは、硼砂とメラミンとを反応させて、
直接に六方晶窒化硼素を製造する方法に関する。
らに詳しくは、硼砂とメラミンとを反応させて、
直接に六方晶窒化硼素を製造する方法に関する。
(従来の技術)
窒化硼素はフアインセラミツクスの一種であ
り、大別して、非晶質窒化硼素、六方晶窒化硼素
および立方晶窒化硼素がある。六方晶窒化硼素に
関しては、従来法では、無水硼酸とアンモニアに
リン酸カルシウムを加え、反応温度約900℃で非
晶質窒化硼素を作り、副生物と添加剤を塩酸で除
き、さらに約1800℃で熱処理して六方晶窒化硼素
を得る。すなわち、原料から反応と熱処理の二段
により六方晶窒化硼素が製造される。
り、大別して、非晶質窒化硼素、六方晶窒化硼素
および立方晶窒化硼素がある。六方晶窒化硼素に
関しては、従来法では、無水硼酸とアンモニアに
リン酸カルシウムを加え、反応温度約900℃で非
晶質窒化硼素を作り、副生物と添加剤を塩酸で除
き、さらに約1800℃で熱処理して六方晶窒化硼素
を得る。すなわち、原料から反応と熱処理の二段
により六方晶窒化硼素が製造される。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は原料から一段の反応で六方晶窒
化硼素を製造することである。
化硼素を製造することである。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、上記目的に関して種々検討した
結果、硼砂とメラミンとを反応させる方法におい
て、反応条件を設定し、さらに得られた反応生成
物の後処理方法を改良することにより、高純度六
方晶窒化硼素が得られることを見出し、本発明の
方法に到つた。
結果、硼砂とメラミンとを反応させる方法におい
て、反応条件を設定し、さらに得られた反応生成
物の後処理方法を改良することにより、高純度六
方晶窒化硼素が得られることを見出し、本発明の
方法に到つた。
本発明の方法は、硼砂とメラミンを原料として
反応させる。その反応は次式のように進行するも
のと考えられる。
反応させる。その反応は次式のように進行するも
のと考えられる。
3Na2B4O7+2C3N3(NH2)3
→12BN+3Na2O+6CO2+6H2O
使用される硼砂は無水物が最も望ましいが、含
水物であつても差し支えない。
水物であつても差し支えない。
硼砂およびメラミンの使用量は、すべての硼砂
が窒化硼素に変化するためには、前記式に示すよ
うに、硼砂3モルに対して、2モル以上のメラミ
ンを使用するのが望ましい。しかし、とくに限定
されるものではない。
が窒化硼素に変化するためには、前記式に示すよ
うに、硼砂3モルに対して、2モル以上のメラミ
ンを使用するのが望ましい。しかし、とくに限定
されるものではない。
反応は不活性ガス中、常圧または加圧下におい
て実施される。不活性ガスとしては窒素、ヘリウ
ム、アルゴン等が用いられる。
て実施される。不活性ガスとしては窒素、ヘリウ
ム、アルゴン等が用いられる。
本発明の方法においては、反応温度は少なくと
も1100℃を越え2200℃以下の温度範囲、好ましく
は1200〜2000℃の範囲である。1100℃以下では非
晶質窒化硼素が生成し、2200℃を越えるを六方晶
窒化硼素の収率が低下するので好ましくない。
も1100℃を越え2200℃以下の温度範囲、好ましく
は1200〜2000℃の範囲である。1100℃以下では非
晶質窒化硼素が生成し、2200℃を越えるを六方晶
窒化硼素の収率が低下するので好ましくない。
前記の反応による反応生成物は未反応原料およ
び副生物を含有する。これらの未反応原料および
副生物は大部分水に溶けるので、反応生成物を水
洗、とくに温水または熱湯で洗浄するとかなり精
製された六方晶窒化硼素が得られる。しかしなが
ら、純度は80〜90%程度であり、まだ十分とは言
えない。特に、副生物である酸化ナトリウムは強
塩基性を示し、水洗のみでは十分除去することが
困難である。
び副生物を含有する。これらの未反応原料および
副生物は大部分水に溶けるので、反応生成物を水
洗、とくに温水または熱湯で洗浄するとかなり精
製された六方晶窒化硼素が得られる。しかしなが
ら、純度は80〜90%程度であり、まだ十分とは言
えない。特に、副生物である酸化ナトリウムは強
塩基性を示し、水洗のみでは十分除去することが
困難である。
本発明の方法は、前記の反応条件により得られ
た反応生成物を以下のように処理するところに主
たる特徴を有するものである。
た反応生成物を以下のように処理するところに主
たる特徴を有するものである。
すなわち、反応生成物を鉱酸を用いて洗浄し、
しかる後に水洗して六方晶窒化硼素を得る。
しかる後に水洗して六方晶窒化硼素を得る。
用いられる鉱酸は、塩酸、硫酸、硝酸、りん酸
等である。中でも塩酸または硫酸、あるいは両者
の混合したものが良好な結果を与える。使用する
鉱酸の濃度は0.1〜10%、好ましくは1〜5%で
ある。
等である。中でも塩酸または硫酸、あるいは両者
の混合したものが良好な結果を与える。使用する
鉱酸の濃度は0.1〜10%、好ましくは1〜5%で
ある。
この様な鉱酸を用いて洗浄液のPHが1以下とな
るまで洗浄する。ついで、水洗をその洗浄液がPH
5〜7になるまで行なう。
るまで洗浄する。ついで、水洗をその洗浄液がPH
5〜7になるまで行なう。
鉱酸による洗浄および水洗の方法は、とくに制
限されることなく、それぞれの洗浄液が上記PH域
となるように洗浄すればよい。例えば反応生成物
を前記濃度の希鉱酸の水溶液中に懸濁させて、よ
くかきまぜた後、過し、必要に応じてさらに希
鉱酸液でPHが1以下になるまで洗浄する。つい
で、別し、塊そのまゝ、あるいは水に懸濁さ
せて過して、洗浄液のPHが5〜7となるまで水
洗するような方法がある。
限されることなく、それぞれの洗浄液が上記PH域
となるように洗浄すればよい。例えば反応生成物
を前記濃度の希鉱酸の水溶液中に懸濁させて、よ
くかきまぜた後、過し、必要に応じてさらに希
鉱酸液でPHが1以下になるまで洗浄する。つい
で、別し、塊そのまゝ、あるいは水に懸濁さ
せて過して、洗浄液のPHが5〜7となるまで水
洗するような方法がある。
また、本発明においては、反応生成物を水洗
後、乾燥してもよいが、水洗後さらに低沸点の有
機溶剤たとえばメタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン等で洗浄し、常圧乾燥または減圧乾燥すれば、
高純度六方晶窒化硼素微粉末が収率良く得られ
る。
後、乾燥してもよいが、水洗後さらに低沸点の有
機溶剤たとえばメタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン等で洗浄し、常圧乾燥または減圧乾燥すれば、
高純度六方晶窒化硼素微粉末が収率良く得られ
る。
(作用および発明の効果)
硼砂とメラミンとを少なくとも1100℃を越え、
2200℃以下の温度範囲で加熱して一段の反応で得
られた反応生成物を、希鉱酸でPH1以下まで洗浄
し、ついでPH5〜7まで水洗することにより、未
反応原料および副生物をほゞ完全に除去すること
が可能で高純度の六方晶窒化硼素微粉末を得るこ
とができる。
2200℃以下の温度範囲で加熱して一段の反応で得
られた反応生成物を、希鉱酸でPH1以下まで洗浄
し、ついでPH5〜7まで水洗することにより、未
反応原料および副生物をほゞ完全に除去すること
が可能で高純度の六方晶窒化硼素微粉末を得るこ
とができる。
したがつて、本発明の方法はとくに電子材料、
耐火材料または潤滑剤として強く要望される高純
度の六方晶窒化硼素微粉末を提供する方法として
極めて優れたものである。
耐火材料または潤滑剤として強く要望される高純
度の六方晶窒化硼素微粉末を提供する方法として
極めて優れたものである。
(実施例)
次に、実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。
る。
実施例 1
内容280c.c.の蓋つきの窒化硼素製るつぼに、粉
砕した無水硼砂60.4gおよびメラミン113.5gの
混合物を入れた後、そのるつぼを電気炉に入れ、
電気炉中に毎分400mlの割合で窒素ガスを流しな
がら、るつぼを電気炉で1500℃で1時間加熱し
た。
砕した無水硼砂60.4gおよびメラミン113.5gの
混合物を入れた後、そのるつぼを電気炉に入れ、
電気炉中に毎分400mlの割合で窒素ガスを流しな
がら、るつぼを電気炉で1500℃で1時間加熱し
た。
反応後、窒素中で一晩放冷し、反応生成物をビ
ーカー中に入れ、さらに5%塩酸をビーカー中の
反応生成物に加え、洗浄とデカンテーシヨンを繰
り返し、洗浄液のPHを1以下とした後、約30分間
撹拌し、デカンテーシヨンの後、イオン交換水を
加え、撹拌とデカンテーシヨンを繰り返し、洗浄
液のPHを6とした後、別した。さらに、沈澱物
をメタノールで2回洗浄した後、減圧で100℃で
2時間乾燥した結果、277.0gの白色粉末を得た。
ーカー中に入れ、さらに5%塩酸をビーカー中の
反応生成物に加え、洗浄とデカンテーシヨンを繰
り返し、洗浄液のPHを1以下とした後、約30分間
撹拌し、デカンテーシヨンの後、イオン交換水を
加え、撹拌とデカンテーシヨンを繰り返し、洗浄
液のPHを6とした後、別した。さらに、沈澱物
をメタノールで2回洗浄した後、減圧で100℃で
2時間乾燥した結果、277.0gの白色粉末を得た。
この物質は赤外線分析、X線解析によつて、六
方晶窒化硼素であることを確認した。また、電子
顕微鏡写真により、粒度1〜5ミクロンの粒子で
あることを認めた。元素分析により得られた窒化
硼素の純度は99.6%であつた。また、使用した硼
砂に対する窒化硼素の収率は90.6%であつた。
方晶窒化硼素であることを確認した。また、電子
顕微鏡写真により、粒度1〜5ミクロンの粒子で
あることを認めた。元素分析により得られた窒化
硼素の純度は99.6%であつた。また、使用した硼
砂に対する窒化硼素の収率は90.6%であつた。
実施例 2
実施例1で実施した方法において、5%塩酸の
代りに、5%硫酸を使用し、その他は実施例1と
同様に実験した結果、純度99.6%、粒度1〜5ミ
クロン、収率90.2%で六方晶窒化硼素粉末を得
た。
代りに、5%硫酸を使用し、その他は実施例1と
同様に実験した結果、純度99.6%、粒度1〜5ミ
クロン、収率90.2%で六方晶窒化硼素粉末を得
た。
参考例
実施例1で実施した方法において、反応後、一
晩放冷し、反応生成物をビーカーに入れ、反応生
成物に熱湯を加え、水洗とデカンテーシヨンを3
回繰り返えした後、別し、沈澱物を100℃で2
時間減圧乾燥した結果、得られた白色粉末を元素
分析し、純度87.8%の窒化硼素であることを確認
した。
晩放冷し、反応生成物をビーカーに入れ、反応生
成物に熱湯を加え、水洗とデカンテーシヨンを3
回繰り返えした後、別し、沈澱物を100℃で2
時間減圧乾燥した結果、得られた白色粉末を元素
分析し、純度87.8%の窒化硼素であることを確認
した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 硼砂とメラミンとの混合物を不活性ガス雰囲
気下に少なくとも1100℃を越え2200℃以下の温度
範囲で加熱した後得られた反応生成物を、洗浄液
のPHが1以下となるまで希鉱酸で洗浄し、つい
で、洗浄液のPHが5〜7になるまで水洗すること
を特徴とする六方晶窒化硼素の製法。 2 希鉱酸が希塩酸および/または希硫酸である
特許請求範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23115584A JPS61111904A (ja) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | 六方晶窒化硼素の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23115584A JPS61111904A (ja) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | 六方晶窒化硼素の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61111904A JPS61111904A (ja) | 1986-05-30 |
JPH0417884B2 true JPH0417884B2 (ja) | 1992-03-26 |
Family
ID=16919157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23115584A Granted JPS61111904A (ja) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | 六方晶窒化硼素の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61111904A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6306358B1 (en) | 1998-06-02 | 2001-10-23 | Osamu Yamamoto | Crystalline turbostratic boron nitride powder and method for producing same |
CN113753866B (zh) * | 2021-08-03 | 2023-02-07 | 湖南大学 | 一种六方氮化硼纳米晶及其固相制备方法 |
-
1984
- 1984-11-05 JP JP23115584A patent/JPS61111904A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61111904A (ja) | 1986-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2943918A (en) | Process for manufacturing dense, extra pure silicon | |
RU2602124C1 (ru) | Способ очистки зольного графита | |
JPH0417883B2 (ja) | ||
JPH0417884B2 (ja) | ||
US3389005A (en) | Process for the decomposition of zircon sand | |
US2551571A (en) | Method of producing silanes | |
JPS62108871A (ja) | オキサゾ−ル類の製造方法 | |
JPS6325216A (ja) | 酸化ホウ素の製法 | |
JPS62288110A (ja) | モミガラから高純度シリカを製造する方法 | |
US3411882A (en) | Production of boron nitride | |
JPH09263402A (ja) | 六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法 | |
JPS6335414A (ja) | 四ホウ酸ナトリウム五水塩の製法 | |
JP3309402B2 (ja) | 高純度リンの製造方法 | |
JPH05507054A (ja) | 膨潤性の層状シリケートの簡単な製造方法 | |
JP3466754B2 (ja) | 酸化マグネシウムの精製方法 | |
JPH0339968B2 (ja) | ||
JPS59116122A (ja) | ホウ酸の製法 | |
JPH0547483B2 (ja) | ||
US2532102A (en) | Production of ammonium beryllium fluoride | |
JPH0640710A (ja) | 高純度リンの製造方法 | |
JPS58104010A (ja) | 炭化珪素粉末の製造法 | |
JPS58104006A (ja) | 窒化珪素粉末の製造法 | |
US3669619A (en) | Production of diammonium hydrogen hexafluoroaluminate and aluminum fluoride | |
JPS6332725B2 (ja) | ||
JPH01119511A (ja) | 高純度酸化ほう素粉末の製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |