JPH04176021A - 垂直磁気記録ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いられる垂直
磁気記録ディスクの製造方法に係り、特に高トラツク密
度化に好適な垂直磁気記録ディスクの製造方法に関し、 ディスク基板上に溝付きの軟磁性層をマスクめっき法に
より形成する際に、レジスト膜をパターニングしたレジ
ストマスクを用いずに、簡便な着脱可能のめっき用マス
クを用いることにより、溝付きの軟磁性層を短縮した工
程で効率良く形成することを目的とし、 非磁性基板の表面にマスクめっき法により同心円状、若
しくはスパイラル状の溝を有する軟磁性層と、その溝を
有する軟磁性層上に垂直記録層を積層形成する垂直磁気
記録ディスクの製造において、前記非磁性基板の表面に
めっき用下地導電膜を被着した後、該めっき用下地導電
膜上に同心円状、若しくはスパイラル状の開口溝パター
ンを有する絶縁性マスクフレームを密着配置し、該絶縁
性マスクフレームで覆われていないめっき用下地導ｔＷ
Ａの露出面にめっき法により軟磁性層を形成する工程と
、前記絶縁性マスクフレームを取外した後、該絶縁性マ
スクフレームの取外し跡を含む軟磁性層上に垂直記録層
を形成する工程とを含み構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いら
れる垂直磁気記録ディスクの製造方法に係り、特に高ト
ラツク密度化に好適な垂直磁気記録ディスクの製造方法
に関するものである。

近年、磁気ディスク装置においては益々小型化、高密度
化、高速化が要求され、これに伴って従来から用いられ
ている水平磁気記録ディスクに比べて遥かに高密度記録
が可能な二層膜構造からなる垂直磁気記録ディスクが提
案されている。

このような垂直磁気記録ディスクの高トラ・ンク密度化
に伴い、サイドクロストークの排除と高精度なトラッキ
ング技術により磁気ヘッドのオフトラックを防止するこ
とが必要とされている。

〔従来の技術〕

従来、高トラツク密度化に伴うサイドクロストークと磁
気ヘッドのオフトラックを防止するための垂直磁気記録
ディスクとしては、ディスク面の各記録トランクにおけ
る隣接する記録トラ、ンク相互間に分離溝を設けて各記
録トラ・ンクを分離した構造が開発されている。

そのような構造の垂直磁気記録ディスクの従来の製造方
法゛は、先ず、第５図（ａ）に示すように例えばガラス
、またはセラミック等からなるディスク基板１上に、０
．３μ−程度の膜厚のＣｒ、或いはＴｉからなるめっき
用下地導電膜２をスパッタリング法により被着し、その
表面にフォトレジスト膜３を塗着した後、該フォトレジ
スト膜３を所定のフォトマスク４を介して露光し、かつ
現像することにより第５図℃）に示すように同心円状、
またはスパイラル状の開ロバターン５ａを有するレジス
トマスク５を形成する。

次に第５図（Ｃ）に示すように該レジストマスク５によ
り覆われていないめっき用下地導電膜２の露出面に電解
めっき法により１０ｕｍの膜厚のＮｉ−Ｆｅめっき膜６
を形成した後、前記レジストマスク５を溶解除去するこ
とにより、第５図（イ）に示すように該レジストマスク
５の除去跡に同心円状、またはスパイラル状の溝７を有
する高透磁率な軟磁性層８を形成する。

その後、第５図（ｅ）に示すように前記溝７上を含む軟
磁性層８上に０．２μ■の膜厚のＣｏ−Ｃｒからなる垂
直記録層９をスパッタリング法等により被着することに
よって、第６図に示すように高透磁率な軟磁性層８と垂
直記録層９が積層された凸部状の各記録トラック１０間
に同心円状、またはスパイラル状の分離溝７ａ（凹部状
）を有する垂直磁気記録ディスクを形成していた。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記した構成の垂直磁気記録ディスクの
製造方法では、ディスク基板１上へのフォトレジスト膜
３の塗着からレジストマスク５を溶解除去するまでの工
程数が多く、これらの工程に長時間を要し、また各ディ
スク基板毎にフォトレジスト膜３を用いてバターニング
工程によりレジストマスク５を形成しているためコスト
高となる問題があった。

更に、高トラツク密度化のために前記レジストマスク５
のパターンが微細化すると、該レジストマスク５の除去
工程においてレジストが残り易くなり、完全に除去する
ことが難しく工程歩留りが悪くなる欠点があった。

本発明は上記した従来の問題点に鑑み、ディスク基板上
に溝付きの軟磁性層をマスクめっき法により形成する際
に、レジスト膜をバターニングしたレジストマスクを用
いずに、簡便な着脱可能のめっき用マスクを用いること
により、溝付きの軟磁性層を短縮した工程で効率良く形
成し得るようにした新規な垂直磁気記録ディスクの製造
方法を捉供することを目的とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記した目的を達成するため、非磁性基板の表
面にマスクめっき法により同心円状、若しくはスパイラ
ル状の溝を有する軟磁性層と、その溝を有する軟磁性層
上に垂直記録層を積層形成する垂直磁気記録ディスクの
製造において、前記非磁性基板の表面にめっき用下地導
ｔｌｌを被着した後、該めっき用下地導電膜上に同心円
状、若しくはスパイラル状の開口溝パターンを有する絶
縁性マスクフレームを密着配置し、該絶縁性マスクフレ
ームで覆われていないめっき用下地導電膜の露出面にめ
っき法により軟磁性層を形成する工程と、前記絶縁性マ
スクフレームを取外した後、該絶縁性マスクフレームの
取外し跡を含む軟磁性層上に垂直記録層を形成する工程
とを含み構成する。

〔作　用〕

本発明の製造方法では、非磁性基板の表面に形成しため
っき用下地導電膜上にマスクめっき法により同心円状、
若しくはスパイラル状の溝を有する軟磁性層を形成する
際に、同心円状、若しくはスパイラル状の開ロバターン
を有するレジストマスクの代わりに、同心円状、若しく
はスパイラル状の開口溝パターンが形成されたセラミ・
ンクス等からなる着脱可能で、かつ繰り返し再使用でき
る絶縁性マスクフレームを用いることにより、従来の如
きレジストマスクの形成工程及びめっき後の該レジスト
マスクの除去工程等が不要となり、これら製造工程が大
幅に短縮される。またその後、絶縁性マスクフレームを
用いたマスクめっき法により形成された同心円状、若し
くはスパイラル状の溝を有する軟磁性層上に垂直記録層
を被着形成スレば、同心円状、若しくはスパイラル状の
分離溝を有する磁気ディスクを効率良く製造することが
できる。

〔実施例〕

以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。

第１図〜第３図は本発明に係る垂直磁気記録ディスクの
製造方法の一実施例を順に示す要部斜視である。

先ず、第１図に示すようにガラス円板等からなる非磁性
基板１１の表面に、スパッタリング法等により例えば０
．３μ難程度の膜厚のＮｉ−Ｆｅ合金、或いはＣｒ、　
Ｔｉ等からなるめっき用下地導電膜１２を被着形成し、
そのめっき用下地導電膜１２の上面に、あらかじめ同心
円状、若しくはスパイラル状の開口溝パターン１７ａを
フレーム部分１７ｂとフレーム支持部１７ｃにより形成
されたセラミックス等からなる着脱可能で、かつ繰り返
し使用できる絶縁性マスクフレーム１７を例えば第４図
に示すように中心固定治具１８ａと外周固定治具１８ｂ
によって密着固定する。この第４図の例では前記非磁性
基板１１の両面に被着形成されためっき用下地導電膜１
２上にそれぞれ前記絶縁性マスクフレーム１７を中心固
定治具１８ａと外周固定治具１８ｂによって密着固定し
ている。

次に第４図に示すように前記絶縁性マスクフレーム１７
を密着固定した非磁性基板１１を、回転用モータ２０に
回転可能に連結された回転支持具１９に取付け、更に例
えば硫酸ニッケル（ＮｉＳＯ−・６Ｈ２０）と硫酸第一
鉄（ＦｅＳＯａ　・７ＨｔＯ）とを主成分とするＮｉ−
Ｆｅめっき液２２が満たされためっき槽２１内に、前記
非磁性基板１１を例えばＮｉｔ極２３と対向するように
配置し、回転させた状態で前記回転支持具１９を介して
該非磁性基板ｌｌ上のめっき用下地導電膜１２と前記Ｎ
ｉ［極２３との間に所定電圧を印加して、前記絶縁性マ
スクフレーム１７で覆われていないめっき用下地導電膜
１２の露出面に１０μ−の膜厚のＮｉ−Ｆｅめっき膜を
形成した後、その絶縁性マスクフレーム１７が密着固定
された非磁性基板１１をめっきｌ１２１内より取り出し
て該絶縁性マスクフレーム１７を取り外すことにより、
第２図に示すように絶縁性マスクフレーム１７の取り外
し跡に同心円状、若しくはスパイラル状の溝１４を有す
るＮｉ−Ｆｅからなる高透磁率な軟磁性層１３を、従来
の工程よりも短縮した工程で形成することができる。

その後、前記溝１４を含む軟磁性層１３上にスパッタリ
ング法等により、例えば０．２μ−の膜厚のＧｏ−Ｃｒ
からなる垂直記録層１５を被着形成することにより、第
３図に示すように前記軟磁性層１３と垂直記録層１５が
積層された凸部状の各記録トラック１６間に同心円状、
若しくはスパイラル状の分離溝１４ａを有する垂直磁気
記録ディスクを効率良く製造し得ることが可能となる。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明に係る垂直磁気
記録ディスクの製造方法によれば、非磁性基板上にマス
クめっき法により同心円状、若しくはスパイラル状の溝
を有する軟磁性層を形成する際に、同心円状、若しくは
スパイラル状の開口溝パターンが形成された絶縁性マス
クフレームを用いたマスクめっき法により同心円状、若
しくはスパイラル状の溝を有する軟磁性層を形成するこ
とにより、これら形成工程が大幅に短縮され、また従来
のようなレジストマスクを用いず、前記絶縁性マスクフ
レームは繰り返して使用できるので歩留りの向上と工程
コストが低減される。

更に、かかる軟磁性層上に垂直記録層を被着形成するこ
とにより、サイドクロストークを排除し、かつオフトラ
ックの防止に寄与する同心円状、若しくはスパイラル状
の分離溝を有する磁気ディスクを効率良（製造すること
が可能となる等、実用上優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は本発明に係る垂直磁気記録ディスクの
製造方法の一実施例を順に説 明する要部斜視図、 第４図は本発明に係る製造方法におけるマスクめっき工
程を説明するための図、 第５図は従来の垂直磁気記録ディスクの製造方法の一例
を順に示す要部断面図、 第６図は従来の垂直磁気記録ディスクを示す要部斜視図
である。 第１図〜第４図において、 １１は非磁性基板、１２はめっき用下地導電膜、１３は
軟磁性層、１４は溝、１４ａは分離溝、１５は垂直記録
層、１６は記録トラック、１７は絶縁性マスクフレーム
、１７ａは開口溝バタニン、１８ａは中心固定治具、１
８ｂは外周固定治具、１９は回転支持具、２ｏは回転用
モータ、２１はめっき槽、２２はめっき液、２３はＮｉ
電極をそれぞれ示す。 −１ζ９ 第２図 ２だも ｃｌ）＞ 一−−−−−６Ｎｉ−Ｆｅ／１ｍ ｃｄ＋

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 非磁性基板（１１）の表面にマスクめっき法により同心
   円状、若しくはスパイラル状の溝（１４）を有する軟磁
   性層（１３）と、その溝（１４）を有する軟磁性層（１
   ３）上に垂直記録層（１５）を積層形成する垂直磁気記
   録ディスクの製造において、 前記非磁性基板（１１）の表面にめっき用下地導電膜（
   １２）を被着した後、該めっき用下地導電膜（１２）上
   に同心円状、若しくはスパイラル状の開口溝パターン（
   １７ａ）を有する絶縁性マスクフレーム（１７）を密着
   配置し、該絶縁性マスクフレーム（１７）で覆われてい
   ないめっき用下地導電膜（１２）の露出面にめっき法に
   より軟磁性層（１３）を形成する工程と、前記絶縁性マ
   スクフレーム（１７）を取外した後、該絶縁性マスクフ
   レーム（１７）の取外し跡を含む軟磁性層（１３）上に
   垂直記録層（１５）を形成する工程とを含むことを特徴
   とする垂直磁気記録ディスクの製造方法。