JPS62197910A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS62197910A JPS62197910A JP3862486A JP3862486A JPS62197910A JP S62197910 A JPS62197910 A JP S62197910A JP 3862486 A JP3862486 A JP 3862486A JP 3862486 A JP3862486 A JP 3862486A JP S62197910 A JPS62197910 A JP S62197910A
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- forming
- conductive coil
- plane
- thin film
- plane conductive
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- Pending
Links
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- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 8
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものであ
る。
る。
軟磁性体材料から成る上・下磁極間に、ギャップ用無機
絶縁層さらに有機絶縁層を介し、銅メッキにより得られ
る平面導電コイルから成る薄膜磁気ヘッドにおいて、平
面導電コイルパターンを同一面上のみに形成し、外部接
続用端子部を平面導電コイル形成後、形成し接合するこ
とを特徴とした薄膜磁気ヘッドの製造方法である。
絶縁層さらに有機絶縁層を介し、銅メッキにより得られ
る平面導電コイルから成る薄膜磁気ヘッドにおいて、平
面導電コイルパターンを同一面上のみに形成し、外部接
続用端子部を平面導電コイル形成後、形成し接合するこ
とを特徴とした薄膜磁気ヘッドの製造方法である。
従来薄膜磁気ヘッドは大型ディスク装置用であり、その
出現によりトラック密度の向上、ｒｉｉ！波数特性の向
上が可能となりディスク装置の記憶容量は増大した。大
型ディスク装置用の薄膜磁気ヘッドはその導電コイル巻
数も９〜１０タ一ン程度であるがディスクの周速が速く
十分な出力が得られた。
出現によりトラック密度の向上、ｒｉｉ！波数特性の向
上が可能となりディスク装置の記憶容量は増大した。大
型ディスク装置用の薄膜磁気ヘッドはその導電コイル巻
数も９〜１０タ一ン程度であるがディスクの周速が速く
十分な出力が得られた。
一方小型ディスク装置の記憶容量の増大に伴い小型ディ
スク装置用薄膜磁気ヘッドの開発が進められている。し
かし小型ディスク装置のディスクの周速は遅く、薄膜磁
気ヘッドの導電コイル巻数が、大型ディスク装置と同じ
９〜１０ターンでは出力が得られず実用できなかった。
スク装置用薄膜磁気ヘッドの開発が進められている。し
かし小型ディスク装置のディスクの周速は遅く、薄膜磁
気ヘッドの導電コイル巻数が、大型ディスク装置と同じ
９〜１０ターンでは出力が得られず実用できなかった。
したがって導電コイル巻数を増加させることが必要とな
り、その形成技術が問題となりてきている。これは限ら
れたヨーク長円にできるだけ巻数の多い平面導電コイル
を形成することとなり、さらにパターンニングに用いる
フォトレジストの厚みも、導電材を厚くシ、低抵抗とす
るため４〜５μ必要となり、アスペクト比の高−パター
ンを形成しなければならない。また導電コイルの多層化
も必要となり導電コイルパターン形成は非常に困難とな
ってきている。
り、その形成技術が問題となりてきている。これは限ら
れたヨーク長円にできるだけ巻数の多い平面導電コイル
を形成することとなり、さらにパターンニングに用いる
フォトレジストの厚みも、導電材を厚くシ、低抵抗とす
るため４〜５μ必要となり、アスペクト比の高−パター
ンを形成しなければならない。また導電コイルの多層化
も必要となり導電コイルパターン形成は非常に困難とな
ってきている。
第２図に示すように有機絶一層の上部の平面フィルから
外部接続用端子部まで同時にパターンニングした場合、
コイルパターンを見た場合その適正露光、現像条件では
、有機絶縁層と基板との段差部にレジストの残膜を生じ
、連続なパターンは得られない。またこの段差部のレジ
スト、残膜を消す場合は、露光現像条件は段差上コイル
パターンに対し過剰なものとなり、必要なパターンのア
スペクト比が得られなかったり、最悪の場合、パターン
が消失した。さらに多層コイルの場合、その特に２層目
コイルパターン形成は段差が大きくなるため困難を極め
た。また高いアスペクト比を得るため多層レジスト法等
の手法もあるが工数が多く、形成したパターンの剥離方
法等に問題があり、実用的ではない。
外部接続用端子部まで同時にパターンニングした場合、
コイルパターンを見た場合その適正露光、現像条件では
、有機絶縁層と基板との段差部にレジストの残膜を生じ
、連続なパターンは得られない。またこの段差部のレジ
スト、残膜を消す場合は、露光現像条件は段差上コイル
パターンに対し過剰なものとなり、必要なパターンのア
スペクト比が得られなかったり、最悪の場合、パターン
が消失した。さらに多層コイルの場合、その特に２層目
コイルパターン形成は段差が大きくなるため困難を極め
た。また高いアスペクト比を得るため多層レジスト法等
の手法もあるが工数が多く、形成したパターンの剥離方
法等に問題があり、実用的ではない。
本発明は前述の従′来技術の問題点を解決するもので、
その目的とするところは薄膜磁気ヘッドの導電コイルパ
ターン形成を容易にし、小型ディスク装置用多巻コイル
薄膜磁気ヘッドを安定的に生産する製造方法を提供する
ところにある。
その目的とするところは薄膜磁気ヘッドの導電コイルパ
ターン形成を容易にし、小型ディスク装置用多巻コイル
薄膜磁気ヘッドを安定的に生産する製造方法を提供する
ところにある。
本発明は軟磁性体材料から成る上、下磁極間にギャップ
用無機絶縁層さらに有機絶縁層を介し、銅メッキにより
得られる平面導電コイルから成る薄膜磁気ヘッドにおい
て、平面導電コイルパターンを同一面上のみに形成し、
外部接続用端子部を平面導電コイル形成後、形成し接合
することを特徴とする。
用無機絶縁層さらに有機絶縁層を介し、銅メッキにより
得られる平面導電コイルから成る薄膜磁気ヘッドにおい
て、平面導電コイルパターンを同一面上のみに形成し、
外部接続用端子部を平面導電コイル形成後、形成し接合
することを特徴とする。
以下に本発明の実施例を示す。まずＡＬ、０．−ＴＩＣ
基板にＡｔ、０３を１０μＲｆスパツタにより形成し、
下磁極パーマロイメーツキ用下地として１５００Ｘのパ
ーマロイ膜をスパッタにより形成スル。さらに、フォト
レジストにより下磁極をパターンニングし、パーマロイ
メッキをすることにより、下磁極を形成し、レジスト剥
離後、スパッタエッチによりメッキ下地用パーマロイ膜
を除去する。ギャグ用無機絶縁膜として、ＡＬ２０ｓを
ｔ’Ｌｆスパッタにより６５００λ付着させ、上、下磁
極接合部をフォトレジストでパターンニングしイオンシ
ーリングによりエツチング除去することにより、ギャグ
が形成される。さらに有機絶縁膜がフォトレジストをパ
ターンニングしハードキュアすることにより、得られる
。ここで導′也コイルＯｕメッキ用下地としてＣＵをス
パッタにより１５００λ形成する。ここで第３図αに示
すように、導電コイルパターンを有機絶縁膜上に形成す
ることにより、第２図に示した従来例と系なり段差部に
パターンがないため、微細パターンでアスペクト比の高
いパターンが得られる。ざらにＯｕメッキののち、レジ
スト剥離、Ｃｕスパッタ膜をスパッタエッチにより除去
し、一層目コイルが形成される。つづいて、第３図すに
示したパターン形状で導電コイル絶縁用有機絶縁膜をフ
ォトレジストをハードキュアすることに形成する。この
有機絶縁膜の形状により２層目コイルは同一平面上に形
成されることになる。ここで一層目コイルと同様の工程
をへて第３図Ｃに示すように第２層コイルが形成される
。ここで（３ｕメツキ用下地を残したまま外部接続用端
子部を７オトレジストでパターンニングすることにより
２層導電コイルは形成される。この工程により、段差部
のパターンニングは容易になり、微細でアスペクト比の
高いコイルパターンを得ることができる。
基板にＡｔ、０３を１０μＲｆスパツタにより形成し、
下磁極パーマロイメーツキ用下地として１５００Ｘのパ
ーマロイ膜をスパッタにより形成スル。さらに、フォト
レジストにより下磁極をパターンニングし、パーマロイ
メッキをすることにより、下磁極を形成し、レジスト剥
離後、スパッタエッチによりメッキ下地用パーマロイ膜
を除去する。ギャグ用無機絶縁膜として、ＡＬ２０ｓを
ｔ’Ｌｆスパッタにより６５００λ付着させ、上、下磁
極接合部をフォトレジストでパターンニングしイオンシ
ーリングによりエツチング除去することにより、ギャグ
が形成される。さらに有機絶縁膜がフォトレジストをパ
ターンニングしハードキュアすることにより、得られる
。ここで導′也コイルＯｕメッキ用下地としてＣＵをス
パッタにより１５００λ形成する。ここで第３図αに示
すように、導電コイルパターンを有機絶縁膜上に形成す
ることにより、第２図に示した従来例と系なり段差部に
パターンがないため、微細パターンでアスペクト比の高
いパターンが得られる。ざらにＯｕメッキののち、レジ
スト剥離、Ｃｕスパッタ膜をスパッタエッチにより除去
し、一層目コイルが形成される。つづいて、第３図すに
示したパターン形状で導電コイル絶縁用有機絶縁膜をフ
ォトレジストをハードキュアすることに形成する。この
有機絶縁膜の形状により２層目コイルは同一平面上に形
成されることになる。ここで一層目コイルと同様の工程
をへて第３図Ｃに示すように第２層コイルが形成される
。ここで（３ｕメツキ用下地を残したまま外部接続用端
子部を７オトレジストでパターンニングすることにより
２層導電コイルは形成される。この工程により、段差部
のパターンニングは容易になり、微細でアスペクト比の
高いコイルパターンを得ることができる。
簿膜磁気ヘッドの平面導電コイルパターンを同一面上の
みに形成する本発明によれば、平面導電フィルパターン
は、高さ４μ９幅３μのパターンが安定的に得られ、こ
れは多層コイル形成時でも同様である。したがって薄膜
磁気ヘッドの４’ｔＬコイルパターンの微細化が可能と
なり、小型ディスク装置用多巻コイル薄膜磁気ヘッドを
安定的に生産することが可能となる。
みに形成する本発明によれば、平面導電フィルパターン
は、高さ４μ９幅３μのパターンが安定的に得られ、こ
れは多層コイル形成時でも同様である。したがって薄膜
磁気ヘッドの４’ｔＬコイルパターンの微細化が可能と
なり、小型ディスク装置用多巻コイル薄膜磁気ヘッドを
安定的に生産することが可能となる。
第１図は本発明の薄膜ヘッドの上面図、第２図は従来の
薄膜ヘッドの上面図、第３図（α）〜（ｄ）は薄膜磁気
ヘッドの工程図である。 １・・・・・・下磁極 ２・・・・・・有機絶縁膜 ３・・・・・・一層目コイル ４・・・・・・二層目コイル ５・・・・・・外部接続用端子 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 箋１２ 笛２図
薄膜ヘッドの上面図、第３図（α）〜（ｄ）は薄膜磁気
ヘッドの工程図である。 １・・・・・・下磁極 ２・・・・・・有機絶縁膜 ３・・・・・・一層目コイル ４・・・・・・二層目コイル ５・・・・・・外部接続用端子 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 箋１２ 笛２図
Claims (1)
- 軟磁性体材料から成る上、下磁極間に、ギャップ用無機
絶縁層さらに有機絶縁層を介し銅メッキにより得られる
平面導電コイルから成る薄膜磁気ヘッドにおいて、平面
導電コイルパターンを同一面上のみに形成し、外部接続
用端子部を平面導電コイル形成後、形成し接合すること
を特徴とした薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3862486A JPS62197910A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3862486A JPS62197910A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62197910A true JPS62197910A (ja) | 1987-09-01 |
Family
ID=12530393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3862486A Pending JPS62197910A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62197910A (ja) |
-
1986
- 1986-02-24 JP JP3862486A patent/JPS62197910A/ja active Pending
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