JPH04147445A - 第２表面光学的記憶装置を製造する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光学的記憶ディスク、カードあるいは装置に
関し、特にそれらの製造方法に関する。

［従来の技術］ 一回書き込み／複数回数続み出し式（ＷＯＲＭ：ｗｒｉ
ｔｅ　ｏｎｃｅ−ｒｅａｄ　ｍａｎｙ　）　、磁気光学
的（消去可能）方式、あるいは同様な光学的記録装置に
類似した装置である既存の光ディスクあるいはカートは
、一般に、堅固な支持基板と、反射層と、ディスクある
いはカードへの応用に依存して、光学的に透明な保護被
覆層である第１表面によって覆われた、感光性で光学的
に反応性の第２表面層とを有する積層状のあるいは多層
状の構造からなる。

履歴的に見ると、それぞれの前記の層は、射出成型、圧
縮成型、回転被覆、スパッタリング、真空蒸着のような
種々の後続の方法によって、そして、−船釣には、個々
の一層ごとに積層する技法によって、ディスクごとに先
の層に断続的に順次重ね合わせられた。それぞれの基板
は、個々に、連続的に、あるいは少しづつのバッチ式で
そのような後続の積層被覆加工が施される。

光学的記録技術における最近の傾向は、第１表面による
光学的記録可能積層体を開発する方向にあり、そしてこ
の種の積層体は、従来の磁気テープ製造に類似した態様
で大きな長さと幅の幅広のウェブな用いて断続的にでな
く連続的手法で便利にそして効率的に製造された。その
ような方法によって、光学的記録積層体は、同様に効率
的かつ経済的な態様で製造できる。しかしながら、その
ような第２表面光学的記録媒層体は、従来形式の長い磁
気テープに切断してもよいし、円あるいは方形の板に切
断してもよいが、初期の第２表面光学的記録構造体と比
較した時、そのような方法で製造された比較的薄い第１
表面光学的記録可能ディスクあるいはカードは相当な不
利益を有する。　そのような積層板の光学的に記録可能
な第１表面層上への薄い保護被覆にもかかわらず、肉眼
では見ることができない直径がほんの１ミクロンかある
いはその程度の無作為に吸引された埃が、光学的に反応
性の第１表面層に非常に近接して付着し、それによって
、光学的に反応性の層の相当の領域を閉塞し、それに比
例する量のデータのドロップアウトを記録、再生せしめ
、情報の消失をもたらす。

加えて、光学的な積層板から切断して製造された光ディ
スクの比較的薄い積層板構造体は堅固な構造の要素を有
さす、したがって、曲がり捻じれる傾向を有する。した
がって、そのような光学的積層記録ディスクは、空気支
持膜を形成することによって光学的な記録／再生要件に
までディスクを平板化するような限界最小回転速度以上
で平坦な静止面直上で回転せしめられることか必要であ
る。

したがって、長年にわたって、厚くて透明な基板の堅固
であり第２表面光学的媒体であるという属性を有し、し
たがって記録可能層上の記録／再生ビームの焦点が合っ
た平面から安全な距離に埃および機械的欠陥を離間維持
する表面を有し、しかも、光学的記録媒体の大きな板よ
りなる第１表面による光学的積層の製造上の経済的利点
を有する新規かつ改善された光学的記録ディスクを開発
する必要性があった。

本発明は、第２表面による光学的媒体の技術的利点と第
１表面の光学的記録媒体の製造上の平易性と効率性とを
合わせ持つことにより、まさにこの種の装置を開示する
ものである。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、２つの独特かつ独立的製造方法である
、第１表面光学的記録層テープの既存製造方法と第２表
面光学的記録ディスクの既存製造方法とを組み合わせま
た部分的に利用することによって、第２表面光学的記録
媒体の改善された効率的かつ経費節減の製造方法を提供
することである。

本発明のさらなる目的は、そのような新規の加工処理方
法によって製造される新規な光学的記録媒体を提供する
ことである。

本発明の、これらのそしてその他の目的、態様、利益及
び利点は、実施例および図面を参照することでさらに詳
しく理解されるであろう。

［課題を解決するための手段及び作用］本発明は、２つ
の既存の光学的ディスクのそれぞれの特質を組み合わせ
ることにより、光学的記録ディスクを製造する新しい方
法を提供し、また、そのような手段によって新規な光学
的記録媒体を提供する。

本発明は、従来技術によってディスクの形状あるいはそ
の他の望ましい形状に成型され、所望されるプリセット
データあるいはトラック溝を有しあるいはそれを有さな
い光学的に透明な被覆を、従来の、柔軟性のウェブ支持
基盤と、反射層と、光学的反応層とを有するが従来のよ
うに薄い柔軟性の保護層を有しない第１表面光学的記録
層に被着することを企画する。前記被覆は、ついで、第
１表面光学的記録可能層に圧縮され、２つの構成部材が
永久的に結合密封され、それによって、第２表面光学的
記録媒体が生成される。新しく形成された第２表面光学
的記録構造は積層板から切り離され、第１表面光学的記
録積層体を生成されるのであるが、これが、本質的に、
ディスク基板から始まり、続いて各希望する層すなわち
反射層、保護層を逐次追加していく第２表面光学的記録
ディスクを製造する従来の複数段階プロセスに対して２
段階プロセスで製造されるのである。

［実施例］ 本発明による、第２表面記録可能媒体を製造する方法は
大部分が第１図に図示されており、ここで、比較的厚い
ディスクの形状をした透明な被覆１０が、矢印１３で指
示されるように、比較的に厚さが変化しない不定の長さ
と幅の第１表面による光学的に記録可能な積層板１２に
型押しされるものとして示されている。保護層のない積
層板１２は商業的に入手できるものであるが、独自に製
造してもよい。

積層板１２のウェブ基板１８　（ｗｅｂ　５ｕｂｓｔｒ
ａｔｅ）は本実施例ではポリエチレンテレフタレート（
ＰＥＴ　）のような商業的に入手できる膜形成材からな
るが、同様に他の高い弾性率の材料であってもよい。本
実施例において、光学的に非常に平坦なウェブ基板１８
は、従来技術と同様に、後続の積層を重畳するための柔
軟な支持構造として働き、そしてまた、光学的に記録可
能な積層ウェブ、テープあるいは板の記録不可能な面と
して作用し、また、その厚さに依存して保護の強さの程
度を決定する。ウェブ基板１８は通常２５μｍの厚さで
あり、また、多数の第２表面光学的記録可能ディスク、
カードあるいは他の望ましい形態物の製造に順応するに
必要な不定の長さと広さである。、約１１００ｎの厚さ
の反射層２０は、本実施例ではアルミニュームであるが
、金、銀あるいは銅合金でも良く、従来技術により基板
層であるウェブ基板１８に真空蒸着されている。光反応
層２２は反射層２０と被着されて光学的記録積層板１２
の加工を完了する。光反応層２２は一般には厚さが１１
００ｎ程度であり、可溶性ポリマー染料あるいは染料結
合剤ポリブレンドであり、そして従来技術通り、回転被
覆、吹き付け、ロール掛けあるいは浸漬被覆により被着
される。光反応層２２の染料は、記録／再生レーザある
いは放射線ビームの波長においであるいはその近傍の波
長において吸収スペクトルのピークを有するシアニン安
定性ポリメチンである。光反応層２２の特定の厚さは、
この技術に従事する者によってよく知られているように
、本実施例では７８０ｎｍであるレーザ（放射）波長と
、光反応層２２の染料ポリマーの屈折率と、反射層２０
の反射特性との関数で決定される。第１表面光学的記録
可能積層板１２がそのように製造あるいは供給されると
、このシートは光学的に透明な被ＭＩＯのそれへの加圧
によって第２表面光学的記録可能ディスクあるいはカー
ドに加工される。被覆１０は一般にはディスク、の形状
をしたポリカーボネート構造体であり、直径が１２０〜
３００ｍｍの範囲であり、工業の、商業の、国家の、そ
して娯楽のデータを記録する応用分野に対して変えられ
る。ディスクの大きさは単に必要性と応用分野で決定さ
れることを理解されたい。被覆１０は本実施例では円形
であるが、もちろん特定の応用に必要とされればどんな
幾何学的設計でも良い。被覆１０はスピンドル・ホール
２４が中心に供給され、露出平面２６と溝噛み合わせ面
２８とを有する。第３図の断面図に示されるように、溝
噛み合わせ面２８は螺旋のレーザトラッキング溝３０が
供給されている。

しかしながら、溝噛み合わせ面２８はフォーマツトがな
されても、同心円のトラッキング溝が供給されてもよく
、さらに、セクタ、アドレス、開始／終了コードに対応
して符号化された情報およびデータが供給されてもよい
。破線３２は、被覆ｌＯの溝噛み合わせ面２８上の隠れ
た螺旋あるいは同心円のトラッキング溝を示している。

かわりに、第２表面２８はトラッキングあるいは符号化
の型押がなされていなくてもよい。被覆１０の溝噛み合
わせ面２８は、第４図に示されるように、密封され、永
久的に型押され、結合されたコンポジットとなることを
保証するのに十分な圧力でもって、積層板１２の第１表
面光学的記録可能層２２中に強力に型押しされる。約２
気圧（２×１０５パスカルあるいはｎｔ／ｍ２）の圧力
で十分である。被覆１０と積層構造体１２との間の密封
部の適当な硬化（約１分間）によって、被覆／積層構造
は光学的に記録可能な構造である第２表面となり、そし
て第２図に示される分離した構造体として積層板１２か
ら円形に切り取られる。第２図は、光学的に透明な第１
表面被覆１０と、光学的に記録可能で反応性の第２表面
層２２と、反射層２０とウェブ基板層１８とからなる第
２表面光学的記録可能ディスクの完成品を示す。

被覆と積層の型押加工の断面図が第４図に示されている
。第４図に示されるように、被覆１０の溝噛み合わせ面
２８は積層板１２の光学的反応性層２２に噛み合わされ
型押される。２つの表面の間のすべての袋部分あるいは
異常部分を除去するために、均等な圧力分布が必要であ
り、またそれが提供される。圧力板３８と４０に取り付
けられた弾性保護板３４と３６は、それぞれ、矢印４２
と４４で示される必要とされる変幻のある圧力分布を提
供する。型押加工の間中、被覆１０と積層板１２の密着
表面間に空気あるいはガスが閉じ込められることがない
ように１　ｔｏｒｒ　（１，３ｘ１０３気圧）程度の真
空度が必要である。反応層２２の染料ポリマーの可塑性
は被覆１０の溝噛み合わせ面２８と合致することを可能
とし、密着面でのすべての空隙を完全に除去する。多く
のこのような被覆１０が一度に１つの積層板１２に型押
され、同様に、大量生産加工において多くのこのような
型押されたディスクが積層板１２を同時から分配される
ことが考えられる。

ここで第５図を参照すると、第４図の型押表面部の型押
部分の拡大断面図が示されている。本実施例では、被覆
１０の溝（Ｇ）は、光学的反応層２２と噛み合っている
とき、０．４〜０．６μｍの幅と、０．１μｍの厚さ（
Ｄ）を有しなければならない。溝（Ｇ）間の接触面（Ｌ
）は１．０μｍで１．４〜１．６μｍのピッチ（Ｐ）を
与えなければならない。

ここで第６図を参照すると、このように構成された第１
表面光学的記録可能媒体の記録／読み出しく書き込み／
再生）の過程を図示している。典型的に、第３図に示さ
れる第２表面光学的記録可能ディスクの溝がつけられた
トラック３０上に対物レンズ４６によってレーザ・ビー
ム４５の波長の焦点が合わされている。ビーム４５は光
学的透明層１０と、ビーム４５のエネルギーがそこの染
料ポリマーと化学的反応を開始する光学的反応層２２と
を通過する。ビーム４５は、光学的反応層２２を通過し
て、反射層２０に到達し、そこでビーム４５は反射され
て再度光学的反応層２２を通過し、それによって、反応
層２２での光学的反応要素の活性度を向上させ、後で読
み出されデータとして解釈される遮光領域４８を生成す
る。

同様なより大きな重要性は、典型的な埃の粒子５０に対
する記録可能ディスクの透視能力である。もし、同一の
埃の粒子５２が光学的反応表面２２上にあったとしたら
、その埃はレーザ・ビームの伝達を十分に塞ぎ書き込み
あるいは読み出しモードいずれをも妨害することになろ
う。

以上本発明を図示の実施例について説明したが、当技術
に精通した者であれば、種々の変更、変形をなすことが
できよう。

［発明の効果］ 従来の、ディスク基板から始まり、続いて各希望する層
すなわち反射層、保護層を逐次追加していく第２表面光
学的記録ディスクを製造する従来の複数段階プロセスに
対して、本発明は、２段階プロセスのみからなる製造方
法であり、第２表面光学的記録媒体の改善された効率的
かつ経費節減の製造方法を提供する。

【図面の簡単な説明】 第１図は、ディスクの形状をした光学的に透明な被覆が
、光学的に記録可能な積層板に圧縮されることを示す図
である。 第２図は、第１図に示される加工によって得られる光学
的に記録可能なディスクの第２表面を示す図である。 第３図は、第２図の断面図である。 第４図は、被覆と積層板の圧縮型押加工を示す図である
。 第５図は、独特な本実施例の要件であるトラック溝を示
す図である。 第６図は、本発明の加工によって製造されたディスクの
記録と読みジ・みの特徴を示す図である。 ３８． ３４、 ５０、 被覆 積層板 ウェブ基板 反射層 光反応層 スピンドル・ホール 露出平面 溝噛み合わせ面 トラッキング溝 ・・・　圧力板 ・・・　弾性保護板 レーザ・ビーム 対物レンズ 遮光領域 ・・・　埃粒子 手続補正書 平成２年１１月２２日

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. （１）第２表面光学的記録構造体を製造する方法であっ
   て、 少なくとも１つの反射層と少なくとも１つの光学的に第
   １表面記録可能層を有する光学的に記録可能な積層板を
   平面配向で配置する段階と、前記光学的に記録可能な積
   層の前記第１表面上に光学的に透明な被覆のフォーマッ
   ト可能な表面を配置する段階と、 前記光学的に記録可能な積層と前記光学的に透明な被覆
   とを圧縮して永久的かつ密封された結合を形成し、フォ
   ーマット可能な第２表面光学的記録構造体を製造する段
   階と、 前記光学的に記録可能な積層板から第２表面光学的記録
   構造体を切り抜く段階と、 を備えた第２表面光学的記録構造体を製造する方法。
2. （２）前記光学的記録可能積層の板が、 少なくとも１つの支持基盤層と、 前記支持基盤層に重ねられた光学的反射層と、前記反射
   層に重ねられた光学的反応性の記録可能層と、 を備えた請求の範囲第１項記載の光学的記録構造体を製
   造する方法。
3. （３）前記支持基盤層がポリエチレンテレフタレートの
   ようなポリマーからなる請求の範囲第２項記載の光学的
   記録構造体を製造する方法。
4. （４）前記光学的反射層が金属部材からなる請求の範囲
   第２項記載の光学的記録構造体を製造する方法。
5. （５）前記光学的反応層が染料ポリマーからなる請求の
   範囲第２項記載の光学的記録構造体を製造する方法。
6. （６）前記フォーマット可能な光学的に透明な被覆が熱
   可塑性成型ポリマーからなる請求の範囲第１項記載の光
   学的記録構造体を製造する方法。
7. （７）前記光学的に透明な被覆が螺旋のトラッキング溝
   でフォーマットされた請求の範囲第６項記載の光学的記
   録構造体を製造する方法。
8. （８）前記光学的に透明な被覆が同心円のトラッキング
   溝でフォーマットされた請求の範囲第６項記載の光学的
   記録構造体を製造する方法。
9. （９）前記光学的に透明な被覆がセクタ、アドレスおよ
   び開始／終了コードに対応したデータでフォーマットさ
   れた請求の範囲第６項記載の光学的記録構造体を製造す
   る方法。
10. （１０）焦点調節された放射ビームが反射されて可変の
    反射放射領域を形成することができる少なくとも１つの
    第１表面光学的記録層を有する光学的な記録積層ウェブ
    層において、光学的に透明なカバー層を前記光学的記録
    テープ層上に重畳し、前記第１表面光学的記録層を第２
    表面光学的記録構造体に変換したことを特徴とする光学
    的記録積層ウェブ。
11. （１１）光学的な記録構造体であって、 支持層と、 前記支持層に重ね合わされた光学的反射層と、前記反射
    層に重ね合わされた光学的に反応性の記録可能な層と、 前記反応層に重ね合わされたフォーマット可能な光学的
    に透過の被覆層と、 を備えた光学的記録構造体。
12. （１２）前記支持層がポリエチレンテレフタレートのよ
    うなポリマーからなる請求の範囲第１１項記載の光学的
    記録構造体。
13. （１３）前記光学的反射層が金属部材からなる請求の範
    囲第１１項記載の光学的記録構造体。
14. （１４）前記光学的反射層が染料ポリマーからなる請求
    の範囲第１１項記載の光学的記録構造体。
15. （１５）前記フォーマット可能な光学的に透過の被覆層
    がポリカーボネートのような熱可塑性成型ポリマーから
    なる請求の範囲第１１項記載の光学的記録構造体。
16. （１６）前記光学的に透過の被覆層が螺旋のトラッキン
    グ溝でフォーマットされた請求の範囲第１５項記載の光
    学的記録構造体。
17. （１７）前記光学的に透過の被覆層が同心円のトラッキ
    ング溝でフォーマットされた請求の範囲第１５項記載の
    光学的記録構造体。
18. （１８）前記光学的に透過の被覆層がセクタ、アドレス
    および開始／終了コードに対応したデータでフォーマッ
    トされた請求の範囲第１５項記載の光学的記録構造体製
    作方法。