JPH033134A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ａ産業上の利用分野 本発明は光情報記録媒体の製造方法に関し、例えばコン
パクトディスク（ＣＤ）等の光ディスクＢ発明の概要 本発明は、光情報記録媒体の製造方法において、基板の
信号パターン層上に形成された情報記録層とカバーガラ
スとの間に、樹脂を充填した後硬化させて、カバーガラ
スを基板に接着するようにしたことにより、カバーガラ
ス側から情報記録層に記録及び又は再生し得る光情報記
録媒体を製造し得る。

Ｃ従来の技術 従来、この種の光ディスクの製造方法においては、紫外
線硬化樹脂を用いて光ディスクを複製するようになされ
た２　Ｐ　（ｐｈｏｔｏ　ｐｏｌｙＩｌｅｒｉｚａｔｉ
ｏｎ）法が提案されている（特願昭６１−１１１１９９
号、特願昭６１−１４６７３１号）。

すなわち２Ｐ法においては、まず第２図（Ａ）に示すよ
うに、記録信号に応じて微細な凹凸パターンが形成され
たディスクスタンパ１及び厚さ約１．２〔■〕程度でな
るガラス基板２間に、紫外線照射前は液状でなる紫外線
硬化樹脂３を挟むと共に、加圧ローラ（図示せず）等を
用いてガラス基板２側から加圧することにより、スタン
パ１及びガラス基板２間に紫外線硬化樹脂３を充填する
。

続いて、第２図（Ｂ）に示すように、ガラス基板２側か
ら紫外線ランプ等でなる光源ＵＶから発せられる紫外線
光Ｌｕｖを照射して、紫外線硬化樹脂３を硬化させた後
、第２図（Ｃ）に示すように、この紫外線硬化樹脂３を
ガラス基板２と共にスタンパ１から剥離する。

これにより、第２図（Ｃ）に示すように、ガラス基板２
上にスタンパ１の微細な凹凸パターンを転写した厚さ数
（μ、）〜数十〔μ蒙〕でなる信号パタ−ン転写層３Ａ
を形成する。

この戊、第２図（Ｅ）に示すように、信号パターン転写
層３Ａが形成されてなる転写ガラス基板４のビット側か
ら、例えばスパッタリングや真空蒸着又はスピンコード
等の手法を用いてアルミニウム反射層５を形成した後、
当該アルミニウム反射層５側に樹脂材料で保ＩＪ１６を
形成し、このようにしてスタンパ１の凹凸パターンに応
じたピットパターンが形成された光ディスク７を製造し
得るようになされている。

Ｄ発明が解決しようとする問題点 ところで上述のようにして製造された光ディスク７を用
いる光デイスク装置においては、記録密度を高密度化す
るため、光ディスク７に照射するレーザ光りの波長を短
くすると共に、対物レンズ８の開口率（ＮＡ（ｎｕｍｅ
ｒｉｃａｌ　ａｐｅｒｔｕｒｅ））を高くすることが行
われている。

ところが上述の光ディスク７は、ガラス基板２側に対物
レンズ８を配置し、当該対物レンズ８を通じてレーザ光
りを照射し、この結果アルミニウム反射層で反射された
反射光に基づいて信号を読み取るようになされている。

従って対物レンズ８及びアルミニウム反射Ｊｌｉ５の間
には、ガラス基板２の厚さ（＝１．２　　（ｆｆｉｆｆ
ｉ））に信号パターン転写層３Ａの厚さ（＝数〔μＩ〕
〜数十〔μ―〕）を加えた間隔が最低限存在し、このた
め対物レンズ８の高ＮＡ化が実際上困難であった。

この問題を解決するため光ディスク７のガラス基板２を
薄型化することが考えられるが、このようにすると、光
ディスク７の表面の傷や塵がアルミニウム反射層５に大
きな影響を与えると共に、ガラス基板２の反りが増加す
ることにより、光ディスク７のスキュー量が増大する問
題がある。

またこれに加えて、このような場合製造方法によっては
、複屈折の増加が予想されると共に、アルミニウム反射
層５の周囲の環境変化に対する耐久性が劣化するおそれ
もあり、解決策としては−未だ不十分であった。

本発明は以上の点を考慮してなされたもので、簡易な工
程で高密度記録に適した光情報記録媒体を製造し得る光
情報記録媒体の製造方法を提案しようとするものである
。

Ｅ問題点を解決するための手段 かかる問題点を解決するため本発明においては、基板２
上に微細な凹凸パターンでなる信号パターン層３Ａを形
成し、信号パターン層３Ａ上に所定の情報記録層５を形
成し、基板２の情報記録層５側と、所定の厚みを有する
ガバーガラス１０との間に樹脂１１を充填した後、その
樹脂１１を硬化させ、カバーガラス１０を基板２に接着
するようにした。

Ｆ作用 基板２の情報記録層５とカバーガラス１０との間に、樹
脂１１を充填した後硬化させて、カバーガラス１０を基
板２に接着するようにしたことにより、カバーガラス１
０側から情報記録層５に記録及び又は再生し得る光情報
記録媒体１２を製造し得る。

Ｇ実施例 以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。

第１図は本発明による光ディスクの製造方法を示し、ま
ず第１図（Ａ）に示すように、２Ｐ法（第２図（Ａ）〜
（Ｄ））によって信号パターン転写１１３Ａが形成され
た転写ガラス基板４の信号パターン転写ｊｉｉｓＡ上に
、スパッタリング等の手法でアルミニウム反射層５を形
成する。

続いて、転写ガラス基板４のアルミニウム反射１ｉ５側
に、厚さ５０〜２００〔μｍ〕でなる薄型カバーガラス
１０を配し、この転写ガラス基板４及び薄型カバーガラ
ス１０間に、数センチポアズ−数十センチポアズの粘度
の液状でなる紫外線硬化樹脂１１を挟んだ後、加圧ロー
ラ（図示せず）を用いて薄型カバーガラス１０側から加
圧することにより、転写ガラス基板４及び薄型カバーガ
ラス１０間に紫外線硬化樹脂１１を充填する。

続いて、第１図（Ｂ）に示すように、光源ＵＶから発せ
られる紫外線光ＬＬＩＶを照射して紫外線硬化樹脂１１
を硬化させ、厚さ数〔μｍ〕でなる透明ＵＶ接着層１１
Ａを形成し、この結果、薄型カバーガラスｌＯを転写ガ
ラス基板４に接着する。

これにより、第１図（Ｃ）に示すように、薄型カバーガ
ラス１０及び透明ＵＶ接着層１１Ａを通じて、アルミニ
ウム反射ｊ！１５０ビットパターンを再生し得る光ディ
スク１２を製造するようになされている。

なお、上述のようにして製造された光ディスク１２に対
して、薄型カバーガラスｌＯ側に配置した対物レンズ１
３を通じてレーザ光りを照射する場合、対物レンズ１３
はアルミニウム反射層５に対して、薄型カバーガラス１
０の厚さ（＝５０〜２゜Ｏ〔μｍ〕）に透明ＵＶ接着層
１１Ａの厚さ（＝数〔μｍ））を加えた間隔まで接近さ
せることができる。

かくして、この光ディスク１２を用いる光デイスク装置
においては、対物レンズ１３を従来に比較して一段とア
ルミニウム反射層５に接近させることができることによ
り、対物レンズ１３として一段と高いＮＡを有するもの
を用いることができ、かくするにつき、従来に比して一
段と高密度記録が可能な光ディスク１２を得ることがで
きる。

以上の方法によれば、転写ガラス基板４上のアルミニウ
ム反射層５と薄型カバーガラス１０との間に、樹脂１１
を充填した後硬化させて薄型カバーガラス１０を転写ガ
ラス基板４に接着するようにしたことにより、薄型カバ
ーガラス１０側からアルミニウム反射ｒｆｉ５を再生し
得る光ディスク１２を製造し得、か（するにつき、対物
レンズ１３及びアルミニウム反射層５間の間隔を、従来
に比して格段的に短くすることにより、対・物レンズ１
３の高ＮＡ化を可能にし得、かくして、簡易な工程で高
密度記録再生が可能な光ディスク１２を製造し得る光デ
ィスクの製造方法を実現できる。

さらに上述の方法によれば、アルミニウム反射Ｗｉ５の
対物レンズ１３側にカバーガラス１０を接着−・メるよ
うにしたことにより、平坦性、透明性に優れると共に、
透湿しに（くかつ傷や汚れに強い光ディスクを製造し得
る。

また上述の方法によれば、基板として従来同様のガラス
基板を用いるようにしたことにより、面振れやスキニー
の発生を未然に防止し得る。

さらに上述の方法によれば、薄型カバーガラス１０及び
透明ＵＶ接着層１１Ａを通じて、アルミニウム反射層５
のビットパターンを再生するようにしたことにより、複
屈折の発生を有効に除去し得る光ディスク１２を製造で
きる。

なお上述の実施例においては、基板としてガラス基板を
用いた場合について述べたが、本発明はこれに限らず、
基板側からレーザ光を照射する必要のないことから、セ
ラミックスや金属等積々の材質の基板を用いても上述の
実施例と同様の効果を実現できる。

また上述の実施例においては、転写ガラス基板４及び薄
型カバーガラス１，０間に紫外線硬化樹脂１１を挟んで
充填する場合について述べたが、本発明はこれに限らず
、予め紫外線硬化樹脂１１を転写ガラス基板４又は薄型
カバーガラス１０側に塗布しても良く、さらに薄型カバ
ーガラス１０に予めシランカップリング処理を施すよう
にしても良い。

また上述の実施例においては、本発明による光ディスク
として、光ディスクの片側からレーザ光を照射してアル
ミニウム反射層の情報を再生するものに適用したが、こ
れに限らず、基板に対して両面に２Ｐ法によるアルミニ
ウム反射層を形成し、この両面のアルミニウム反射層上
にそれぞれ薄型カバーガラスを接着して、光ディスクの
両側からレーザ光を照射してアルミニウム反射層の情報
を再生するようにしても良い。

また上述の実施例においては、２Ｐ法を用いて信号パタ
ーン転写層でなる信号パターン層を形成した場合につい
て述べたが、信号パターン層はこれに限らず、イオンエ
ツチング等により形成するようにしても上述の実施例と
同様の効果を実現できる。

また上述の実施例においては、本発明をコンパクトディ
スク等の光ディスクの製造方法に適用したが、これに代
え光磁気ディスク等他の光ディスクの製造方法にも適用
し得る。

因みに、光磁気ディスクを製造する場合には、情報記録
層としてアルミニウム反射層に代え、スパッタリング等
で垂直磁化膜を形成すれば良く、この場合対物レンズ側
から外部磁界を印加するようにすれば、磁気ヘッド及び
垂直磁化膜間の間隔を一段と短縮し得、かくして外部磁
界として低磁界のものを用いることができることにより
、光磁気ヘッドの構成を一段と簡略化し得る。

さらに上述の実施例においては、本発明を光ディスクの
製造方法に通用したが、本発明はこれに限らず、光カー
ド等地の光情報記録媒体の製造方法に広く適用して好適
なものである。

Ｈ発明の効果 上述のように本発明によれば、基板の信号パターン層上
に形成された所定の情報記録層と所定の厚みを有するカ
バーガラスとの間に、樹脂を充填した後硬化させて、カ
バーガラスを基板に接着するようにしたことにより、カ
バーガラス側から情報記録層に記録及び又は再生し得る
光情報記録媒体を製造し得、かくして、簡易な工程で高
密度記録に適した光情報記録媒体を製造し得る光情報記
録媒体の製造方法を実現できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による光ディスクの製造方法
を示す路線図、第２図は２Ｐ法による光ディスクの製造
方法を示す路線図である。 １・・・・・・スタンパ、２・・・・・・ガラス基板、
３．１１・・・・・・紫外線硬化樹脂、３Ａ・・・・・
・信号パターン転写層、５・・・・・・アルミ−ニウム
反射層、８．１２・・・・・・光ディスク、１０・・・
・・・薄型カバーガラス。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基板上に微細な凹凸パターンでなる信号パターン層を形
   成し、 上記信号パターン層上に所定の情報記録層を形成し、 上記基板の上記情報記録層側と、所定の厚みを有するカ
   バーガラスとの間に、樹脂を充填した後、当該樹脂を硬
   化させ、上記カバーガラスを上記基板に接着するように
   した ことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。