JPH04147419A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体に関する。

従来の技術 記録再生機器の小型化、高性能化の為に記録密度向上の
努力は継続的に行われており、最近では強磁性金属薄膜
を磁気記録層として実用化することが待望されるに至っ
ている［ＩＥＥＥ　　ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ　　Ｏ
Ｎ　　ＭＡＧＮＥＴＩＣ３Ｖｏ１．ＭＡＧ−２１，Ｉｌ
ｂ、３．ｐ、ｐ、１２１７〜１２２０　（１９８５）］
。強磁性金属薄膜は材料としての組合わせは多数考えら
れるが、現実的な可能性が示されているものは少く、Ｃ
ｏ−Ｃｒ等の垂直磁化膜［特公昭５８−９１号公報、特
開昭６１−１２０３３１号公報］やＣｏ−Ｎｉ、Ｃ。

Ｎｉ−０等の斜め蒸着膜や湿式めっき膜［特公昭４１１
９３８９号公報、特開昭５３−４．２０１０号公報］等
で、実用化の目的で最近ではもっばら保護潤滑層の開発
が検討の中心となっている。現状ではポリエチレンテレ
フタレートフィルム等の高分子フィルム上に直接あるい
は微粒子などの下塗りを行った後、電子ビーム蒸着法や
スパッタリング法で強磁性金属薄膜を配し、その面に直
接溶剤に脂肪酸やパーフルオロポリエーテル等の潤滑剤
を溶かした溶液を塗布乾燥する法［特開昭５７１７９９
４８号公報、特開昭６１−１７８７１８号公報］や、酸
化膜を介して潤滑剤を配する［特開昭６１−１５１８３
０号公報］ことや、炭素膜とフロロカーボン系の組み合
わせ［特開昭６１１４２５２５号公報１等が提案され、
磁気ディスクではまだ炭素膜が厚いとはいうものの一部
実用化され、炭素質についても検討が進み硬度を高める
ことの有用性［米国特許４７１７６２２号公報］も知ら
れるに至っている。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、粒子塗布面に形成した強磁性金属薄膜で
より高密度記録を進め、とりわけ狭トラツク記録を行う
と、クロストーク量が増大し、単一オントラック状態で
得られるピュアな高Ｃ／Ｎが実機で得られないといった
課題があり、改善が望まれていた。

本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、耐久性の
ある粒状性を示す磁気記録層での狭トラツクＣ／Ｎを改
善した磁気記録媒体を提供するものである。

課題を解決するための手段 上記した課題を解決するため本発明の磁気記録媒体は、
磁気記録層を構成する柱状微粒子の微粒子径が、平滑部
の粒子径に比して、粒状部の粒子系を１．５〜３倍の範
囲内であるよう構成したものである。

作用 本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により、磁気特
性の微視的均一性が、実質的に確保でき、狭トラツク化
されてもＣ／Ｎの改善がはかれるものである。

実施例 以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について説
明する。第１図は本発明の要部拡大断面図である。図で
１はポリエチレンテレフタレート。

ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリフェニレン
サルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエー
テルサフォン、ポリイミド、アラミド等の高分子フィル
ムで、２はＳ　ｉ　０２．Ｔ　ｉ　０２゜Ａｅ２０３．
Ｅｕ２Ｏ３，Ｓｎ○２．　Ｃｒ２０３．　ＷＯ２等の微
粒子で、３はポリエステル、ポリウレタン、ポリスルフ
ォン等の固定樹脂である。

微粒子２は、８０Ａ〜３００人の範囲で用いられ、密度
は５ケ／μ２〜１００ケ／μ２の範囲が好ましい。

４．５は磁気記録層を構成する柱状微粒子で、４は、平
滑部に成長した柱状微粒子Ａで、５は上記した微粒子２
の影響を受けて成長した柱状微粒子Ｂである。４と５に
は、粒径に於て好ましい範囲があり、４の粒径をｄｌ、
５の粒径をｄ２とした時ｄ＋／ｄ２が１．５から３の間
が後述するように高密度記録性能面から要請されること
である。ここで粒径の定義は高分解能走査型電子顕微鏡
、高エネルギー透過型電子顕微鏡等で柱状微粒子構造を
固定した時に、膜厚をｔｏとした時に表面より０．１ｔ
ｏの位置での直径に相当するものとする。

こう定義した粒径は、３０Ａから２００Ａの範囲で、上
記した関係を満足することで本発明の効果を十分得るこ
とができるものである。

ｄ２／ｄ＋の制御は、粒状部でのＣｏ、Ｃｏ−Ｎｉ。

Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｍｏ等の蒸着原子の易
動度を、平滑部と同じか、それに近づけることで行える
。その為の方法として一例を挙げれば、酸素トラップ効
果の大きいＡｅを高分子フィルムに対して９０’〜７０
’の高入射角範囲内で計算上の膜厚を５〜２０Ａ程度蒸
着してから、酸素中でＣｏ、Ｃｏ−Ｎｉ等を３０００人
／　ｓ　ｅ　ｃ以上、好ましくは５０００Ａ／ｓｅｅ以
上で蒸着する方法がある。加えて、高分子フィルムを支
持するキャンを一３０’Ｃ〜−４０℃に冷却することで
も制御できる。

以上のべた構成要素に加えて、保護潤滑層は、プラズマ
重合膜、酸化膜、炭素膜、脂肪族アルコール、パーフル
オロカルボン酸、パーフルオロポリエーテル等の組み合
わせの中で、スペーシング損失を考慮して、５０Ａ〜２
００八で優れた耐久信頼性の得られる構成を選べばよい
。バックコート層も必要であれば配するこ七も当然性わ
れることである。

以下、更に具体的に本発明の実施例について比較例との
対比で説明する。

厚み１０μｍの平均粗さ２０Ａ、最大粗さ４０Ａの特別
に内在粒子を持たない平滑なポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に、直径１５０Ａの超遠心分離５ｉ０２微
粒子を２０ケ／μ２．ポリエステル樹脂で固定し、その
面を０．０８　（Ｔｏ　ｒ　ｒ）［初期排気３Ｘ１０　
’　（Ｔｏｒｒ）　］の酸素分圧で、１５　（ｋＷ２＞
　６００　（Ｗ）のグロー放電処理を２秒間行ってから
、Ａｅを電子ビーム蒸着した。

その上に直径１ｍの円筒キャンに沿わせて、最小入射角
と、酸素導入量、キャン温度を夫々、１０”〜５８°、
０．１１〜１．３　（ｅ　／ｍ１ｎ）、−３５℃〜＋３
０℃の範囲で変化させ、Ｃｏ−Ｎｉ　（Ｎｉ：　２０ｗ
ｔ％）を０．１７　ｔｔｍ電子ビーム蒸着し、粒子系を
変化させ、磁気記録層を形成した。

比較例の一部はＡｅ処理なしで常法によった。夫々の磁
気記録層形成後、その表面にパーフルオロポリエーテル
リルイルを約４０Ａ塗布し、反対面に０．４μｍのポリ
エステルとＣａＣｏＯｓ、カーボンの混合フィラー（１
：　１）を重量で同じ配合の塗布液を塗布乾燥して得た
バックコート層を配し、８ミリ幅の磁気テープとした。

夫々を８ミリビデオを改造し、狭トラツクＣ／Ｎを訂価
し、あわせてスチル耐久性についての任意の１０ケ所で
評価した。磁気記録媒体の構成要件と、特性を第１表に
まとめて示した。

ミ駅ｍ啄ｊ 第１表よりわかるように、ｄ２／ｄＩが１．５以下では
、スチル耐久性の面で弱（なり、３．０以上では狭トラ
ツクＣ／Ｎで特性が劣化するので、１．５から３の範囲
で構成するのが好ましいといえる。

次にＣｏ−０垂直磁化膜の例について説明する。

厚み９μｍのアラミドフィルム（平均粗さ２５人。

最大粗さ３５人）の表面にＣｏ−Ｆｅ微粒子（微粒子径
１００Ａ、Ｃｏ１Ｆｅ＝４５：５５ａｔ％〉を３０ケ／
μ２配した。固定樹脂はポリアミドで均一膜厚換算で、
２ＯＡとした。表面をＡｒ０．０９（Ｔｏ　ｒ　ｒ　）
　１３．５６　（ＭＨｚ）　、　１　（ｋＷ）でスパッ
タエツチングして、Ｃｏ−Ｆｅ表面を露出させ、粒径制
御範囲を広く行うようにした。

直径５０ｃｍの円筒キャン（キャン温度−１０℃〜＋１
５０℃）に沿わせて、Ｃｏを入射角３５度から１２度の
範囲で電子ビーム蒸着し０．２μｍのＣｏ−０垂直磁化
膜を形成した。酸素ガスは入射角１２度を限定するマス
クの先端部のノズルより り導入し、入射角３５度を限定するマスク部の先端のノ
ズルよりＨｅガスを導入し、柱状粒子径を調整した。Ｃ
ｏ−０膜状にパーフルオロポリエーテルステアリルアミ
ドを約５０人塗布し、０．４μｍのバックコート層を配
し、８ミリ幅のテープに加工した。比較例は、直径１２
０ＡのＣｒ２Ｏ３微粒子を２５ケ／μ２塗布し、スパッ
タエツチングなしで、Ｃｏ−０膜を形成した以外は実施
例と同じ条件で製作したものを用いた。

夫々のテープをビット長０．１７μｍ、）ラックピッチ
１０μｍと５μｍでＣ／Ｎを相対比較した結果を第２表
に示した。

（以　下　余　白） ■ 既にのべた実施例の他にも、スパッタリング法で形成し
たＣｏ−Ｃｒ　（Ｃｒ２０ｗｔ％）垂直磁化膜、電子ビ
ーム蒸着法で形成したｃｏ−Ｏ斜め蒸着膜の２層構成の
もの等でも同様の効果を確認した。

発明の効果 以上のように本発明によれば、狭トラツク化による高密
度記録に於いても良好なＣ／Ｎを得ることができ、耐久
性も実用域に保持できるといったすぐれた効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の要部拡
大断面図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気記録層を構成する柱状微粒子の微粒子径が平滑部の
   粒子径に対して、粒状部の粒子径が１．５〜３倍の範囲
   であることを特徴とする磁気記録媒体。