JPH02240825A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体及びその製造方法に関する
。

従来の技術 記録再生機器の小型化、高性能化の為に記録密度向上の
努力は継続的に行われており、最近では強磁性金属薄膜
を磁気記録層として実用化することが待望されるに至っ
ている　アイイーイーイートランザクシ冒ンズオンマグ
ネティクス（（Ｘ１ｔ’ＥＥＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮ９
　ＯＮ　ＭＡＧＮｋＴＩＣ８）ｖｏｌ、　ＭＡＧ−２１
、Ｎｏ　−３、ｐ、９．　１２１７〜１２２０（１９８
５））。強磁性金属薄膜は材料としての組合わせは多数
考えられるが、現実的な可能性が示されているものは少
＜、Ｃｏ−０ｒ等の垂直磁化膜〔特公昭５Ｂ−９１号公
報、特開昭６１−１２０３３１号公報〕やＣｏ−Ｎｉ。

Ｃｏ−Ｎｉ−０等の斜め蒸着膜や湿式めっき膜〔特公昭
４１−１９３８９号公報、特開昭６３−４２０１０号公
報〕等で、実用化の目的で最近はけもっばら、保護潤滑
層の開発が検討の中心となっている。現状ではポリエチ
レンテレフタレートフィルム等の高分子フィルム上に直
接あるいは微粒子などの下塗りを行った後、電子ビーム
蒸着法やスパッタリング法で強磁性金属薄膜を配し、そ
の面に直接溶剤に脂肪酸やパーフルオロポリエーテル等
の潤滑剤を溶かした溶液を塗布乾燥する法〔特開昭６７
−１７９９４８号公報、特開昭６１−１７８７１８号公
報〕や、酸化膜を介して潤滑剤を配する〔特開昭６１−
１５１８３０号公報〕ことや、炭素膜とフロロカーボン
系の組み合わせ〔特開昭６１−１４２５２５号公報〕等
が提案され、磁気ディスクではまだ炭素膜が厚いとはい
うものの一部実用化され、炭素質についても検討が進み
硬度を高めることの有用性〔米国特許４７１７６２２号
明細書〕も知られるに至っている。

上記した多くの試みの中で、現状量も磁気記録媒体とし
てバランスのとれている構成は、微粒子塗布層上に、円
筒キャンに沿わせて、ｅｏ度入射から入射角を連続的に
変化させ最小入射角まで。

主として酸素を導入しなからＣｏ−Ｎｉ等を電子ビーム
蒸着して得られるもので、柱状微粒子は。

わん曲し、厚み方向に粒子径が大きくなっているのが特
徴的である〔実務表面技術Ｖ０１，２９．＆１゜７０〜
７６（１９Ｂ２）参照〕 発明が解決しようとする課題 しかしながら上記した構成では、記録波長をＯ，Ｓμｍ
以下にまで短縮していこうとした時、Ｃ／Ｎと耐久のバ
ランスがくずれてくる。即ち、スペーシング損失を改善
するため、酸素を調整し１表面酸化層を薄くシ、微粒子
塗布層の微粒子直径を小さくすると、走行性、スチル特
性が不十分となるといった課題があり、改善が望まれて
いた。

本発明は上記した事情に鑑みなされたもので。

Ｃ／Ｎ改善を耐久性を犠牲にせずに行うことのできる磁
気記録媒体及びその製造方法を提供するものである。

課題を解決するだめの手段 上記した課題を解決するため本発明の磁気記録媒体は、
微粒子塗布層上に構成する柱状微粒子をわん曲しかつ、
厚み方向にその粒子径を一定となるようにしたものがそ
のひとつであり、従来と類似のわん曲し、かつ厚み方向
でその粒子径が太きくなる形状を持つが、スパッタリン
グ法で形成することで得られたものを強磁性金属薄膜と
して用いることもそのひとつである。

作用 本発明の磁気記録媒体は上記した構成により。

リングヘッド磁界による磁化での磁界に乱れが生じにく
いので保磁力を大きくしても狭ギャップでの記録効率が
よく、かつ雑音となる磁化の乱れも生じにくくなる。即
ち、柱状微粒子がわん曲することで磁界に近似させるこ
とができ、かつ粒子径が厚み方向で一定し、ち密に柱状
微粒子が並ぶので全磁化量を大きくでき、磁化の乱れも
最小にできる。又一方従来と類似の形状であってもスパ
ッタリング法で形成することで、ち密さが向上し、粒界
のすき間が上述した構成の関係に近づき、磁化効率もよ
くなり、雑音も改善されることになるのである。

実施例 以下１図面を参照しながら１課題を解決する方法につい
て順次説明する。

実施例１ 第１図は本発明の第１の実施例の磁気記録媒体の拡大断
面図である。第１図で１はポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファ
イド、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケトン、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等の高分子
フィルムで。

２は微粒子塗布層で用いられる微粒子は、ム４０５＋Ｔ
ｉｅ、、０ｒ２０．．Ｔａ２０６．Ｋｕ２０３．ＳｉＯ
２゜カーボン、ポリエステル球、ポリイミド球、高分子
ラテックス等で６０人から３００人の範囲の直径の微粒
子を、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ
樹脂等により０．０１〜１００ケ／（μｌ１１）２　の
密度で分散固定したものである。

３はＣｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔａ。

Ｇｏ−Ｗ、Ｇｏ−Ｍｏ、Ｇｏ−０，Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−８
ｉ。

Ｇｏ−Ｒｕ、Ｃｏ−０ｒ−Ｎｂ、Ｃｏ−Ｎｉ−０゜Ｃｏ
−Ｎ１−Ｐ等の強磁性金属薄膜で、特徴的なことは、構
成する柱状微粒子４が厚み方向に、その粒子径が一定し
ていることと、わん曲していることで、特にわん曲の仕
様については、ギャップを狭くした磁気ヘッドの形成す
る磁界分布を考慮し最適設計していくことが、より本発
明の効果を大きくするといえる。粒子径は１００人〜６
００人が好ましく、かかる構成を得るには、成長時の温
度制御と、蒸着速度の入射角分布をほぼ一定になるよう
にする方法が有効で、これについては後で述べる。６は
保護潤滑層で、プラズマ重合膜。

ｓｉｃ膜、８ｉ０２膜、炭素膜、脂肪酸、フッ素オイル
等公知の材料から任意に選ぶことができ。

スペーシング損失と耐久性のバランスのよいもので最適
化すればよい。６はバックコート層でこれについても公
知の材料、製法の中より選べばよい。

第２図は、上記した磁気記録媒体を製造するのに用いた
蒸着装置の要部構成図である。第２図で７は円筒状のキ
ャンで、８は高分子フィルムであらかじめなんらかの処
理を行ったものも含まれる。

９は送り出し軸、１０は巻取り軸である。１１は蒸発源
、１２は電子ビーム発生器、１３は加速電子ビーム、１
４は限定された蒸気流、１６は入射角を限定するマスク
で、１６は輻射加熱源、１７は遮へい板、１８はフリー
ローラー、１９は真空槽、２０はガス導入調節弁、２１
は真空排気系である。第２図で円筒状キャンの半径をｒ
、キャン中心０より真下におろした線より蒸発源の中心
までの距離をｄとした時、ｄをｒより大きくとり。

かつ温度制御を蒸発源１１からの輻射と輻射加熱源１６
とで行い、蒸気流の角度毎の量をより均一化し、モビリ
ティ−をより均一化することで、わん曲しかつ、柱状粒
子径を一定化するようにすることができる。但し、第２
図の装置は一例であって１回転ベルトを入射角が変って
も蒸着速度が一定になるように設計し、そうした回転ベ
ルトに高分子フィルムを静電吸着させ蒸着するようにし
てもよい。

以下、更に具体的に本発明の実施例について。

比較例との対比で説明する。

厚み１０μｌのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、直径１４０人の５ｉｎ２微粒子を３６ケ／（μｍ）
２配し、その上に第２図の装置で円筒キャンの半径を２
５ｃ＋＋ｙとし、ｄを３０〜３８個としｌＭｇＯ容器に
ＣｏＮｉ（Ｃｏｓｏｗｔ％）を配した蒸発源を最大出力
３０ＫＶ、２６０ＫＷの電子銃で加熱蒸発させ、輻射加
熱源として、最大１２ＸＷの加熱源を配し、Ｃｏ−Ｎｉ
を酸素分圧３　Ｘ　１０−５〜７　Ｘ　１　ｏ−’　Ｔ
ｏｒｒの範囲内で蒸着し、わん曲した柱状微粒子が厚み
方向に径がほぼ一定となるようにＣｏ−Ｎｉ−０微粒子
から成る強磁性金属薄膜を形成し、その上にモノマーガ
スとして０４Ｆ８を用い０．１　Ｔｏｒｒ　、　２００
　ＫＨｚ　、　１．２ＸＷでプラズマ重合膜を６０人形
成し、更にパーフルオロポリエーテルとして市販のモン
テフルオス社製“フォンブリンＺ−２６−を０．３５１
１ｑ／ｍ”塗布し、バックコート層を０．４μｌを配し
、８ミリテープとした。比較例は（１＝　２２　ｃｍ角
とし、輻射加熱源を動作させずに蒸着したものを用いた
。

夫々のテープの膜厚は１８００人一定とし、保磁力も１
ｏｅｉｏｏｅ一定とし比較した。特性は。

ギャップ長０．２μ嘗のセンダストスパッタ膜をギャッ
プ部に配したメタルインギャップ型リングヘッドにより
、トラックピッチ１０μｍ、記録波長０．３７μｍを記
録し再生０７Ｎを比較した。薄膜の条件と得られた特性
について比較した結果を第１表にまとめて示した。尚ス
チル特性は、出力が３　ｄＢ低下するまでの時間でスチ
ルした環境は２０℃６６１■である。

（以下　余　白） 第１表より明らかなように柱状微粒子が厚み方向で測定
精度内で一定の粒子径となるように構成することで、強
磁性金属薄膜がち密になることで。

耐久性も改善されるのと、Ｏ／Ｈも短波長では大幅に向
上することがわかる。

実施例２ 本発明の課題を解決する別の手段は１強磁性金属薄膜が
２層構成から成り、少くとも２層目は粒状微粒子がわん
曲し、粒子径が厚み方向で一定しているようにすること
である。本発明の磁気記録媒体は上記した構成により、
磁区の大きさを小さくできるので雑音が改善されるのと
ヘッドに近い２層目が少くとも実施例１で述べたと同様
の構成となっていることで、磁化効率もよく、薄膜表面
側からみるとち密性が良好となることで１表面磁荷も増
大するのと、保存特性も耐久性も向上させることができ
ることになる。第３図は本発明の磁気記録媒体の拡大断
面図である。第３図で亀は２層共、わん曲した微粒子の
粒子径が厚み方向で一定となる柱状微粒子３１．３２か
ら成る場合を模式的に示したもので、第３図すは、１層
目は従来から知られるわん油微粒子３３に２層目として
、厚み方向で一定粒子径をもつわん曲した柱状微粒子を
積層した構成の例である。いずれの場合もわん曲する状
態は、同じ方向に積層するものとする。

以下、更に具体的に本発明の実施例について比較例との
対比で説明する。

実施例１と同じ条件のフィルムを用いて、厚み１８００
人を分割（２層）して蒸着し、他は同じ構成で８ミリテ
ープを試作した。やはり保磁力は１０５００ｅ一定とな
るよう調整した。初期Ｃ／Ｎは実施例１で採用した比較
例の２段目にのせてるテープをやはり０（ｉＢとして相
対比較した。テープの構成条件と特性についてまとめた
結果を第２表に示した。

（以下　余　白） 第２表にみられるように、２層構成にすることで雑音が
低くなりＣ／Ｎ改善がみられる点は共通し比較例にも現
れているが、０７Ｈの絶対値の差及び保存後の耐久性に
ついては本発明品の有価値性は大きい。

実施例３ 本発明の課題を解決するための別の手段は１強磁性金属
薄膜がスパッタリング法で形成された柱状微粒子から成
り、その柱状微粒子がわん曲しかつ厚み方向に粒子径が
太きくなっている構成としたものである。

本発明の磁気記録媒体は上記した構成により。

同じ膜厚であってもよりち密な強磁性金属薄膜となるこ
とから磁束量が増大するのと、わん曲した柱状微粒子の
保磁力を大きくして自己減磁を減らしてもヘッド磁界に
近似されるので磁化効率もよく、再生出力を大きくでき
るのと、横方向の結合が強いので耐久的にみても改善さ
れる。

第４図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図である。又
第６図は本発明の実施例の磁気記録媒体を製造するのに
用いたスパッタリング装置である。

第４図で、３６はわん曲した柱状微粒子で１表面側の粒
径が大きくなっていて、成長初期側には微小な９歇（ボ
イド）３６が存在するものである。

後述するように従来知られる斜め蒸着膜にみられるボイ
ドに対してその体積は著しく小さいことが本発明の特徴
である。かかる構成を得るのに用いた装置の一例は第６
図に示したようなスパッタリング装置であって、第６図
で８は高分子フィルム、９は送り出し軸、１０は巻取り
軸、２２はターゲットで、ターゲットの中心と円筒キャ
ン７１の中心０から引いた垂線との距離ｌを調整し、ス
パッタ原子流２３を最適化するように配置されたもので
ある。

第６図の装置で、具体的に試作した磁気記録媒体につい
て比較例との対比で説明する。

直径６０αの円筒キャン７１の真下から、送り出し軸側
へ、１８ｃｌｎにターゲット中心を配し、ターゲットを
フィルムの移動方向の長さ１２錦とし。

キャン直下距離７ｃＷＩに配し、ターゲットの図示した
エツジと、マスク１６のエツジを結んだ線上の入射角ｅ
　ｗｉｎ　　を変化させテープを試作した。

厚み１０μｌの芳香族ポリアミドを用い１表面に１０ケ
／（μ重）２のボリイξド粒子（直径１２０人）を塗布
し、２１０℃に加熱した円筒キャンに沿わせ移動しなが
ら、ＣｏＣｏ−１ｒ（Ｃｏ８８％）をムｒ＝５Ｘ１０　
　ＴＯｒｒ、１３．６６Ｍ）１ｚ、１．９ＫＷでスパッ
タリングしｏ、１ｓμｍ（７）ｃｏ−ｃｒスパッタ膜を
形成した。その上でパーフルオロポリエーテル“７オン
ブリンｚ−２６“を０．６　ｗｉｌｒｄ塗布し８ミリテ
ープにした。比較例はターゲノ）の代わりに１円筒キャ
ン直下２０ｃ！１１、ｌ＝１８ｃｍに蒸発源中心を置い
て、電子ビーム蒸着法でＣｏ−０ｒ（Ｃｏ：ａａｗｔ％
）Ｉｌｌを０．１５　μＮ形成したものを用いた。

粒径は表面粒子径Ｄｓとフィルム表面から躾厚方向に３
００人の位置での粒子径Ｉ）ｉとで代表さセタ。夫々の
テープを改造した８ミリビデオにより特性比較をした。

ギャップ長０．２４μｍの積層合金型ヘッドにより、ト
ラックピッチ１０μｍ。

ｙ　ＭＨｚでのＣ／Ｎを比較し、常温常湿でのスチル耐
久性と走行耐久性を比較した結果とテープのパラメータ
を第３表に示した。スチルは出力が３ｄＢ低下するまで
の時間で、走行耐久性は出力が１＋１８低下する１２０
分長デープのくり返し走行回数である。

（以下余　白） 表より明らかなように１本発明によれば１粒子径でみら
れる差はさほど大きくないにも拘らず。

Ｃ／Ｎには大きな差がみられ、耐久性に於ても差がはっ
きりしているのは、膜のち密さが、連続的に特性にきく
のではなくて、ある臨界的な値をこえると、Ｃ／Ｎや耐
久性に改善寄与が明確化するものと推察されるが、今の
ところ明確なメカニズムの解明に至っていない。

第３表では常温常湿で比較したが、他の環境条件でも耐
久性を改善するために、大気中で昇温ローラに沿わせて
、酸化膜を表面に配する処理を行っての比較を行ったと
ころ、耐久性に顕著な改善効果のみられた４０℃１ｏ％
ＲＨでのスチル特性をみると、第３表の実施例１に対し
、２５０℃で１０８１５０処理したものは、Ｃ／Ｎが１
（ｉＢ低下したが、スチル時間は、２０分から７４分に
なったのに比し、比較例１は、やはりＣ／Ｎは１ｄＢ低
下し、スチル改善は１３分から３７分にとどまった。

この結果からも走査電顕で断面写真をとって径を評価し
た値の差から、はかれない、ち密さの違いが生じている
ものとの推察がなされるのである。

以上のように本発明によれば、耐久性とＣ／Ｎの改善さ
れた磁気記録媒体をうろことができる。

尚Ｃｏ−Ｃｒ以外に、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｇｏ−Ｔａ、Ｃｏ−
Ｒｕ。

Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｒｈ、Ｃｏ
−Ｎｂ。

Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｎｉ−０ｒ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｖ等ノヨう
に電子ビーム蒸着法では、成分比を一定にする上で蒸発
源の制御に困難を伴う材料で磁気記録層を構成するのに
本発明はより有用性が大きいといえる。

実施例４ 実施例３は自己減磁に起因した損失があり、より短波長
化を進める上で、（ｊ／Ｎ確保に限界が生じるが、より
優れた短波長０７Ｎと耐久性を兼ね備えた磁気記録媒体
の構成について説明する。

本発明の磁気記録媒体は上記した課題を解決するため１
強磁性金属薄膜がわん曲した柱状微粒子から成り、ヘッ
ド磁界に近似された残留磁化を持つことを特徴とするも
のである。

本発明の磁気記録媒体は、垂直磁化膜で知られるような
自己減磁からの解放には至っていないものの、従来用い
られてきている長手記録媒体に比較すると、垂直磁化膜
に近づけることのできるものである。そのためには、垂
直磁化膜の形成される条件１例えばＣｏ−０ｒ、Ｃｏ−
Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔａ。

Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｖ等に於て、Ｏｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｍ
ｏ。

Ｖ等の磁性をうすめる元素を略１８〜２２　ｗｔ４添加
することや、スパッタリング法で成膜するか。

電子ビーム蒸着であれば、フィルム温度を２００℃以上
に加熱するか等の条件に類似の条件で、かつよりち密で
柱状微粒子をわん曲した形状に構成すればよい。

以下、更に具体的に本発明の磁気記録媒体の実施例３の
磁気記録媒体に対する改善度について説明する。

実施例３でＧｏ−Ｏｒ（Ｃｏ　：ｓａｗｔ％）をＣｏ−
＋０ｒ（Ｃｏ：ｓａｗｔ４）とＣｏ−Ｒｕ（Ｃｏ：８１
ｗｔｊ）に置きかえ他は同じ条件でテープを試作し。

ギャップ長０．１６μｍでトラツクピッチ１０μ目周波
数１１　ＭＨ２でのＯ／Ｎを評価した。電子ビーム蒸着
法（フィルム加熱２２０℃）でもほぼ同等の結果が得ら
れたが、ここではスパッタリング法で形成した場合につ
いて説明する。テープのパラメータとＣ／Ｈについて第
４表にまとめて示した。

（以下余　白） 第４表より１本発明は短波長でより改善されたＣ／Ｎを
与えることができることがわかるが耐久性は実施例３で
のべたと同等であり、酸化処理の効果も同様である。以
上のように本発明によれば、みかけ上の磁気特性には大
差ないが、Ｃ／Ｎが改善されているのは磁化の立ち上り
角が大きくなっていて、水平成分が小さくなっているの
で、それによる反磁界が小さく、自己減磁を小さくして
出力を大きくしていることによるもので、ヘッド磁界と
の関係でブロードなピークがθｗｉｎとの関係でみられ
るのも磁界による磁化効率に関係が深いことが推察され
る。

実施例６ 実施例３．４でのべた磁気記録媒体で更にＣ／Ｈの改善
を特に雑音の改良で行うことの出来る製造方法を提供す
る。

本発明の磁気記録媒体の製造方法は、微粒子塗布層を配
した高分子フィルムを円筒キャンに沿わせて移動させな
がら、移動方向と直交方向に線状に近い状態で伸びたタ
ーゲットを配し、スバッタリング法により強磁性金属薄
膜を形成するようにしたものである。

本発明の磁気記録媒体の製造方法により得られる媒体は
上記した構成により、より斜め入射効果が強調され、異
方性分散が小さくなり、雑音が改善できると共に蒸着法
での斜め入射と比べ１強磁性金属薄膜を構成する原子の
移動度が大きいため。

よりち密な構成となり、飽和磁化量が大きくとれかつ耐
久性も横方向のすき間が無視されリジッド性が増し、向
上するといった効果がある。第６図に本発明の製造方法
を実施するのに用いたスパッタリング装置の一例の要部
構成図を示した。第６図で、スパッタカソード２４は移
動方向の長さをＰとすると、カソードの両エツジと円筒
キャン７１の周面上の図示した点ム、Ｂを結んだ範囲の
蒸気流２６で成膜されるとみなす時１局面距離ムＢに対
して、カソードの長さＰが１／６以下、好ましくは１／
８以下である（これを線状カソードと定義する）といっ
た条件にて構成したものである。尚カソードは板状でな
く、わん曲していても構わないが、五Ｂ部に向うスパッ
タ原子がとびだす領域がＰと等価の条件を満足するよう
にする必要はある。

比較のために、第６図のカンード中心にＰ　＝　１．２
　ｃｍ　、　Ｐ　＝　１．６　ａｎとＰ＝２．４ｃｍの
カソードを置いてＣｏ−０ｒ（Ｃｏ：ｓｏｗｔｌ）をス
パッタして、０．１１５μ諺のＣｏ−０ｒ膜を形成した
。尚０、ｉｎは４０度としたが、その時ムＢの周長は１
３ｃｍである。他の条件は実施例３でのテープ化条件と
同じとした。

実施例の４−２のテープを０（ＩＢとすると。

Ｐ　＝　１．２ｃｆＲ，Ｐ　＝　１．６ｃｆｎ、　Ｐ　
＝＝　２．４ｃｍで製造したテープは夫々＋１．２　（
ＩＢ　、　−）−１，０（１Ｂ　、　＋０．６　（ＩＢ
であった。尚この改善効果は、１１　ＭＨｚでの値であ
るが、更に短波長化し、１３ＭＨｚでは＋　１．９　ｔ
ｌＢ　ｔ＋１．６　（ＩＢ　、−１−１，４（ＩＢであ
り、より高密度記録向けの磁気記録媒体が求められる時
は。

有効である。

発明の効果 以上のべたように１本発明は微粒子基板を対象としたも
のであるが、これは単に微粒子のみではなく、ミミズ状
隆起層と微粒子分散を組み合わせたものでも有効であり
、微粒子による形状効果は耐久性向上に効果が大きかっ
たが、蒸着条件によっては、シャドーイングが悪影響を
及ぼして雑音源となっていたが１本発明はその欠点を解
消したもので、高密度記録媒体の提供と、その製法の提
供に於て、実用上の価値を生むものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の実施例の磁気記録媒体の拡大断面図
、第２図は本発明の実施例の磁気記録媒体を製造するの
に用いた蒸着装置の側面図、第３図ａ、ｂは本発明の実
施例の磁気記録媒体の要部拡大断面図、第４図は本発明
の実施例の磁気記録媒体の要部拡大断面図、第６図、第
６図は本発明を実施するのに用いたスパッタリング装置
の要部側面図である。 １．８・・・・・・高分子フィルム、４・・・°・・わ
ん曲した柱状微粒子、７・・・・・・円筒状キャン、１
１・・、・・・蒸発渾、１６・・°°・°輻射加熱源、
３１．３２．３４・・・°°゛径一定わん油柱状微粒子
、３６・・・・・・ボイド、２２゜２４・・・・・・ス
パッタカソード。 代理人の氏名　弁理士　粟　野　重　孝　ほか１名第 図 第 図 （ｂ）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）微粒子塗布層上に配した強磁性金属薄膜の柱状微
   粒子がわん曲し、粒子径が厚み方向で一定していること
   を特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）強磁性金属薄膜が２層構成から成り、少くとも２
   層目は柱状微粒子がわん曲し、粒子径が厚み方向で一定
   していることを特徴とする磁気記録媒体。
3. （３）強磁性金属薄膜がスパッタリング法で形成された
   柱状微粒子から成り、その柱状微粒子がわん曲し、かつ
   厚み方向に粒子径が大きくなることを特徴とする磁気記
   録媒体。
4. （４）強磁性金属薄膜を構成する柱状微粒子がわん曲し
   、ヘッド磁界に近似された残留磁化を持つことを特徴と
   する磁気記録媒体。
5. （５）微粒子塗布層を配した高分子フィルムを円筒キヤ
   ンに沿わせて移動させながら、移動方向と直交方向に線
   状に近い状態で伸びたターゲットを配し、スパッタリン
   グ法により強磁性金属薄膜を形成することを特徴とする
   磁気記録媒体の製造方法。