JPH04142330A

JPH04142330A - ポリカーボネートの精製法

Info

Publication number: JPH04142330A
Application number: JP2265528A
Authority: JP
Inventors: Masahide Tanaka; 正秀田中; Yoshihisa Kiso; 佳久木曽; Kenji Shimamoto; 島本　健治; Tetsuo Hayashi; 林　哲雄
Original assignee: Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Current assignee: Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority date: 1990-10-02
Filing date: 1990-10-02
Publication date: 1992-05-15

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】発明の技術分野本発明は、ポリカーボネートの精製法に関し、さらに詳
しくは、塩基触媒の存在下に調製されたポリカーボネー
トの精製法に関する。

発明の技術的背景ポリカーボネートは、種々の潤滑油またはその成分とし
て有効である。

ポリカーボネートの製造方法として、たとえば、ジエチ
レングリコールなどのポリオールとジメチルカーボネー
トなどのカーボネート化合物とを、塩基触媒の存在下に
加熱して反応させた後、未反応の上記カーボネート化合
物を加熱留去し、有機酸などの酸にて上記塩基触媒を中
和してポリカーボネートを製造する方法が従来より知ら
れている。

しかしながら、上記のように、塩基触媒の存在下にポリ
カーボネートを調製した後に、このポリカーボネート中
に含有されている塩基触媒を酸にて中和しただけでは、
得られるポリカーボネート中にイオン性化合物が残る。

したがって、上記の方法により得られるポリカーボネー
トは、電気絶縁性などの特性が低下するという問題があ
る。

発明の目的本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決し
ようとするものであって、ポリカーボネートからポリカ
ーボネート中に含有されている塩基性物質を除去して電
気絶縁性に優れたポリカーボネートを得る、ポリカーボ
ネートの精製法を提供することを目的としている。

発明の概要本発明に係るポリカーボネートの精製法は、塩基触媒の
存在下にポリカーボネートを調製した後、該ポリカーボ
ネート中に含有されている塩基性物質を、水洗すること
によりおよび／または無機イオン交換体と接触させるこ
とにより除去することを特徴としている。

発明の詳細な説明以下、本発明に係るポリカーボネートの精製法について
具体的に説明する。

本発明に係るポリカーボネートの精製法は、塩基触媒の
存在下に調製された、塩基性物質（塩基触媒、塩基触媒
に由来する塩基性物質）を含有するポリカーボネートに
ついて採用される精製法である。

このような塩基性物質を含有するポリカーボネートの調
製方法としては、たとえば以下のような３種類の方法が
挙げられる。

（１）ポリアルキレングリコールを、カーボネート化合
物と塩基触媒の存在下に常圧または加圧下に加熱しなが
ら、生成するアルコールを蒸留によって反応系外に除去
して反応させる。

上記反応において、モノアルコールを存在させてもよい
。

次いで、未反応の上記化合物を蒸留によって反応系外に
除去した後、減圧下に加熱して縮合重合を行なわせ、得
られた反応生成物中の塩基触媒を酸にて中和する。

なお、上記反応を行なうに際し、反応器内の空気を窒素
置換することが望ましいが、窒素置換しなくてもよい。

上記ポリアルキレングリコールの例としては、一般式［
Ｉ］ＨＯ−Ｒ，−ＯＨ・・・［Ｉ］で表わされるポリアルキレングリコールが挙げられる。

上記一般式［工］におけるＲ２は、ポリアルキレングリ
コール残基であり、（Ｃ，、Ｈ２□○）　Ｃ□Ｈ２，Ａ− で表わされる。この式において、ｍは１〜１０の整数で
あり、ａは１〜１００の整数である。

上記一般式［Ｉ］で表わされるポリアルキレングリコー
ルとしては、具体的には、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプ
ロピレングリコール、ポリプロピレングリコールなどが
好ましく用いられるが、ジエチレングリコール、トリブ
チレングリコール、ポリブチレングリコールなども用い
られる。

上記カーボネート化合物の例としては、一般式［１１］％式％［［］で表わされるカーボネート化合物が挙げられる。

上記一般式〔■］におけるＲ２は、メチル基またはエチ
ル基である。

上記一般式［Ｉ［］で表わされるカーボネート化合物と
しては、具体的には、ジメチルカーボネート、ジエチル
カーボネートが挙げられる。これらのカーボネート化合
物は、ｍ１／　（２ｒｒｚ　＋ｍ、）が０．６〜５好ま
しくは１〜３の範囲になる量で用いられる。ただし、上
記のｍ、はカーボネート化合物のモル数であり、ｍ２は
ポリアルキレングリコールのモル数てあり、ｍ３は下記
の一般式「Ｉ［」で表わされるモノアルコールのモル数
である。上記ｍ＋　／　（２ｍ２＋ｍ３　）は、理論的
には、０．５でよいが、上記カーボネート化合物を過剰
量で用いないと、得られるポリカーボネートは、末端水
酸基が残存する。また、上記カーボネート化合物を大量
に使用するのは、経済的でない。

上記モノアルコールの例としては、一般式［ｍ］Ｒ３０
Ｈ・・・［ＩＩ［］で表わされるモノアルコールが挙げられる。

上記一般式［ｍ］におけるＲ３は、炭素原子数２〜２０
のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基または
式％式％）で表わされる基である。

上記Ｒ４は、炭素原子数１〜２０のアルキル基または炭
素原子数６〜２０のアリール基であり、ｎは１〜１０の
整数であり、ｂは１〜１００の整数である。

上記一般式［Ｉ［Ｉ］で表わされるモノアルコールとし
ては、具体的には、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリ
コール等のモノアルキルエーテル、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール等のモノアルキルエーテ
ルなどが好ましく用いられる。アルキル基としては、た
とえば、メチル基やブチル基が特に好ましい。

また、エタノール、プロパツール、ブタノール、ペンタ
ノール、ヘキサノール、トリデカノール、シクロヘキサ
ノール、シクロヘキシルメタノール、フェノール、クレ
ゾールなどもモノアルコールとして用いられる。

一般式［Ｉ］で表わされるポリアルキレングリコールと
一般式［■］で表わされるモノアルコールは、通常、モ
ノアルコール／ポリアルキレングリコールのモル比が０
〜２となる範囲にて用いられる。

反応を蒸留塔付き反応器で行なうと、生成したアルコー
ルＲ２０Ｈを効率的に留出させることができる。上記カ
ーボネート化合物［Ｉ［］は、反応初期に全量仕込んで
もよく、反応初期に一部のみを仕込み、反応中に間欠的
にまたは連続的に追加してもよい。

この方法においては、反応は、２段にて行なわれる。第
１段の反応工程としては、上記したポリアルキレングリ
コール、（必要に応じてモノアルコール）およびカーボ
ネート化合物を反応容器に仕込み、塩基触媒の存在下に
常圧または加圧下に加熱しながら、生成するアルコール
Ｒ，ＯＨを蒸留によって反応系外に除去して、反応率９
５％以上まで、カーボネート化反応を行ない、次いで、
未反応の上記カーボネート化合物を蒸留によって反応系
外に除去する。反応率９５％以上とは、上記生成するア
ルコールが０．９５　（２ｍ２＋北、）モル以上生成す
るまで、反応させることをいう。

第２段の反応工程としては、上記のようにして得られた
反応混合物を減圧下に加熱して、カーボネート交換反応
によって生成するカーボネート化合物を蒸留により反応
系外に除去しつつ、縮合重合を行なわせた後、塩基触媒
を酸にて中和する。

上記塩基触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム等のアルカリ金
属水酸化物：炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の
アルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金属炭酸水素塩；ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム
メトキシド、カリウム・１−ブトキシド、リチウムメト
キシド、セシウムメトキシド等のアルカリ金属アルコラ
ード；水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ
金属水素化物；ナトリウムアミド、カリウムアミド等の
アルカリ金属アミド化合物；カリウム、ナトリウム等の
アルカリ金属などのアルカリ金属化合物が好ましく用い
られる。これらのうちでは、特に、アルカリ金属アルコ
ラードが好ましい。このほか、たとえば、水酸化マグネ
シウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属化合物
、トルエチルアミン、トルエチルアミン、イミダゾール
、テトラメチルアンモニウムハイドロオキシド等の有機
アミノ化合物も用いられる。これら触媒の使用量は、通
常、触媒のモル数／　（２ｍ　２　＋　ｍ　ｖ　）が１
０−１〜１０−７、好ましくは１０−２〜１０−５とな
る範囲で用いられる。

この方法においては、第１段の反応は、前述したように
、カーボネート化反応であり、第２段の反応は、カーボ
ネート交換反応である。カーボネート化反応は、通常、
常圧乃至３０ｋｇ／ａｌ、好ましくは常圧乃至１０ｋｇ
／Ｃｉの圧力下に５０〜３００℃、好ましくは６０〜２
００℃の温度で行なわれる。反応時間は、通常、０．５
〜２００時間、好ましくは１〜１００時間である。また
、カーボネート交換反応は、通常、４００〜ｌ−Ｈｇ、
好ましくは２００〜５１１１ｍＨｇの減圧下に５０〜３
００℃、好ましくは６０〜２００℃の温度で行なわれる
。反応時間は、通常、０．１〜１００時間、好ましくは
０．２〜５０時間である。

反応終了後の触媒の酸による中和には、固体酸、無機酸
または有機酸が用いられる。たとえば、スルホン酸型イ
オン交換樹脂、炭酸、炭酸アンモニウム、塩化アンモニ
ウム、塩酸、硫酸、リン酸、酢酸、フェノールなどが用
いられる。これらのうち、スルホン酸型イオン交換樹脂
や、炭酸、炭酸アンモニウム、塩化アンモニウム等のよ
うな弱酸性水溶液で中和することが好ましい。

この方法によれば、分子末端が実質的に炭化水素基のみ
からなるポリアルキレングリコールポリカーボネートを
得ることができる。

このポリアルキレンゲリコールポリカーボネートは、下
記の一般式［ｌで表わされる。

Ｒ１０ＣＯＯ（ＲＩ　　０ＣＯＯ）、−Ｒ６・・・［Ｉ
Ｖ］上記一般式［ＩＶ］において、Ｒ１は、一般式［Ｉ］に
おけるＲ３と同一であり、Ｒ，およびＲ６は、それぞれ
独立に、一般式［ｍｌにおけるＲ３または一般式［ＩＩ
］におけるＲ２であり、Ｘの平均値は０．５〜１０であ
る。

この方法によれば、上記第１段の反応工程において、カ
ーボネート化合物としてジメチルカーボネートを用いる
場合、メタノールをジメチルカーボネートとの共沸物と
して反応系から除去する代わりに、予め反応系にシクロ
ヘキサン、ベンゼン、ヘキサン等の共沸溶剤を加え、メ
タノールをこれら共沸溶剤との共沸物として、反応系外
に除去することもできる。上記共沸溶剤は、ジメチルカ
ーボネートに対して、通常、５〜１００重量％用いられ
る。

この方法によれば、カーボネート化反応において、メタ
ノールを上言己共沸溶剤との共沸物として、反応系外に
除去し、反応の終了後、反応混合物がら未反応ジメチル
カーボネートを回収するので、その回収率を高めること
ができる。

また、別の方法として、上述したように、メタノールを
ジメチルカーボネートとの共沸物として回収した後、こ
の共沸物に上記のような共沸溶剤を加え、メタノールを
この共沸溶剤との共沸物としてジメチルカーボネートか
ら除去して、ジメチルカーボネートを回収することもで
きる。

（２）ポリオールおよびカーボネート化合物を、塩基触
媒の存在下に加熱しながら、生成するアルコールを蒸留
によって反応系外に除去して反応させる。

なお、上記反応を行なうに際し、反応器内の空気を窒素
置換することか望ましいが、窒素置換しなくてもよい。

上記ポリオールの例としては、一般式［Ｖ］Ｒ７（ＯＨ
）　Ｉ　　　　　　　・・・［Ｖ］で表わされるポリオ
ールが挙げられる。

上記一般式［Ｖ］において、Ｒ７は、炭素原子数４〜３
００の脂肪族炭化水素基であり、エーテル結合を含んで
いてもよい。また、Ｊは２〜８の整数である。

上記一般式［■］で表わされるポリオールとしては、具
体的には、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール等のグリコール；エチ
レンオキサイドとプロピレンオキサイドとを共重合した
ジオール；ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリト
ール、トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコー
ル、ヘキシレングリコール、ペンタエリスリトール、ジ
ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、ネオ
ペンチルグリコールまたはヘキシレングリコールと、エ
チレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドとの反応
生成物からなるポリオール；プロピレンオキサイドまた
はエチレンオキサイドと、ヒドロキシメチルエチレンオ
キサイドまたはグリセリンとの反応生成物からなるポリ
オールなどが好ましく用いられるが、ジエチレングリコ
ール、トリブチレングリコール、ポリブチレングリコー
ルなども用いられる。

上記カーボネート化合物の例としては、一般式［％式％［］で表わされるカーボネート化合物が挙げられる。

上記一般式［ＶＩ］におけるＲ８は、炭素原子数１〜２
０のアルキル基である。

上記一般式［ＶＩ］で表わされるカーボネート化合物と
しては、具体的には、ジメチルカーボネート、ジエチル
カーボネート、ジプロピルカーボネート、ジブチルカー
ボネート、ジエチルカーボネート、ジオクチルカーボネ
ート、ジシクロへキシルカーボネートなどが好ましく用
いられる。

この方法においては、カーボネート化反応で生成するア
ルコールを反応系外に蒸留にて除去しつつ、カーボネー
ト化反応を進行させるので、この反応で生成するアルコ
ール、すなわち、Ｒ８０Ｈで表わされるアルコールは、
上記ポリオールよりも沸点が低いことが必要である。

また、カーボネート化合物は、ｍ　ａ　／　ｊ　ｍ　５
が２〜５０好ましくは２〜３０の範囲になる量で用いら
れる。ただし、上記のｍ４はカーボネート化合物のモル
数であり、ｍ、はポリオールのモル数であり、ｊはポリ
オールの水酸基の個数である。

このようにカーボネート化合物の使用量を制限すること
により、反応において、高重合度のポリカーボネートの
生成を抑制することができる。

この方法においては、反応は、上記したポリオールとカ
ーボネート化合物を反応容器に仕込み、塩基触媒の存在
下に加熱しながら、生成するアルコールを蒸留によって
反応系外に除去して、反応率９５％以上まで行なう。反
応率９５％以上とは、上記生成するアルコールが０．９
５ｊｒｒｚモル以上生成するまで、反応させることをい
う。

上８己塩基触媒としては、上記（１）の塩基性物質を含
有するポリカーボネートの調製方法で列挙した化合物が
用いられる。また、これらの触媒の使用量は、通常、触
媒のモル数／　ｊ　ｍ　ｓが１０−１〜１０−７、好ま
しくは１０−２〜１０−５となる範囲で用いられる。

この方法においては、反応は、通常、５０〜３００℃、
好ましくは６０〜２００℃の温度で行なわれる。反応時
間は、通常、０，５〜２００時間、好ましくは１〜１０
０時間である。

（３）ポリオール、モノアルコールおよびカーボネート
化合物を、塩基触媒の存在下に加熱しながら、生成する
アルコールを蒸留によって反応系外に除去して反応させ
る。

上記ポリオールの例としては、一般式［■］Ｒ９（ＯＨ
）ｓ　　　　　　　　　　　・・・　［■コで表わされ
るポリオールが挙げられる。

上記の一般式［■］において、Ｒｏは、炭素原子数４〜
３００の脂肪族炭化水素基、炭素原子数４〜３００のエ
ーテル結合を含む脂肪族炭化水素基、または炭素原子数
６〜３００のエーテル結合を含む環状構造の炭化水素基
であり、ｌは２〜８の整数である。

上記一般式［■コで表わされるポリオールとしては、具
体的には、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール等のグリコール；エチ
レンオキサイドとプロピレンオキサイドとを共重合した
ジオール；ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリト
ール、トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコー
ル、ヘキシレングリコール：ペンタエリストリール、ジ
ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、ネオ
ペンチルグリコールまたはヘキシレングリコールと、エ
チレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドとの反応
生成物からなるポリオール；プロピレンオキサイドまた
はエチレンオキサイドと、ヒドロキシメチルエチレンオ
キサイドまたはグリセリンとの反応生成物からなるポリ
オール；グルコビラノース、ガラクトピラノース、マン
ノピラノース等のピラノース；フルクトフラノース、リ
ボフラノース等のフラノースなどが好ましく用いられる
が、ジエチレングリコール、トリブチレングリコール、
ポリブチレングリコールなども用いられる。

上記モノアルコールの例としては、一般式［■］Ｒ、ｏ
ＯＨ・・・　［■コ上記の一般式［■］において、Ｒｌｏは、炭素原子数３
０以下の炭化水素基または炭素原子数２〜３０のエーテ
ル結合を含む炭化水素基である。

上記ＲＩＯの炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、
脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基、芳香脂肪族炭化
水素基および一般式％式％（式中、Ｒ２１は、炭素原子数２〜３のアルキレン基で
あり、Ｒ１２は炭素原子数２８以下の炭化水素基であり
、ｑは１〜２０の整数である）で表わされるグリコール
エーテル基が挙げられる。

上記Ｒ１ｆ置こおける脂肪族炭化水素基の具体的な例と
しては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプ
ロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、Ｓ−ブチル基
、ｊ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペ
ンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソへキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、イソヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチ
ル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ〜デシル基、イ
ソデシル基、ｎ−ウンデシル基、イソウンデシル基、ロ
ードデシル基、イソドデシル基、ｎ−）リゾシル基、イ
ソトリデシル基、ｎテトラデシル基、イソテトラデシル
基、ｎ−ペンタデシル基、イソペンタデシル基、ｎ〜ヘ
キサデシル基、イソヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル
基、イソヘプタデシル基、ローオクタデシル基、イソオ
クタデシル基、ｎ−ノニルデンル基、イソノニルデシル
基、ｎ−アイコサニル基、イソアイコサニル基、２−エ
チルヘキシル基、２−（４−メチルペンチル）基などを
挙げることができる。

また、Ｒ７゜における脂環族炭化水素基の具体的な例と
しては、シクロヘキシル基、Ｉ−シクロへキセニル基、
メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、
デカヒドロナフチル基、トリシクロデカニル基などを挙
げることができる。

さらに、Ｒｌｏにおける芳香族炭化水素基の具体的な例
としては、フェニル基、０−トリル基、ｐ−トリル基、
ｍ−トリル基、２，４−キシリル基、メシチル基、１−
ナフチル基などを挙げることができる。

さらにまた、ＲＩＯにおける芳香脂肪族炭化水素基の具
体的な例としては、ベンジル基、メチルベンジル基、β
−フェニルエチル基（フェネチル基）、１−フェニルエ
チル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチ
ルヘンシル基、スチリル基、シンナミル基などを挙げる
ことができる。

上記Ｒ１ユにおけるアルキレン基の具体的な例としては
、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基を挙げ
ることができる。

また、上記Ｒ１２における炭化水素基としては、脂肪族
炭化水素基、脂環族炭化水素基および芳香族炭化水素基
が挙げられる。これらの具体的な例としては、それぞれ
上述したＲＩＯにおける脂肪族炭化水素基、脂環族炭化
水素基、芳香族炭化水素基の具体的な例として列挙した
基と同様の基を挙げることができる。

上記の一般式で表わされるグリコールエーテル基として
は、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル基、ジエチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル基
、トリエチレングリコールモノエチルエーテル基、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル基、ジプロピレン
グリコールモノエチルエーテル基、トリプロピレングリ
コールモノｎ−ブチルエーテル基などを挙げることがで
きる。

上記カーボネート化合物の例としては、一般式［］％式％［］で表わされるカーボネート化合物が挙げられる。

上記の一般式［ＩＸ］において、Ｒ１，は、それぞれ独
立に、炭素原子１〜２のアルキル基である。

一般式［ＩＸ］で表わされるカーボネート化合物として
は、具体的には、ジメチルカーボネーＩ・、ジエチルカ
ーボネート、エチルメチルカーボネートが挙げられる。

これらのカーボネート化合物は、容易に入手することが
できる。

この方法では、カーボネート化反応で生成するアルコー
ルを反応系外に蒸留にて除去しつつ、カーボネート化反
応を進行させるので、この反応で生成するアルコール、
すなわち、Ｒ，３０Ｈで表わされるアルコールは、上記
ポリオールおよびモノアルコールよりも沸点が低いこと
が必要である。

また、カーボネート化合物は、上記一般式［■］で表わ
されるポリオールの１倍のモル数（１ｍａ）に対するモ
ル比が２〜５０好ましくは２〜３０の範囲となる量で用
いられる。上記ｍ６はポリオールのモル数であり、ｌは
ポリオールの水酸基の個数である。このようにカーボネ
ート化合物の使用量を制限することにより、高重合度の
ポリカーボネートの生成を抑制することができる。

この方法においては、反応は、上記のようなポリオール
とモノアルコールとカーボネート化合物を反応容器に仕
込み、塩基触媒の存在下に加熱しながら、生成するアル
コールを蒸留によって反応系外に除去して、反応率９５
％以上まで反応させる。反応率９５％以上とは、上記生
成するアルコールが１ｍ６モル以上生成するまで、反応
させることをいう。

上言己塩基触媒としては、上記（１）の塩基性物質を含
有するポリカーボネートの調製方法で列挙した化合物が
用いられる。また、これらの触媒の使用量は、通常、触
媒のモル数／Ｉｍ６が１０−１〜１０−１好ましくは１
０−２〜１０−５となる範囲で用いられる。

この方法においては、反応は、通常、５０〜３００℃、
好ましくは６０〜２００℃の温度で行なわれる。反応時
間は、通常、０．５〜２００時間、好ましくは１〜１０
０時間である。

上記の（１）、（２）および（３）の方法により得られ
たポリカーボネートは、塩基性物質を含有している。

本発明に係るポリカーボネートの精製法は、上記のよう
なポリカーボネート中に含有している塩基性物質をポリ
カーボネートから除去する方法である。

上記塩基性物質の除去方法としては、次のような３種類
の方法が挙げられる。（１）塩基性物質を含有している
ポリカーボネートを水洗することにより、この塩基性物
質をポリカーボネートから除去する方法。

この場合、ポリカーボネート中に含有されている塩基性
物質を、弱酸性水溶液で中和した後、水洗することが好
ましい。

上記の弱酸性水溶液としては、具体的には、炭酸アンモ
ニウム、炭酸、塩化アンモニウムなどの無機酸の水溶液
が挙げられる。

また、上記のような除去処理を行なう前に、塩基性物質
を含有しているポリカーボネートに、必要に応じて非極
性溶媒を加えてもよい。

上記の非極性溶媒としては、具体的には、トルエン、ベ
ンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、ヘキサン
、オクタン等の飽和炭化水素化合物などが挙げられる。

（２）ポリカーボネート中に含有されている塩基性物質
を無機イオン交換体と接触させることにより、この塩基
性物質をポリカーボネートから除去する方法。

この方法においても、上記のような除去処理を行なう前
に、塩基性物質を含有しているポリカーボネートに、必
要に応じて上述した非極性溶媒を加えてもよい。

上記の無機イオン交換体としては、具体的には、ゼオラ
イト；東亜合成化学工業■製のｒｌＸＥ　　（イグゼ）
無機イオン交換体」、たとえばグレードＸＥ−１００（
成分：ジルコニウム系化合物）　、ＩＸＥ−３００（成
分：アンチモン系化合物）等の陽イオン交換タイプの無
機イオン交換体、グレードＩＸＥ６００（成分・アンチ
モン、ビスマス系化合物）等の両イオン交換タイプの無
機イオン交換体などが好ましく用いられる。また、本発
明においては、無機イオン交換体としては、酸性白土、
白雲石なども用いられるが、これらはイオン交換能が低
い。

なお、イオン交換体には、無機イオン交換体と有機イオ
ン交換体とがあるが、たとえば交換基がスルホン基であ
る有機イオン交換体は、イオン交換能が低い。

（３）上記（１）の水洗による塩基性物質の除去処理方
法と、上記（２）の無機イオン交換体による塩基性物質
の除去処理方法とを併用する方法。

この方法では、上記（１）の処理を行なった後に、上記
（２）の処理を行なってもよいし、また上記（２）の処
理を行なった後に、上記（１）の処理を行なってもよい
。

なお、本発明においては、上記（１）または（３）の方
法により、ポリカーボネートから塩基性物質を除去した
後、このポリカーボネートに脱水処理を行なうのが望ま
しい。

発明の効果本発明によれば、塩基残存量が０．ｌｐｐｍ以下であり
、また、全酸任が１未満という純度の高いポリカーボネ
ート、すなわち、電気絶縁性に優れたポリカーボネート
を得ることができる。

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、こ
れら実施例に限定されるものではない。

実施例および比較例におけるポリカーボネートの分析と
性能評価は、以下の試験方法による。

（１）分析方法ａ、平均分子量 ■島津製作所製のＧＰＣシステムを使用し、ポリスチレ
ン基準にて平均分子量を求めた。測定条件を下記に示す
。

カラム：ポリスチレンゲル４本（Ｇ−２０００ＨＸＬ＋
Ｇ−２０００ｆｌＸＬ＋Ｇ−３０ＤＯＨＸＬ＋Ｇ−４０
００ＨＸＬ）、検出器・示差屈折計、温　　度　：　４０℃、溶媒：テトラヒドロフラン、溶出速度・０．７ｍｌ／分す１体積抵抗率ポリカーボネートの体積抵抗率は、＾ＳＴＭ　Ｄ　２５
７に準拠して求めた。

実施例１１０段シーブトレー式蒸留塔を備えた容量３Ｉの反応器
に平均分子量４００のポリプロピレングリコール８０２
　ｇ　（２，００モル）、ジメチルカーボネート１．　
８０４ｇ　（２０，０３モル）および２８重量％のＮａ
０ＣＨａのメタノール溶液０．３９ｇ（ＮａＯＣｌ（３
：　０．００２０モル）を仕込んだ。

この混合物を常圧下に１１０〜１２０℃に加熱し、生成
するメタノールをジメチルカーボネートとの共沸物とし
て留去しつつ、反応を行なったところ、８時間後にメタ
ノールの流出が止まった。

生成したメタノールは１２７　ｇ　（３，９７モル）で
あり、メタノール収率は９９％であった。

上記のようにして得られた反応混合物中のＮａ含量は４
４ｐｐｍであった。

この反応混合物にヘキサンを加え、さらに炭酸アンモニ
ウム０．　９６　ｇ　（０，０１モル）を１１の蒸留水
に溶解させた水溶液を添加してよく撹拌して触媒を中和
し、静置汲水層を分離した。

次いて、油層をさらに１１の蒸留水で３回水洗した後、
ヘキサンと未反応のジメチルカーボネートを除去して、
ポリカーボネートＬ　　０３２ｇを得た。

このポリカーボネート中の無機の元素およびフリーイオ
ンについて分析した結果を表１に示す。

上記水洗処理により、ポリカーボネート中のＮａ含量は
０．０３６ｐｐｍまで減少した。また、他の元素および
フリーイオンは、いずれも検出限界以下であった。

また、このポリカーボネートの電気絶縁性を評価すべく
、その尺度である体積抵抗率を測定した結果、体積抵抗
率は７．０ＸＩＯ”Ω・国であった。

このポリカーボネートにトルエン１１および無機イオン
交換体［東亜合成化学工業■製、グレードＩ　ＸＥ−６
００コ２０ｇを添加して１００℃に加熱し、撹拌しなが
ら３時間処理した。次いで、この処理液を冷却して濾過
することにより脱トルエンを行ない、精製ポリカーボネ
ート１，０１１ｇを得た。

この精製ポリカーボネートの無機の元素およびフリーイ
オンについて分析した結果を表１に示す。

また、この精製ポリカーボネートは、体積抵抗率が４．
２Ｘ１０１２Ω・国であり、上記の無機イオン交換体処
理によってポリカーボネートの電気絶縁性が向上した。

得られたポリカーボネートは、粘稠な液体であり、プロ
トンＮＭＲおよびＧＰＣ分析の結果、ポリプロピレング
リコールジメチルカーボネートを主生成物とするもので
あった。ＧＰＣによる重量平均分子量／数平均分子量（
Ｍｗ　／　Ｍｎ　）は１．１であった。

実施例２実施例１において、ポリプロピレングリコールおよびジ
メチルカーボネートの代わりに、それぞれトリプロピレ
ングリコール１０６　ｇ　（０，５５モル）　　ジー［
２−エチルへキシル］カーボネート１．５７５ｇ　（５
゜５１モル）を用い、２８重量％のＮａ０ＣＨｘのメタ
ノール溶液の配合量を０、　１１　ｇ　（ＮａＯＣＬ　
Ｏ，０００６モル）にした以外は、実施例１と同様にし
て、反応を行なった。

生成した２−エチルヘキサノールは１４３ｇであり、２
−エチルヘキサノール収率は１００％であった。

上記のようにして得られた反応混合物中のＮａ含量は１
ｏ、ｌｐｐｍであった。

この反応混合物を、実施例１と同様にして、中和、水洗
および未反応のジー［２−エチルへキシル］カーボネー
トの蒸留除去を行なってポリカーボネート２４４ｇを得
た。

このポリカーボネート中の無機の元素およびフリーイオ
ンについて分析した結果を表２に示す。

また、このポリカーボネートの電気絶縁性を評価すべく
、その尺度である体積抵抗率を測定した結果、体積抵抗
率は２．８Ｘ１０１２Ω・国であった。

さらに、このポリカーボネートを、実施例１と同様に無
機イオン交換体［東亜合成化学工業■製グレード　ＩＸ
ε−６００］で処理して精製ポリカーボネート２３９ｇ
を得た。

この精製ポリカーボネートの無機の元素およびフリーイ
オンについて分析した結果を表２に示すまた、この精製
ポリカーボネートは、体積抵抗率が２．　　ｌ　ｘ　ｌ
　Ｑ　１３Ω・口であり、上記の無機イオン交換体処理
によってポリカーボネートの電気絶縁性が明らかに向上
した。

得られたポリカーボネートは、粘稠な液体であり、プロ
トンＮＭＲおよびＧＰＣ分析の結果、トリプロピレング
リコール−ジー［２−エチルへキシルカーボネートを主
生成物とするものであった。

ＧＰＣによる重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｆ
７ｎ）は１．０５であった。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）塩基触媒の存在下にポリカーボネートを調製した
後、該ポリカーボネート中に含有されている塩基性物質
を、水洗することによりおよび／または無機イオン交換
体と接触させることにより除去することを特徴とするポ
リカーボネートの精製方法。