JPH04134022U - フルイデイツク流量計 - Google Patents

フルイデイツク流量計

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JPH04134022U
JPH04134022U JP4207291U JP4207291U JPH04134022U JP H04134022 U JPH04134022 U JP H04134022U JP 4207291 U JP4207291 U JP 4207291U JP 4207291 U JP4207291 U JP 4207291U JP H04134022 U JPH04134022 U JP H04134022U
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JP
Japan
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gas
vortex
flow rate
generation chamber
fluidic
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Application number
JP4207291U
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Inventor
智 遠藤
Original Assignee
矢崎総業株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【目的】フルイディック流量計において、気体が液化し
やすかったり、気体にゴミ等が混入している場合にも、
感度が悪くなることなく、ガス流量を正確に計測するこ
とができるようにすることを目的としている。 【構成】隔壁21の各渦流に対応する壁面にそれぞれ作
り込んだダイヤフラム211a,211bが受ける圧力
変化によって流体振動を検出することができるので、圧
力導入路を設ける必要がなくなり、気体が液化しても、
気体にゴミが混入していても、感度が悪くなることがな
くなる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、流入した気体を噴出する噴出ノズルと、該噴出ノズルから噴出され る気体が当てられるターゲットを有する渦流発生室とを備え、該渦流発生室に発 生する渦流による流量に比例した周波数をもつ流体振動を検出して流量を計測す るフルイディック流量計に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来この種の流量計に使用されているフルイディック発振器として、図8に示 す構造のものが一般に使用されている。図において、発振器の管1は、図示しな い例えばガス配管の途中に設けられており、管1内に管路縮小部2及び噴出ノズ ル3を形成する一対の第1流路形成部材4a,4bを、管中心軸芯Pに対して対 称的に配置し、管路縮小部2の作用で噴出ノズル3にガスを円滑に導くと共に、 噴出ノズル3から管中心軸芯Pを噴出中心としてガスを噴出するようにしている 。
【0003】 また、管中心軸芯Pに対して対称的に、管路拡大部5、一対の制御ノズル6a ,6b、及び、管路拡大部5の下流側と制御ノズル6a,6bを各別に連通する 一対の帰還流路7a,7bを区画形成する一対の隔壁8a,8bが配置されてい る。管路拡大部5の管中心軸芯P上には、流動方向切換安定化のためのターゲッ ト12が配置されている。一対の制御ノズル6a,6bは、噴出ノズル3の噴出 方向に対して略直角方向に向かわせると共に相対向させるようにしている。
【0004】 そして、一対の隔壁9a,9bとの協動で一対の排出路10a,10bを形成 する隔壁11を、管路拡大部5の下流側を遮断する状態で設け、両排出路10a ,10bの入口を両帰還流路7a,7bの入口側に各別に連通するようにしてい る。なお、隔壁11には、凹部11a,11bが形成されている。
【0005】 噴出ノズル3からガス噴出が開始されると、コアンダ効果によって噴出ガスは 一方の隔壁8aに沿って流れ、渦流が発生し、そのためにその隔壁8a側に位置 する制御ノズル6aに帰還流路7aから大きな流体エネルギーが付与されて、噴 出ガスが反対側の隔壁8bに沿って流れ、渦流が発生するようになり、今度は反 対側の制御ノズル6bからの流体エネルギーによって噴出ガスが初めに沿った隔 壁8aに再び沿って流れ、渦流が発生し、噴出ノズル3からのガスが隔壁8a, 8bに対して交互に沿って流れ、渦流が発生するようになり、噴出ガス量が増大 する程短周期で、かつ、定量的相関のある状態で噴出ガスの流動方向が変化する ようになる。
【0006】 上記渦流による流体振動による圧力変化を検出して流量を計測するため、一対 の圧力導入路13a,13bの一端を管路拡大部5とそれぞれ連通するように、 隔壁11上の管中心軸芯Pに対して対称的な位置に接続して、他端を密閉ケース 16にそれぞれ接続して、密閉ケース16内に圧力センサ14を両圧力導入路1 3a,13bからのガス圧が互いに逆向きに作用するように取り付け、圧力セン サ14により圧力変化を検出して、圧力センサ14から流量計測器15に正弦波 状の波形信号を送り、流量計測器15において、波形信号の周波数から流量を算 出して表示するようになっている。
【0007】
【考案が解決しようとする課題】
しかし、上記従来のフルイディック流量計の発振器においては、圧力変化を検 出して流量を計測するために、管路拡大部5と連通する一対の圧力導入路13a ,13bを設けて、この圧力導入路13a,13bを通過してきたガス圧力の変 化を検出しているので、ガスが液化しやすかったり、ガスにゴミ等の混入があっ た場合には、液化したガスやゴミ等が圧力導入路13a,13bが詰まってしま い、感度が悪くなり、正確な流量が計測できなくなってしまうという問題があっ た。
【0008】 よって本考案は、上述した従来の問題点に鑑み、気体が液化しやすかったり、 気体にゴミ等が混入している場合にも、感度が悪くなることなく、ガス流量を正 確に計測することができるフルイディック流量計を提供する。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため本考案により成されたフルイディック流量計は、流入 した気体を噴出する噴出ノズルと、該噴出ノズルから噴出される気体が当てられ るターゲットを有する渦流発生室とを備え、該渦流発生室に発生する渦流による 流量に比例した周波数をもつ流体振動を検出して流量を計測するフルイディック 流量計において、前記渦流発生室の壁面の一部分を画成するため前記ターゲット の下流側に設けた隔壁の各渦流に対応する壁面にダイヤフラムをそれぞれ作り込 み、該ダイヤフラムが受ける圧力変化によって流体振動を検出することを特徴と するフルイディック流量計。
【0010】 流入した気体を噴出する噴出ノズルと、該噴出ノズルから噴出される気体が当 てられるターゲットを有する渦流発生室とを備え、該渦流発生室に発生する渦流 による流量に比例した周波数をもつ流体振動を検出して流量を計測するフルイデ ィック流量計において、渦流発生室を画成する壁面の各渦流に対応する位置に半 導体シリコン圧力センサをそれぞれ設けたことを特徴とするフルイディック流量 計。
【0011】
【作用】
上記構成において、隔壁の各渦流に対応する壁面にそれぞれ作り込んだダイヤ フラムが受ける圧力変化によって流体振動を検出することができるので、圧力導 入路を設ける必要がなくなり、気体が液化しても、気体にゴミが混入していても 、感度が悪くなることがなくなる。
【0012】 また、渦流発生室を画成する壁面の各渦流に対応する位置にそれぞれ設けられ た半導体シリコン圧力センサによって、流体振動を検出することができるので、 圧力導入路を設ける必要がなくなり、気体が液化しても、気体にゴミが混入して いても、感度が悪くなることがなくなる。
【0013】
【実施例】
以下、本考案の第1の実施例を図1乃至図4を用いて説明する。これらの図に おいて、図8について上述したものと同等の部分には同一の参照符号を付し、そ の部分の詳細な説明を省略する。
【0014】 図において、渦流発生室17の壁面の一部分を画成するためターゲット3の下 流側に設けられた隔壁21は、管中心軸芯Pに対して対称的に、各渦流路に対応 する位置に、一対のダイヤフラム211a,211bが形成されたダイヤフラム 部材211及び保護部材212からなる。上記ダイヤフラム部材211は、例え ばシリコンからなり、マイクロマシーニング技術のシリコンエッチング等により 、一対の凹部213a,213bが管中心軸芯Pに対して対称的に上方に形成さ れ、その底はダイヤフラム211a,211bになっており、このダイヤフラム 211a,211bに拡散抵抗を形成して、このダイヤフラム211a,211 bの裏面に一対の電極214a,214bが図3における上下方向に長く平行に 設けられることにより、ピエゾ抵抗型の圧力センサ210a,210bが形成さ れている。
【0015】 上記電極214a,214bを保護するために、ダイヤフラム211a,21 1bの変位幅以上の深さを有し、ダイヤフラム211a,211bが大気に接す るように図3における下方に開口する凹部212a,212bが形成された保護 部材21bをダイヤフラム部材21aの電極214a,214bが設けられた面 に貼り合わせる。これにより、ガス雰囲気と電極214a,214bとは完全に 分離され、経時変化が小さくなる。電極214a,214bは図示しない流量測 定器に接続されている。なお、ダイヤフラム部材21aがシリコンからなる場合 には、保護部材21bにもシリコンを使用する。
【0016】 以上の構成により、渦発生振動によりダイヤフラム211a,211bにかか るガス圧力変化をダイヤフラム211a,211bに形成した拡散抵抗の抵抗値 変化により検出して、流量を計測することができるので、圧力導入路を設ける必 要がなくなり、ガスが液化しやすい場合でも、ゴミが混入している場合でも、感 度が悪くなることがない。
【0017】 また、上記ピエゾ抵抗型の圧力センサ210a,210bを形成する代わりに 、図示しない一対の電極の一方をダイヤフラム211a,211bの裏面に、他 方を上記保護部材21bの凹部212a,212bに対向して設けることにより 、静電容量式の圧力センサを形成して、渦発生振動によりダイヤフラム211a ,211bにかかるガス圧力変化を電極間距離の変化による容量変化により検出 することによって、流量を検出することができる。
【0018】 次に、本考案の第2の実施例を図5及び図6を用いて説明する。図において、 管31は下方が開口しており、この開口部31aには、底板32が取り付けられ る。この底板32には、管31に取り付けられることによって、一対のシリコン ダイヤフラム式の半導体シリコン圧力センサ32a,32bが図6に示すように 、帰還流路7a,7b内で制御ノズル6a,6b付近又は、帰還流路7a,7b 内の中間部で隔壁11付近に配置されるようにそれぞれ設けられている。また、 底板32には、圧力センサ32a,32bにそれぞれ接続したリード線33a, 33bが保護皮膜により保護され施されており、その先端は出力端子331a, 331bとして底板32の突起した部分に配されている。出力端子331a,3 31bは図示しない流量測定器に接続されている。
【0019】 以上の構成により、管31内に設けられた半導体圧力センサ32a,32bに より、渦発生振動によりシリコンダイヤフラムにかかるガス圧力変化を検出し流 量を計測できるため、圧力導入路を設ける必要がなくなり、ガスが液化しやすい 場合でも、ゴミが混入している場合でも、感度が悪くなることがない。
【0020】 また、第3の実施例を図7を用いて説明する。図において、上記隔壁34には 、管中心軸芯Pに対して対称的な位置に矩形状の孔34a,34b及び基板35 の挿入孔34cが形成されている。基板35には、挿入孔34cに上方から挿入 されることによって、一対のシリコンダイヤフラム式の半導体シリコン圧力セン サ36a,36bが、上記矩形状の孔34a,34bに配置されるようにそれぞ れ設けられている。なお、圧力センサ36a,36bにそれぞれ接続したリード 線37a,37bが保護皮膜により保護され施されており、その先端は出力端子 371a,371bとして基板35の突起した部分に配されている。出力端子3 71a,371bは図示しない流量測定器に接続されている。
【0021】 以上の構成によって、管31内に設けられた半導体圧力センサ36a,36b により、渦発生振動によりシリコンダイヤフラムにかかるガス圧力変化を検出し 流量を計測できるため、圧力導入路を設ける必要がなくなり、ガスが液化しやす い場合でも、ゴミが混入している場合でも、感度が悪くなることがない。
【0022】
【考案の効果】
以上説明したように本考案によれば、上記構成において、隔壁の各渦流に対応 する壁面にそれぞれ作り込んだダイヤフラムが受ける圧力変化によって流体振動 を検出することができるので、圧力導入路を設ける必要がなくなり、気体が液化 しても、気体にゴミが混入していても、感度が悪くなることがなくなり、気体流 量を正確に計測することができる。
【0023】 また、渦流発生室を画成する壁面の各渦流に対応する位置にそれぞれ設けられ た半導体シリコン圧力センサによって、流体振動を検出することができるので、 圧力導入路を設ける必要がなくなり、気体が液化しても、気体にゴミが混入して いても、感度が悪くなることがなくなり、気体流量を正確に計測することができ る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案によるフルイディック流量計の第1実施
例を示す上面図である。
【図2】図1中の隔壁の斜視図である。
【図3】図1中の隔壁の構成を示す図である。
【図4】図1中の隔壁の断面図である。
【図5】本考案によるフルイディック流量計の第2実施
例の構成を示す図である。
【図6】図5の上面図である。
【図7】本考案によるフルイディック流量計の第3実施
例の構成を示す図である。
【図8】従来のフルイディック流量計の一例を示す上面
図である。
【符号の説明】
3 噴出ノズル 12 ターゲット 17 渦流発生室 21 隔壁 211a,211b ダイヤフラム 32a,32b,36a,36b 半導体シリコン圧力
センサ

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流入した気体を噴出する噴出ノズルと、
    該噴出ノズルから噴出される気体が当てられるターゲッ
    トを有する渦流発生室とを備え、該渦流発生室に発生す
    る渦流による流量に比例した周波数をもつ流体振動を検
    出して流量を計測するフルイディック流量計において、
    前記渦流発生室の壁面の一部分を画成するため前記ター
    ゲットの下流側に設けた隔壁の各渦流に対応する壁面に
    ダイヤフラムをそれぞれ作り込み、該ダイヤフラムが受
    ける圧力変化によって流体振動を検出することを特徴と
    するフルイディック流量計。
  2. 【請求項2】 流入した気体を噴出する噴出ノズルと、
    該噴出ノズルから噴出される気体が当てられるターゲッ
    トを有する渦流発生室とを備え、該渦流発生室に発生す
    る渦流による流量に比例した周波数をもつ流体振動を検
    出して流量を計測するフルイディック流量計において、
    渦流発生室を画成する壁面の各渦流に対応する位置に半
    導体シリコン圧力センサをそれぞれ設けたことを特徴と
    するフルイディック流量計。
JP4207291U 1991-06-05 1991-06-05 フルイデイツク流量計 Pending JPH04134022U (ja)

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Citations (3)

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