JPH04133494A - セラミック配線基板の導体パターン形成方法 - Google Patents

セラミック配線基板の導体パターン形成方法

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JPH04133494A
JPH04133494A JP25560790A JP25560790A JPH04133494A JP H04133494 A JPH04133494 A JP H04133494A JP 25560790 A JP25560790 A JP 25560790A JP 25560790 A JP25560790 A JP 25560790A JP H04133494 A JPH04133494 A JP H04133494A
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conductor
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green sheet
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Jun Inasaka
稲坂 純
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はセラミック多層配線基板の製造方法に関し、特
にグリーンシートへの導体パターンの形成法に関する、 〔従来の技術〕 従来この種のセラミックグリーンシートへの導体パター
ンの形成法としては、スクリーン印刷による厚膜印刷法
か、導体ペーストをグリーンシートに描画装置により直
接描画する方法、もしくは別のフィルム上に形成した導
体パターンをグリーンシートに転写する方法をとってい
た。
〔発明か解決しようとする課題〕
上述した従来のスラミック多層配線基板の導体バシ パターン形成方法は、導体ペーストを直接グリーンシー
ト上に印刷するので、ペースト レオロジー性に導体パ
ターンの良否が大きく影響させるという欠点がある。以
下に各方法について欠点を記す。
l)スクリーン印刷法 スクリーン印刷法はファインパターンが形成できるがペ
ースト・レオロジー性の為に100μが限界、広い範囲
に印刷する場合の膜厚が全体で均一にならない。印刷条
件がスキージ圧、スキージ速度、ペースト粘度、スクリ
ーン条件など複雑。
U)ペーストの直接描画 ペーストに固形成分を含む為、描画エリアてペーストか
均一に吐出されにくい為に描画用のペンの開口部を広く
てきない。さらにペーストの粘度か高い為、高速にパタ
ーンを直接描画することかできない。ファインパターン
て膜厚を厚くすることができないという欠点がある。
■)導体ペースト転写方式 転写という方法をとる為、導体ペーストを厚く転写する
か困難である上、うまく転写させる為には導体ペースト
の粘度、レオロジー上の制約が大きい。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のセラミック多層配線基板の導体パターン形成方
法は、セラミック板にバインダーを用いてパターンを形
成する工程と、前記セラミック板の前記パターンの形成
面に導体ペースト粉をふりかけ乾燥させる工程と、前記
セラミック板の前記パターンの形成面にエアーを吹きつ
け前記パターン以外の部分の前記導体ペースト粉を吹き
とばす工程とを有している6 〔実施例〕 次に本発明について図面を参照して説明する。
第1〜6図は、本発明の一実施例を工程順に示す縦断面
図である。
第1図の1−1はドクターブレード法によってポリエス
テルフィルム上にキャスティングされたセラミックグリ
ーンシートである。このときのグリーンシート1−1の
厚みは110μmである。
第2図はグリーンシート1−1にスルーホール21を形
成したものである。スルーホール2−1の径は200μ
mである。第3図はスルーホール2−1にスクリーン印
刷法により導体ペースト3−1の充填を行ったものであ
る。この導体ペースト3−1は金、銀、銀−パラジウム
、タングステン、モリブデン等か用いられる。
第4図はノスルテイスベンスによりグリーンシート1−
1の表面にバインダー4−1を導体y<ターンの形て描
画システム(例えはMicropen  Inc、のマ
イクロペンシステム400)により直接描画したちので
ある。この描画システムのノズル4−2の径は80μm
である。バインダー4−1としては、通常導体ペースト
とビヒクルと同じ物を使用し、この場合はエチルセルロ
ースをシンナーで希釈した物である。バインダーの粘度
は、20〜40kcpsである。この時、にじみの無い
ファインパターンを描かせるためには、バインダーの粘
度によりノズルの高さ、ノズルからのバインダーの吐出
圧と描画スピードを変えなければならない。この場合の
吐出圧は2kg/cm2.描画スピードは、2 Cm 
/ sである。この方法の他に導体ペーストに比ベレオ
ロシー性に優れたバインダーは、通常のスクリーン印刷
て80μmのファインパターンを形成することができる
第5図はグリーンシート1−1の上面全体にスルーホー
ル2−1に充填したものと同じ導体ペースト粉5−1を
振りかけ、一定時間放置した後、乾燥させたものである
。導体ペースト粉5−1はセラミックの焼成時の収縮と
パターンの接続性を確実にするために球状の導体ペース
ト粉と薄片状の導体ペースト粉を混合して使用するとよ
い。この時の放置時間は30分、乾燥条件は100°C
20分である。第6図はグリーンシート1−1上のペー
スト粉5−1をエアーにより吹き飛はしたものである。
これによりバインダー4−1についていない部分のペー
スト粉5−1がとはされ、導体パターンとしてペースト
6−1か残ることになる。エアーを吹き付ける方向は導
体パターンの長手方向と同じ方向にしなければならない
。エアーを導体パターンと直角の方向から吹き付けた場
合、パターンを切断する恐れがあるからである。
このようにして作った各層のグリーンシートを積層し、
脱パインター、焼成することにより高密度のセラミック
多層配線基板となる。なお本実施例は、グリーンシート
法によるセラミック多層配線基板のファインパターン化
を示したものであるが、同様の手法を取ることによりセ
ラミック厚膜基板でもファインパターンを実現する事が
できる。
第7〜10図は、本発明の他の実施例の縦断面図である
第7図は離けい剤か塗布されたポリエステルフィルム7
−1上にノズルティスペンスにより、パンインター7−
2を導体パターンの形で描画システム(例えはMicr
open  Inc  のマイクロペンシステム400
)により直接描画したものである。この描画システムの
ノズルの径は80μmである。バインダー7−2として
は、通常導体ペーストとビヒクルと同し物を使用し、こ
の場合はエチルセルロースをシンナーで希釈した物であ
る。パンインダー7−2の粘度は、20〜40kcps
である。この時、にじみの無いファインパターンを描か
せるためには、バインダーの粘度によりノズルの高さ、
ノズルからのパンインターの吐出圧と描画スピードを変
えなければならない。この場合の吐出圧は2 k g 
/ c m 2描画スピードは、2 c m / sで
ある。この方法の他に導体ペーストに比ベレオロジー性
に優れたバインダーは、通常のスクリーン印刷で80μ
mのファインパターンを形成することがてきる。しかも
セラミックグリーンシートやセラミ・・ツク基板上に描
画するときと違い、表面状態のきわめてよいポリエステ
ルフィルム上に描画するので、パターンの線幅のバラツ
キは、きわめて少なくさらにファインパターンが形成で
きる。
第8図はスルーホール8−2を形成したセラミッククリ
ーンシート8−1である。このときのセラミックグリー
ンシート8−1の厚みは1 ]、 O/4mてあり、ス
ルーホール8−2の径は、200ノ−tmである。第9
図はパンインダー7−2で導体パターンが描画されたポ
リエステルフィルム7−1を転写ローラー9−1にセッ
トし、スルーホール形成したセラミックグリーンシート
8−1にパンインダー7−2によるパターンを転写した
ちのである。第10図はスルーホール8−2にスクリー
ン印刷法により導体ペースト10−1の充填を行ったも
のである。この時の導体ペーストは金、銀、銀−パラジ
ウム、タングステン、モリフテン等か用いられる。
第11図はグリーンシー1−8−1の上面全体にスルー
ポール8−2に充填したものと同し導体ペースト粉11
−1を振りかけ、一定時間放置した後、乾燥させたもの
である。導体ペースト粉111はセラミックの焼成時の
収縮とパターンの接続性を確実にするまでに球状の導体
ペースト粉と1片状の導体ペースト粉を混合して使用す
るとよい。第12図はペースト粉をエアーにより吹き飛
ばしたものである。これによりバインダー7−2につい
ていない部分のペースト粉11−1がとばされ、導体パ
ターンとしてペースト12−1か残ることになる。エア
ーを吹き付ける方向は導体パターンと同じ方向にしなけ
れは゛ならない。エアーを導体パターンと直角の方向か
ら吹き付けた場合、パターンを切断する恐れがあるから
である。
このようにして作った各層のグリーンシートを積層し、
脱バインダー、焼成することにより高密度のセラミック
多層配線基板となる。なお本実施例は、グリーンシート
法によりセラミック多層配線基板のファインパターン化
を示したものであるが、同様の手法を取ることによりセ
ラミック厚膜基板でもファインパターンを実現する事か
できる。
〔発明の効果〕
以上説明した様に本発明は、導体のためのパターン形成
をまずバインダーだけを用いて行い、その後に導体ペー
スト粉をふりかけ導体パターンとすることにより、スク
リーンによる導体ペースト印刷では得られなかったファ
インパターンを形成することかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第6図は本発明の一実施例のセラミック多層配
線基板の導体パターン形成方法を工程順に示す断面図、
第7図〜第12図は本発明の他の実施例のセラミック多
層配線基板の導体パターン形成方法を工程順に示す断面
図である。 1−1.8−1・・・セラミックグリーンシート、1−
1 8−2・・スルーホール、3−1..101・・・
導体ペースト、l−1,7−2・・・パインダ1・・・
導体ペースト粉、 ・・ポリエステルフィルム、 1 ・・ 転写ローラ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  セラミック板にバインダーを用いてパターンを形成す
    る工程と、前記セラミック板の前記パターンの形成面に
    導体ペースト粉をふりかけ乾燥させる工程と、前記セラ
    ミック板の前記パターンの形成面にエアーを吹きつけ前
    記パターン以外の部分の前記導体ペースト粉を吹きとば
    す工程とを含むことを特徴とするセラミック多層配線基
    板の導体パターン形成方法。
JP2255607A 1990-09-26 1990-09-26 セラミック配線基板の導体パターン形成方法 Expired - Fee Related JP2596203B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010010239A (ja) * 2008-06-25 2010-01-14 Kyocera Corp 配線基板およびその製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5710290A (en) * 1980-06-23 1982-01-19 Clarion Co Ltd Method of forming wiring conductor for printed circuit board

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JP2010010239A (ja) * 2008-06-25 2010-01-14 Kyocera Corp 配線基板およびその製造方法

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