JPH04127597U - 電子線照射装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 不活性ガスを回収、再利用し、被照射物表面
の酸素濃度を低減すること。 【構成】 照射室５内に吹き出し部１１によって不活性
ガスを吹き出させ、照射室内の酸素濃度を低下させる。
予備室４、７内の不活性ガスを排気部１５、再利用ブロ
ワ１７によって回収加圧し、吹き出し部１８で被照射ウ
エブ１の表面に吹き付ける。不活性ガスを回収、再利用
することにより、不活性ガスの消費量を増加させずに、
ウエブ塗膜のキュアリングに影響を与える表面酸素濃度
を効率良く低減させることができる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、不活性ガスの雰囲気中で被照射物に電子線を照射する装置において 、不活性ガスを再利用する電子線照射装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

紙、フィルム等のウエブにおける塗膜のキュアリングにあっては、電子線照射 雰囲気の酸素濃度が高いと所要の物理的、化学的特性が得られない場合があり、 かかるキュアリングにあっては、酸素濃度が所定値以下となるように、照射雰囲 気を不活性ガス（例えば窒素ガス）で置換する方法がとられている。

【０００３】 図２は、この不活性ガス置換に係る電子線照射装置の概略図を示し、ウエブ入 口から入口側第３予備室２に供給された被照射ウエブ１は、搬送ロ−ラで案内さ れて入口側第２予備室３、同第３予備室４を経て照射室５に導入される。照射室 ５でウエブ１に電子線発生部６からの電子線が照射され、ウエブ１は出口側の第 １、第２、第３の各予備室７、８、９を搬送ロ−ラで案内されて通過する。照射 室５内で発生したＸ線は、上記入口側、出口側の各予備室２ないし４、７ないし ９において反射、減衰し外部に漏洩しないように構成されている。図示しない不 活性ガス源から不活性ガス導入配管１０によって供給される不活性ガスは、吹き 出し部１１から照射室５内に吹き出され、照射室５内の酸素濃度が所定値以下と なるように照射室内雰囲気を不活性ガスで置換する。入口側及び出口側の第３予 備室２、９を排気部１２、排気配管１３、排気ブロワ１４によって排気し、照射 室５内に酸素が入り込まないように構成されている。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

上述の従来例における不活性ガスの供給構造は、照射室５内に吹き出し部１１ によって不活性ガスを吹き出させ、照射室５内の雰囲気を置換するパ−ジ方式を 用いている。しかし、これでは塗膜のキュアリングに最も影響を与えるウエブ１ 表面の酸素濃度を低減させるにはあまり寄与しない。また、排気部１２によって 入口側及び出口側の第３予備室２、９内の不活性ガスを排気しても、搬送される ウエブ１の表面に随伴する酸素の低減には有効に機能せず、ウエブ１表面の酸素 濃度を充分に低下させるには、必然的に照射室５内に多量の不活性ガスを供給し なければならない。

【０００５】 本考案は、不活性ガスを再利用し、少ない消費量でウエブ表面の酸素濃度を効 率良く低下させることができる電子線照射装置を提供することを目的とするもの である。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

本考案は、不活性ガス雰囲気中で電子線を被照射物に照射する電子線照射装置 において、照射室内に不活性ガスを供給する吹き出し部と、予備室内の雰囲気ガ スを回収する回収部と、この回収部からの回収ガスを他の予備室内において被照 射物の表面に吹き付ける吹き出し部とを有するように構成したことを特徴とする ものである。

【０００７】

【作用】

照射室内に不活性ガスが吹き出され、同室内の雰囲気は不活性ガスで置換され る。照射室に連通している予備室内の雰囲気ガスが回収され、この回収ガスは、 他の予備室において被照射物の表面に吹き付けられ、再利用される。これにより 、被照射物の表面に随伴し、持ち込まれた酸素は剥ぎ取られ、不活性ガスで置換 された照射室内において、表面酸素濃度が充分に低減された状態で被照射物のキ ュアリングを行うことができる。

【０００８】

【実施例】

本考案の一実施例を図１を参照して説明する。図２と同一符号は同等部分を示 す。図示しない不活性ガス源からの不活性ガスを照射室５に吹き出し部１１で吹 き出させて供給し、照射室５内の酸素濃度を低減させる。これと並行して、照射 室５に隣接する第１予備室４、７内の不活性ガスを排気部１５、再利用配管１６ 、再利用ブロワ１７による回収部で回収加圧し、回収された不活性ガスを第２予 備室３、８内に配置されたナイフ方式の数mm程度のスリット状の吹き出し部１８ によってウエブ１の表面に対して鋭角に吹き付ける。これにより、ウエブ１に随 伴して持ち込まれたウエブ表面の酸素は剥ぎ取られ、表面酸素濃度が低減された 状態でウエブ１は照射室５内に導入される。この吹き付けに係る不活性ガスは、 照射室５内に吹き出された不活性ガスを再利用しているため、酸素濃度を所要の 値以下に低減するのに不活性ガスの使用量を減らすことが可能となる。また、従 来例と同様に、第３予備室２の雰囲気ガスを排気部１２、排気配管１３、排気ブ ロワ１４によって排気する。これに伴い、ウエブ入口から第３予備室に入り込む 酸素、ウエブ１によって持ち込まれる酸素が低減され、照射室５内部の雰囲気の 酸素濃度、ウエブ１表面の酸素濃度を効率良く低減させることができる。

【０００９】

【考案の効果】

本考案は以上説明したように、予備室において、不活性ガスが回収され、この 回収ガスは被照射物の表面に吹き付けられて、搬送された被照射物の表面に随伴 して持ち込まれた酸素を剥ぎ取るから、被照射物表面の酸素濃度を不活性ガスの 消費量を増加させずに効率良く低減することが可能となり、この低い表面酸素濃 度状態のもとで被照射物は、不活性ガスで置換された照射室内に導入され、電子 線の照射を行うことができ、所要の物理的、化学的特性を具現するキュアリング の実施が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例を示す電子線照射装置の概略
図である。

【図２】従来例の電子線照射装置の概略図である。

【符号の説明】

1 ウエブ 2〜4 入口側予備室 5 照射室 7〜9 出口側予備室 11 不活性ガス吹き出し部 15 排気部 18 回収不活性ガス吹き出し部

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 不活性ガス雰囲気中で電子線を被照射物
   に照射する電子線照射装置において、照射室内に不活性
   ガスを供給する吹き出し部と、予備室内の雰囲気ガスを
   回収する回収部と、この回収部からの回収ガスを他の予
   備室内において被照射物の表面に吹き付ける吹き出し部
   とを有することを特徴とする電子線照射装置。