JP2554197Y2 - 連設型表面処理装置 - Google Patents
連設型表面処理装置Info
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- JP2554197Y2 JP2554197Y2 JP1991089614U JP8961491U JP2554197Y2 JP 2554197 Y2 JP2554197 Y2 JP 2554197Y2 JP 1991089614 U JP1991089614 U JP 1991089614U JP 8961491 U JP8961491 U JP 8961491U JP 2554197 Y2 JP2554197 Y2 JP 2554197Y2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、表面処理用薬剤とし
て腐蝕性流体が使用され、雰囲気中にその腐蝕性流体の
ベーパーが混在するような処理室、例えばスプレイエッ
チング処理室を含み、そのエッチング処理室と別の処理
室、例えば現像処理室や剥膜処理室とが連絡室を介在さ
せて連設された型式の表面処理装置に関し、この連設型
表面処理装置は、液晶表示装置やプリント基板などを製
造する場合に使用される。
て腐蝕性流体が使用され、雰囲気中にその腐蝕性流体の
ベーパーが混在するような処理室、例えばスプレイエッ
チング処理室を含み、そのエッチング処理室と別の処理
室、例えば現像処理室や剥膜処理室とが連絡室を介在さ
せて連設された型式の表面処理装置に関し、この連設型
表面処理装置は、液晶表示装置やプリント基板などを製
造する場合に使用される。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置やプリント基板などはフォ
トエッチング法を利用して製造されるが、その一連の製
造プロセス中、エッチング工程では、塩化第２鉄水溶液
と塩酸との混合液や塩酸と硝酸との混合液などの腐蝕液
が使用され、その腐蝕液をスプレイ管から、搬送ローラ
等によって処理室内を水平方向へ搬送される被処理板材
の表面に対し噴射してスプレイエッチングが行なわれ
る。このため、エッチング処理室の内部では、スプレイ
管から噴射された腐蝕液の一部が気化してそのベーパー
が生成される。このベーパーは、強い腐蝕性を有してい
るので、処理室の、被処理板材の通過用の開口（パスラ
イン開口）から室外へ流出しないように、処理室内の雰
囲気ガスを強制的に排気して室内を常に負圧に保つよう
にしている。
トエッチング法を利用して製造されるが、その一連の製
造プロセス中、エッチング工程では、塩化第２鉄水溶液
と塩酸との混合液や塩酸と硝酸との混合液などの腐蝕液
が使用され、その腐蝕液をスプレイ管から、搬送ローラ
等によって処理室内を水平方向へ搬送される被処理板材
の表面に対し噴射してスプレイエッチングが行なわれ
る。このため、エッチング処理室の内部では、スプレイ
管から噴射された腐蝕液の一部が気化してそのベーパー
が生成される。このベーパーは、強い腐蝕性を有してい
るので、処理室の、被処理板材の通過用の開口（パスラ
イン開口）から室外へ流出しないように、処理室内の雰
囲気ガスを強制的に排気して室内を常に負圧に保つよう
にしている。
【０００３】また、エッチング処理室の内部で生成した
腐蝕性のベーパーがパスライン開口を通して室外へ漏れ
出るのを防止する方法として、例えば実公昭５９−１９
７２７号公報には、スプレイ室（処理室）の前後に遮蔽
室を一直線状に配置し、その前後の遮蔽室に被処理板材
の通過路を設け、水などの遮蔽液を前後遮蔽室と貯槽と
の間に循環させるとともに、その前後遮蔽室内に被処理
板材通過路から流出する量よりも多い量の遮蔽液を供給
してその液面が被処理板材通過路よりも上位に位置する
ようにし、かつ、スプレイ室の天板の両端から垂下する
遮蔽板を前後遮蔽室の液中に没入させるように構成し
て、スプレイ室において発生したベーパーの流出を防止
するようにした技術が開示されている。
腐蝕性のベーパーがパスライン開口を通して室外へ漏れ
出るのを防止する方法として、例えば実公昭５９−１９
７２７号公報には、スプレイ室（処理室）の前後に遮蔽
室を一直線状に配置し、その前後の遮蔽室に被処理板材
の通過路を設け、水などの遮蔽液を前後遮蔽室と貯槽と
の間に循環させるとともに、その前後遮蔽室内に被処理
板材通過路から流出する量よりも多い量の遮蔽液を供給
してその液面が被処理板材通過路よりも上位に位置する
ようにし、かつ、スプレイ室の天板の両端から垂下する
遮蔽板を前後遮蔽室の液中に没入させるように構成し
て、スプレイ室において発生したベーパーの流出を防止
するようにした技術が開示されている。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】ところで、エッチング
処理室に隣接して別の処理室、すなわち現像処理室や剥
膜処理室を設置し、それらの隣り合う処理室同士を連絡
室を介して互いに連通させ、それぞれの処理室や連絡室
に搬送ローラ等の搬送機構を一直線上に配設した連設型
の表面処理装置においては、次のような問題点がある。
すなわち、エッチング処理室だけでなく現像処理室や剥
膜処理室でも、処理室内の雰囲気ガスの強制排気がそれ
ぞれ行なわれ、各室内が常に負圧に保たれており、一
方、連絡室は、気密に近い状態で隣り合う処理室同士を
連通させている。この場合、通常は、エッチング処理室
の負圧が他の各処理室の負圧に比べて大きくなるように
設定されている。従って、装置が正常に運転されている
限りは、エッチング処理室内へ空気が流れ込み、エッチ
ング処理室の内部からパスライン開口を通して腐蝕性の
ベーパーが隣接する別の処理室、すなわち現像処理室あ
るいは剥膜処理室へ漏れ出ることはない。ところが、排
気用フアンの動作不良など、何らかの原因によって各処
理室の排気圧が変動したり、各処理室の内部に設けられ
ているエアーナイフの圧力が変更されたり、エッチング
処理室に設けられた開閉蓋を開放したりして、各処理室
間の排気圧バランスが崩れると、エッチング処理室内が
負圧状態を維持していても、それより現像処理室或いは
剥膜処理室の負圧が大きくなる。その結果、エッチング
処理室の雰囲気ガスが他の処理室の方へ引っ張られ、エ
ッチング処理室からパスライン開口を通って容易にベー
パー漏れが起こってしまう。エッチング処理室からのベ
ーパー漏れが短時間でも起こると、エツチング処理に使
用される腐蝕液は極めて腐蝕性が強いため、漏れ出たベ
ーパーによって現像処理室や剥膜処理室のＳＵＳ部品等
が簡単に腐蝕されてしまう、といった大きな問題点があ
る。
処理室に隣接して別の処理室、すなわち現像処理室や剥
膜処理室を設置し、それらの隣り合う処理室同士を連絡
室を介して互いに連通させ、それぞれの処理室や連絡室
に搬送ローラ等の搬送機構を一直線上に配設した連設型
の表面処理装置においては、次のような問題点がある。
すなわち、エッチング処理室だけでなく現像処理室や剥
膜処理室でも、処理室内の雰囲気ガスの強制排気がそれ
ぞれ行なわれ、各室内が常に負圧に保たれており、一
方、連絡室は、気密に近い状態で隣り合う処理室同士を
連通させている。この場合、通常は、エッチング処理室
の負圧が他の各処理室の負圧に比べて大きくなるように
設定されている。従って、装置が正常に運転されている
限りは、エッチング処理室内へ空気が流れ込み、エッチ
ング処理室の内部からパスライン開口を通して腐蝕性の
ベーパーが隣接する別の処理室、すなわち現像処理室あ
るいは剥膜処理室へ漏れ出ることはない。ところが、排
気用フアンの動作不良など、何らかの原因によって各処
理室の排気圧が変動したり、各処理室の内部に設けられ
ているエアーナイフの圧力が変更されたり、エッチング
処理室に設けられた開閉蓋を開放したりして、各処理室
間の排気圧バランスが崩れると、エッチング処理室内が
負圧状態を維持していても、それより現像処理室或いは
剥膜処理室の負圧が大きくなる。その結果、エッチング
処理室の雰囲気ガスが他の処理室の方へ引っ張られ、エ
ッチング処理室からパスライン開口を通って容易にベー
パー漏れが起こってしまう。エッチング処理室からのベ
ーパー漏れが短時間でも起こると、エツチング処理に使
用される腐蝕液は極めて腐蝕性が強いため、漏れ出たベ
ーパーによって現像処理室や剥膜処理室のＳＵＳ部品等
が簡単に腐蝕されてしまう、といった大きな問題点があ
る。
【０００５】ここで、実公昭５９−１９７２７号公報に
開示されているような方法によれば、エッチング処理室
から隣接する別の処理室へのベーパー漏れを防止するこ
とができる。しかしながら、その場合には、被処理板材
が遮蔽液と接触することにより板材表面が汚染される心
配があり、また、装置の構成も複雑になる、といった問
題点がある。
開示されているような方法によれば、エッチング処理室
から隣接する別の処理室へのベーパー漏れを防止するこ
とができる。しかしながら、その場合には、被処理板材
が遮蔽液と接触することにより板材表面が汚染される心
配があり、また、装置の構成も複雑になる、といった問
題点がある。
【０００６】この考案は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、複数の処理室と隣り合う処理室間を
連通する連絡室とが連設された型式の表面処理装置にお
いて、簡単な構成により、例えばエッチング処理室のよ
うに腐蝕性流体を使用する処理室から隣接する別の処理
室へそのベーパーが漏れ出るのを常に防止できるように
することを技術的課題とする。
されたものであり、複数の処理室と隣り合う処理室間を
連通する連絡室とが連設された型式の表面処理装置にお
いて、簡単な構成により、例えばエッチング処理室のよ
うに腐蝕性流体を使用する処理室から隣接する別の処理
室へそのベーパーが漏れ出るのを常に防止できるように
することを技術的課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この考案は、それぞれ、
被処理板材を水平方向へ搬送する搬送手段を備えるとと
もに雰囲気ガスを強制的に排気する強制排気手段に連通
接続されて負圧に保たれた、少なくとも２つの処理室が
隣接して配設され、それら処理室の少なくとも一方に
は、搬送手段によって水平方向へ搬送される被処理板材
の表面に対し腐蝕性流体を供給する腐蝕性流体供給手段
が設けられ、また、両処理室間において被処理板材を水
平方向へ搬送する搬送手段を有し、その搬送手段を包囲
するとともに両処理室を連通させる連絡室が両処理室に
一列に連なるように配設された連設型表面処理装置であ
って、前記連絡室の周壁面に大気と連通する開口部を形
成したことを特徴とする。
被処理板材を水平方向へ搬送する搬送手段を備えるとと
もに雰囲気ガスを強制的に排気する強制排気手段に連通
接続されて負圧に保たれた、少なくとも２つの処理室が
隣接して配設され、それら処理室の少なくとも一方に
は、搬送手段によって水平方向へ搬送される被処理板材
の表面に対し腐蝕性流体を供給する腐蝕性流体供給手段
が設けられ、また、両処理室間において被処理板材を水
平方向へ搬送する搬送手段を有し、その搬送手段を包囲
するとともに両処理室を連通させる連絡室が両処理室に
一列に連なるように配設された連設型表面処理装置であ
って、前記連絡室の周壁面に大気と連通する開口部を形
成したことを特徴とする。
【０００８】上記構成の表面処理装置では、連絡室の周
壁面に大気と連通する開口部が形成されているので、腐
蝕性流体を使用する処理室、例えばスプレイエッチング
処理室が強制排気手段による排気により負圧に保たれて
いる限りは、その負圧と大気圧との気圧差により、常
に、前記開口部を通して連絡室内へ外気が流入し、その
外気が連絡室からパスライン開口を通ってエッチング処
理室内へ流れ込み、他の処理室との間の排気圧バランス
の如何に拘らず、エッチング処理室内の雰囲気ガスが隣
接する別の処理室、例えば現像処理室あるいは剥膜処理
室へ流れ出るようなことが無い。
壁面に大気と連通する開口部が形成されているので、腐
蝕性流体を使用する処理室、例えばスプレイエッチング
処理室が強制排気手段による排気により負圧に保たれて
いる限りは、その負圧と大気圧との気圧差により、常
に、前記開口部を通して連絡室内へ外気が流入し、その
外気が連絡室からパスライン開口を通ってエッチング処
理室内へ流れ込み、他の処理室との間の排気圧バランス
の如何に拘らず、エッチング処理室内の雰囲気ガスが隣
接する別の処理室、例えば現像処理室あるいは剥膜処理
室へ流れ出るようなことが無い。
【０００９】尚、上記連絡室の開口部に蓋部材を付設
し、その蓋部材によって開口部を所定距離を隔てて被覆
するような構造とし、開口部を通して連絡室内に不要物
が落下したりするのを防ぐようにするとよい。また、連
絡室の開口部にフィルターを配設することにより、大気
中から連絡室を通って処理室内へ塵埃等が流入するのを
防止するようにしてもよい。
し、その蓋部材によって開口部を所定距離を隔てて被覆
するような構造とし、開口部を通して連絡室内に不要物
が落下したりするのを防ぐようにするとよい。また、連
絡室の開口部にフィルターを配設することにより、大気
中から連絡室を通って処理室内へ塵埃等が流入するのを
防止するようにしてもよい。
【００１０】
【実施例】以下、この考案の好適な実施例について図面
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
【００１１】図１は、この考案の１実施例に係る連設型
表面処理装置の概略構成を示す模式的縦断面図である。
この装置は、例えばプリント基板の製造ラインの一部を
なすものであり、現像機10、スプレイエッチング機12及
び剥膜（レジスト膜剥離）機14から構成されている。そ
して、それらの３つの処理室、すなわち現像処理室16、
エッチング処理室18及び剥膜処理室20と、４つの連絡
室、すなわち、現像処理室16とその前段の処理室（図示
せず）とを連絡する連絡室22、現像処理室16とエッチン
グ処理室18とを連通させる連絡室24、エッチング処理室
18と剥膜処理室20とを連通させる連絡室26、並びに、剥
膜処理室20と後段の処理室（図示せず）とを連絡する連
絡室28とが、一直線上に連設されている。
表面処理装置の概略構成を示す模式的縦断面図である。
この装置は、例えばプリント基板の製造ラインの一部を
なすものであり、現像機10、スプレイエッチング機12及
び剥膜（レジスト膜剥離）機14から構成されている。そ
して、それらの３つの処理室、すなわち現像処理室16、
エッチング処理室18及び剥膜処理室20と、４つの連絡
室、すなわち、現像処理室16とその前段の処理室（図示
せず）とを連絡する連絡室22、現像処理室16とエッチン
グ処理室18とを連通させる連絡室24、エッチング処理室
18と剥膜処理室20とを連通させる連絡室26、並びに、剥
膜処理室20と後段の処理室（図示せず）とを連絡する連
絡室28とが、一直線上に連設されている。
【００１２】各処理室16、18、20及び各連絡室22、24、
26、28の内部には、搬送ローラからなる搬送機構30〜42
がそれぞれ配設されており、全体として一直線状の搬送
路が形成されている。また、各処理室16、18、20は、排
気ファン（図示せず）にそれぞれ連通接続されており、
各処理室16、18、20の内部の雰囲気ガスを強制的に排気
するようにされている。そして、エッチング処理室18に
は、搬送機構32によって水平方向へ搬送される被処理板
材50の表面に対しエッチング液（腐蝕液）を噴出させる
スプレイ管44が設けられている。また、現像処理室16及
び剥膜処理室20には、各搬送機構30、34によって搬送さ
れる被処理板材50の表面に対し現像液及び剥離液をそれ
ぞれ噴出させるスプレイ管46、48が設けられている。
26、28の内部には、搬送ローラからなる搬送機構30〜42
がそれぞれ配設されており、全体として一直線状の搬送
路が形成されている。また、各処理室16、18、20は、排
気ファン（図示せず）にそれぞれ連通接続されており、
各処理室16、18、20の内部の雰囲気ガスを強制的に排気
するようにされている。そして、エッチング処理室18に
は、搬送機構32によって水平方向へ搬送される被処理板
材50の表面に対しエッチング液（腐蝕液）を噴出させる
スプレイ管44が設けられている。また、現像処理室16及
び剥膜処理室20には、各搬送機構30、34によって搬送さ
れる被処理板材50の表面に対し現像液及び剥離液をそれ
ぞれ噴出させるスプレイ管46、48が設けられている。
【００１３】各連絡室22、24、26、28の上壁面には、開
口部52がそれぞれ形設されており、各連絡室22、24、2
6、28の内部と大気とが連通している。尚、開口部は、
上壁面でなく側壁面等に形成してもよく、また、上壁面
と共に側壁面に形成するようにしてもよい。連絡室の開
口部52には、その開口部52を通して不要物が落下したり
するのを防ぐため、蓋部材54が付設されている。蓋部材
54は、開口部52の開口面と所定距離を隔てて配置され、
その開口面を被覆するとともに、蓋部材54と開口面との
間が空気通路となるようにされている。また、連絡室の
開口部52にフィルターを配設し、連絡室22〜28内に塵埃
等が流入するのを防止するようにしてもよい。
口部52がそれぞれ形設されており、各連絡室22、24、2
6、28の内部と大気とが連通している。尚、開口部は、
上壁面でなく側壁面等に形成してもよく、また、上壁面
と共に側壁面に形成するようにしてもよい。連絡室の開
口部52には、その開口部52を通して不要物が落下したり
するのを防ぐため、蓋部材54が付設されている。蓋部材
54は、開口部52の開口面と所定距離を隔てて配置され、
その開口面を被覆するとともに、蓋部材54と開口面との
間が空気通路となるようにされている。また、連絡室の
開口部52にフィルターを配設し、連絡室22〜28内に塵埃
等が流入するのを防止するようにしてもよい。
【００１４】以上のような構成の連設型表面処理装置を
運転した場合、各処理室１６、１８、２０の内部は、そ
れぞれ強制排気されて負圧となり、その負圧と大気圧と
の気圧差により、各開口部５２を通して各連絡室２２、
２４、２６、２８の内部へ外気が流入し、その外気が各
連絡室２２、２４、２６、２８からパスライン開口を通
って各処理室１６、１８、２０内へ流入することにな
る。この場合、各処理室１６、１８、２０の負圧の大き
さが相違し、特に、何らかの理由によってエッチング処
理室１８内の負圧より現像処理室１６内又は剥膜処理室
２０内の負圧が大きくなるようなことがあっても、エッ
チング処理室１８と現像処理室１６又は剥膜処理室２０
との間には、大気に連通した連絡室２４又は連絡室２６
が介在しているため、エッチング処理室１８内の雰囲気
ガスが現像処理室１６又は剥膜処理室２０の内部の負圧
の作用によって現像処理室１６又は剥膜処理室２０の方
へ引っ張られるようなことはない。従って、エッチング
処理室１８内においてスプレイ管４４から噴射されて気
化した腐蝕液のベーパーがエッチング処理室１８の外部
へ漏れ出て、現像機１０や剥膜機１４のＳＵＳ部品等を
腐蝕させるといったことは起こらない。しかも、通常、
エッチング処理室１８の上面又は側面には監視用又はメ
ンテナンス用の開口が形成されているが、たとえこのよ
うな開口に付設されている開閉蓋を開放した場合でも、
同様の理由により、この開口を介してエッチング処理室
１８内の雰囲気ガスが現像処理室１６又は剥膜処理室２
０内に流入することはない。
運転した場合、各処理室１６、１８、２０の内部は、そ
れぞれ強制排気されて負圧となり、その負圧と大気圧と
の気圧差により、各開口部５２を通して各連絡室２２、
２４、２６、２８の内部へ外気が流入し、その外気が各
連絡室２２、２４、２６、２８からパスライン開口を通
って各処理室１６、１８、２０内へ流入することにな
る。この場合、各処理室１６、１８、２０の負圧の大き
さが相違し、特に、何らかの理由によってエッチング処
理室１８内の負圧より現像処理室１６内又は剥膜処理室
２０内の負圧が大きくなるようなことがあっても、エッ
チング処理室１８と現像処理室１６又は剥膜処理室２０
との間には、大気に連通した連絡室２４又は連絡室２６
が介在しているため、エッチング処理室１８内の雰囲気
ガスが現像処理室１６又は剥膜処理室２０の内部の負圧
の作用によって現像処理室１６又は剥膜処理室２０の方
へ引っ張られるようなことはない。従って、エッチング
処理室１８内においてスプレイ管４４から噴射されて気
化した腐蝕液のベーパーがエッチング処理室１８の外部
へ漏れ出て、現像機１０や剥膜機１４のＳＵＳ部品等を
腐蝕させるといったことは起こらない。しかも、通常、
エッチング処理室１８の上面又は側面には監視用又はメ
ンテナンス用の開口が形成されているが、たとえこのよ
うな開口に付設されている開閉蓋を開放した場合でも、
同様の理由により、この開口を介してエッチング処理室
１８内の雰囲気ガスが現像処理室１６又は剥膜処理室２
０内に流入することはない。
【００１５】以上の説明は、プリント基板の製造ライン
の一部をなす現像機−スプレイエッチング機−剥膜機連
設型表面処理装置を例にとって行なったが、この考案
は、処理に伴って腐蝕性のベーパーが発生するような処
理室を含んだ速設型表面処理装置に広く適用し得るもの
である。
の一部をなす現像機−スプレイエッチング機−剥膜機連
設型表面処理装置を例にとって行なったが、この考案
は、処理に伴って腐蝕性のベーパーが発生するような処
理室を含んだ速設型表面処理装置に広く適用し得るもの
である。
【００１６】また、上記実施例では、現像処理室16、エ
ッチング処理室18及び剥膜処理室20において、スプレイ
管46、44及び48からそれぞれ現像液、エッチング液及び
剥膜液を被処理板材50の表面に向けて噴射しているが、
このようなスプレイ管の代わりに、ガイド手段を介して
各処理液を自重により被処理板材50の表面上に流下させ
るようにしてもよい。さらに、エッチング処理室18にお
いて、腐蝕性の液体をスプレイ管44を介して噴射する代
わりに、腐蝕性気体の供給源に連通する開口部を形成
し、この開口部を介して腐蝕性の気体を被処理板材50に
供給するようにしてもよい。
ッチング処理室18及び剥膜処理室20において、スプレイ
管46、44及び48からそれぞれ現像液、エッチング液及び
剥膜液を被処理板材50の表面に向けて噴射しているが、
このようなスプレイ管の代わりに、ガイド手段を介して
各処理液を自重により被処理板材50の表面上に流下させ
るようにしてもよい。さらに、エッチング処理室18にお
いて、腐蝕性の液体をスプレイ管44を介して噴射する代
わりに、腐蝕性気体の供給源に連通する開口部を形成
し、この開口部を介して腐蝕性の気体を被処理板材50に
供給するようにしてもよい。
【００１７】
【考案の効果】この考案は以上説明したように構成され
かつ作用するので、この考案によれば、処理に伴って腐
蝕性のベーパーが発生するような処理室、例えばスプレ
イエッチング処理室を含み、そのエッチング処理室と別
の処理室とが連絡室を介在させて連通しているような構
成の連設型表面処理装置において、各処理室間の排気圧
バランスの如何に拘らず、エッチング処理室から腐蝕性
のベーパーが隣接する別の処理室へ漏れ出て、その別の
処理室の部品等が腐食されるのを常に有効に防止するこ
とができ、装置の構成も簡単であり、また、被処理板材
に何らかの問題が生じる心配も無い。
かつ作用するので、この考案によれば、処理に伴って腐
蝕性のベーパーが発生するような処理室、例えばスプレ
イエッチング処理室を含み、そのエッチング処理室と別
の処理室とが連絡室を介在させて連通しているような構
成の連設型表面処理装置において、各処理室間の排気圧
バランスの如何に拘らず、エッチング処理室から腐蝕性
のベーパーが隣接する別の処理室へ漏れ出て、その別の
処理室の部品等が腐食されるのを常に有効に防止するこ
とができ、装置の構成も簡単であり、また、被処理板材
に何らかの問題が生じる心配も無い。
【図１】この考案の１実施例に係る連設型表面処理装置
の概略構成を示す模式的縦断面図である。
の概略構成を示す模式的縦断面図である。
16 現像処理室 18 エッチング処理室 20 剥膜処理室 22、24、26、28 連絡室 30〜42 搬送機構 44 腐蝕液のスプレイ管 46、48 スプレイ管 50 被処理板材 52 開口部 54 蓋部材
Claims (3)
- 【請求項１】 被処理板材を水平方向へ搬送する搬送手
段及びこの搬送手段によって水平方向へ搬送される被処
理板材の表面に対し腐蝕性流体を供給する腐蝕性流体供
給手段を備え、雰囲気ガスを強制的に排気する強制排気
手段に連通接続されて負圧に保たれた第１の処理室と、
この第１の処理室に隣接し、被処理板材を水平方向へ搬
送する搬送手段及びこの搬送手段によって水平方向へ搬
送される被処理板材の表面に対し処理用流体を供給する
処理用流体供給手段を備え、雰囲気ガスを強制的に排気
する強制排気手段に連通接続されて負圧に保たれた第２
の処理室と、これら両処理室間において被処理板材を水
平方向へ搬送する搬送手段を有し、その搬送手段を包囲
するとともに前記両処理室を連通させる連絡室と、この
連絡室の周壁面に形成されて大気と連通する開口部と、
を備え、その開口部を通して連絡室内へ流入した大気を
前記第１及び第２の各処理室へ流入させるようにしたこ
とを特徴とする連設型表面処理装置。 - 【請求項２】 連絡室の開口部に、その開口部を所定距
離を隔てて被覆する蓋部材を付設し、その蓋部材と前記
開口部周縁との間を空気通路とした請求項１記載の連設
型表面処理装置。 - 【請求項３】 連絡室の開口部に、大気中から連絡室内
へ塵埃が流入するのを防止するフィルターを配設した請
求項１又は請求項２記載の連設型表面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991089614U JP2554197Y2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 連設型表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991089614U JP2554197Y2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 連設型表面処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0533153U JPH0533153U (ja) | 1993-04-30 |
| JP2554197Y2 true JP2554197Y2 (ja) | 1997-11-12 |
Family
ID=13975631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991089614U Expired - Lifetime JP2554197Y2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 連設型表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2554197Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02107146U (ja) * | 1989-02-14 | 1990-08-27 |
-
1991
- 1991-10-04 JP JP1991089614U patent/JP2554197Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0533153U (ja) | 1993-04-30 |
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