JPS5919727Y2 - エツチングマシン - Google Patents

エツチングマシン

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Publication number
JPS5919727Y2
JPS5919727Y2 JP9464878U JP9464878U JPS5919727Y2 JP S5919727 Y2 JPS5919727 Y2 JP S5919727Y2 JP 9464878 U JP9464878 U JP 9464878U JP 9464878 U JP9464878 U JP 9464878U JP S5919727 Y2 JPS5919727 Y2 JP S5919727Y2
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JP
Japan
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shielding
chambers
liquid
corroded
storage tank
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Expired
Application number
JP9464878U
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English (en)
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JPS5511868U (ja
Inventor
秀夫 椿
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  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、プリント基板などのスプレー装置に関するも
のである。
従来のこの種のスプレー装置において、沸点が低い腐蝕
液を噴射させる場合には、スプレー室内において沸点の
低い溶剤の大部分が噴射、スプレー作用により気化し、
その気化ガスがスプレー室の前後に開口されている被腐
蝕材の通過路から逃出したり、気化しなかった溶剤が流
出したりするのをさけることかで゛きず、しかも逃出し
たガ゛スを集めてダクト等より屋外に排出させる必要が
あり、このため腐蝕液を無駄に消費するばかりでなく、
大気汚染による公害問題が生ずるなどの欠点がある。
本考案は、上述の諸装置を改善したスプレー装置を提供
せんとするものである。
以下、本考案に係るスプレー装置の一実施例を添付図面
を参照して説明する。
この実施例のスプレー装置は、スプレー室1と、そのス
プレー室1の前後に配置した前後の遮蔽室2.3と、前
記前遮蔽室2、スプレー室1、後遮蔽室3内に設けた被
腐蝕材4の搬送機構5と、水などの遮蔽液を貯える貯槽
6と、その貯槽6と前記前後遮蔽室2,3との間に配設
した遮蔽液流路管と、その流路管の途中に設けたポンプ
8とからなる。
前記スプレー室1および遮蔽室2,3に被腐蝕材4の通
過用の開口11.21.31を略々一直線上に設けると
共に、前記スプレー室1内の上下に沸点が低く水に不溶
性の溶剤を被腐蝕材4に噴射させる噴射管12を設ける
前記搬送機構5は上下1対の送りロールよりなり、この
送りロールを前記スプレー室1および前後遮蔽室2,3
の開口11.21゜31を結ぶ一直線上に配し、駆動機
構(図示せず)により上下ロールをそれぞれ矢印方向に
回転させて被腐蝕材4を矢印方向に搬送させる。
前記貯槽6の底部には溶剤取出口61を設ける。
前記流路管は、貯槽6とポンプ8の間に配設した第1流
路管71と、そのポンプ8と前記前後遮蔽室2,3の間
に配設した第2流路管72と、前記前後遮蔽室2゜3の
前後に備えた控室22.32と前記貯槽6の間に配設し
た第3流路管73とからなる。
前記ポンプ8は前記遮蔽室2,3の開口21.31より
流出する量よりも多い量の遮蔽液を吐出するものを使用
して、液面が常時搬送機構5の上ロールより上位に位置
するように前記前後遮蔽室2,3中に遮蔽液が満たされ
るように構成する。
9はスプレー室を覆う天板の両端から垂下させた遮蔽板
で、その下部を前記の如くして遮蔽室に満されている遮
蔽液中に没入させる。
本考案のスプレー装置は、上記の如き構成よりなるから
、貯槽6中の遮蔽液をポンプ8により第1流路管71.
第2流路管72を経て前後遮蔽室2゜3中に液面が常時
搬送機構5の上ロールより上位に位置するように供給し
、スプレー室1の前後を前後遮蔽室2,3中の遮蔽液に
より遮蔽するため、スプレー室1中において被腐蝕材4
のスプレー処理により発生したガスの逃出や溶剤の流出
を完全に防ぐことができる。
また、前記前後遮蔽室2゜3の開口21.31より流出
した遮蔽液は控室22゜32、第3流路管73を経て前
記貯槽6中に戻り、第1流路管71.第2流路管72、
前後遮蔽室2,3、控室22.32、第3流路管73を
循環するので、無駄がなく経済的である。
そして、水に混合した溶剤は貯槽6中に入り、ここで比
重差により水と分離して貯槽6の底に沈澱し、これを貯
槽6の取出口61より定期的に取出して回収することが
できる。
なお、上述の実施例において使用する溶剤は、例えば塩
化エチレン、トリクレン、クロロセン等である。
なお、前記の実施例においては、前後遮蔽室を壁板によ
って構成し、その壁板に設けた開口を被腐蝕材の通過路
としたものを示したが、本考案の前後遮蔽室はこのよう
な構造に限定されるものではなく、弾性を有する上下一
対の大径ロール間に被腐蝕材を挾んで通過させるように
すると共に、その上下一対の大径ロールによって前後遮
蔽室を構成することもできる。
以上の如く、本考案のスプレー装置は、スプレー室の前
後に遮蔽室を一直線状に配置し、その前後の遮蔽室に被
腐蝕材の通過路を設け、水などの遮蔽液を前記前後遮蔽
室と貯槽との間に循環させると共に、その前後遮蔽室内
に被腐蝕材通過路から流出する量よりも多い量の遮蔽液
を供給してその液面が被腐蝕材通過路よりも上位にある
ように構成したから、スプレー室において発生したガス
の逃出や溶剤の流出を確実に防ぐことができ、従って溶
剤を無駄に消費することがなく、しかも大気汚染を防ぐ
ことができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本考案スプレー装置の一実施例を示した概略
断面図である。 1・・・・・・スプレー室、11・・・・・・開口、1
2・・・・・・噴射管、2.3・・・・・・遮蔽室、2
1.31・・・・・・開口、4・・・・・・被腐蝕材、
5・・・・・・搬送機構、6・・・・・・貯槽、71.
72.73・・・・・・遮蔽液流路管、8・・・・・・
ポンプ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 沸点が低い溶剤を噴射させ、る噴射管を設けたスプレー
    室と、そのスプレー室の前後に配置した前後遮蔽室と、
    前記前遮蔽室、スプレー室、後遮蔽室内に設けた被腐蝕
    材の搬送機構と、水などの遮蔽液を貯える貯槽と、その
    貯槽と前記前後遮蔽室の間に配設した遮蔽液流路管とを
    備え、前記前後遮蔽室に被腐蝕材の通過路を設け、前記
    遮蔽液を前記前後遮蔽室と貯槽との間を循環させると共
    に、該前後遮蔽室内に被腐蝕材通過路がら流出する量よ
    りも多い量の遮蔽液を供給して前後遮蔽室内の遮蔽液の
    液面が前記被腐蝕材通過路より上位に位置するようにし
    、かつ前記スプレー室を覆う天板の両端から垂下する遮
    蔽板を前記前後遮蔽室の液中に没入させて前記スプレー
    室において発生したガスの逃出や溶剤の流出を前記前後
    遮蔽室で防止するように構成したことを特徴とするスプ
    レー装置。
JP9464878U 1978-07-11 1978-07-11 エツチングマシン Expired JPS5919727Y2 (ja)

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JP9464878U JPS5919727Y2 (ja) 1978-07-11 1978-07-11 エツチングマシン

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JP9464878U JPS5919727Y2 (ja) 1978-07-11 1978-07-11 エツチングマシン

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Publication Number Publication Date
JPS5511868U JPS5511868U (ja) 1980-01-25
JPS5919727Y2 true JPS5919727Y2 (ja) 1984-06-07

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ID=29026849

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JP9464878U Expired JPS5919727Y2 (ja) 1978-07-11 1978-07-11 エツチングマシン

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5831883Y2 (ja) * 1981-10-29 1983-07-14 秀夫 椿 透孔を有する薄板の無電解メツキ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5511868U (ja) 1980-01-25

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