KR910004756B1 - 산화물 음극제조시 에미션 페이스트(Emission Paste) 회수방법 - Google Patents

산화물 음극제조시 에미션 페이스트(Emission Paste) 회수방법 Download PDF

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내용 없음.

Description

산화물 음극제조시 에미션 페이스트(Emission Paste) 회수방법
제 1 도는 본 발명을 설명하기 위한 통상적인 산화물 음극기체의 측면도이고,
제 2 도는 산화물층을 음극기체상에 형성하는데 사용되는 종래의 음극제조장치의 개략도이고,
제 3 도는 본 발명을 설명하기 위한 음극제조장치의 배기시스템을 구체적으로 예시한 도면이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 평판부 2 : 열전자 방출성 산화물층
3 : 다리부 6 : 스프레이 건
7 : 캡 고정장치 8 : 배기펌프
9 : 탱크 10 : 순수
11 : 순수공급장치 12 : 배수장치
본 발명은 전자관용 산화물 음극제조 공정에서 전자방출물질인 에미션 페이스트(emission paste)를 스프레이(spray)로 음극의 캡(cap)에 도포시킬 때 배기장치를 통해 배출되는 상기의 페이스트를 회수하기 위한 방법에 관한 것이다.
통상적으로, 산화물 음극은 제 1 도에 도시되에 있는 바와같이 히터(5)가 설치된 슬리브(Sleeve)(4)상에 캡을 형성시키고, 이 캡위에 에미션 페이스트를 도포하여 열전자 방출성 산화물층(2)을 형성시킨 구조로 되어 있다.
상기의 캡은 슬리브(4)와 용접하여 고착된 다리부(3) 및 평판부(1)로 형성되어 있는 바, 이 평판부(1) 위에 에미션 페이스트를 도포시키는 것이다.
에미션 페이스트를 도포시켜 음극의 열전자 방출성 산화물층(2)을 형성하는데 사용하는 종래의 음극제조 장치는. 제 2 도와 같이 캡 고정장치(7)에 고정된 캡 위에 스프레이 건(spray gun)을 이용하여 에미션 페이스트를 스프레이하면, 페이스트의 일부가 배기펌프(8)를 통해 대기중으로 배출된다.
이러한 음극제조장치를 이용하여 음극의 캡에 열전자 방출성 산화물층(2)을 형성시키는 방법에 있어서는, 에미션 페이스트가 캡에 도포되는 양보다도 대기중으로 배출되는 양이 많아 손실분이 크고, 또한 인체에 해로운 에미션 페이스트의 미립자가 대기중으로 배출됨에 따른 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서 음극의 열전자 방출성 산화물층을 형성시킬때 배출되어 손실되는 에미션 페이스트를 회수하는 방법을 제공하는 데 있다.
이러한 목적을 달성하는 수단으로서, 본 발명은 상기한 에미션 페이스트의 미립자가 순수에 포착되는 점을 착안하여 음극제조장치의 배출구를 통해 배출되는 에미션 페이스트가 순수를 통과하도록 하는 방법인 것이다.
이러한 제 3 도를 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
제 3 도는 본 발명에 따라 음극기체의 캡에 열전자 방출성 산화물층을 형성시킬때 이용되는 음극제조장치의 배기시스템을 구체적으로 예시한 도면이다.
도면에서, 상기의 배기시스템은 음극기체의 캡들을 캡 고정장치(7)로 고정시킨 다음 스프레이 건(6)을 이용하여 에미션 페이스트를 분사시큰 바. 이때 캡에 도포되는 에미션 페이스트의 이외의 미립자들이 배기펌프(8)를 통해 순수탱크(9)내에 있는 순수를 거쳐 대기중으로 배출되게 한 구조로 되어 있다.
한편, 순수탱크(9)에는 순수공급장치(11) 및 배수장치(12)가 상하부에 각각 설치되어 있다.
이러한 음극제조장치를 이용하므로써, 에미션 페이스트의 주요물질인 탄산염이 물에 용해되지 않고, 포착되기 때문에 배출되는 에미션 페이스트의 탄산염의 순수탱크(9)내의 순수에 포착되고 아울러 기체들만 배기통로를 거쳐 대기중으로 배출되는 것이다.
또한 배기장치의 능력에 따른 순수탱크를 설치하므로써 에미션 페이스트의 회수효과를 높일 수 있다.
이상에서 설명한 바와같이 본 발명에 의하여 에미션 페이스트의 분말을 회수하여 손실방지를 할 수 있고, 분말이 대기중으로 배출되지 않게 하여 대기오염을 방지할 수 있는 이점이 있다.

Claims (1)

  1. 다리부(3) 및 평판부(1)로 형성된 음극기체의 캡위에 열전자 방출성 에미션 페이스트를 스프레이로 도포하는 전자관용 산화물 음극제조 방법에 있어서, 상기의 캡상에 이미션 페이스트를 분사하여 도포하는 공정에서 배기펌프(8)를 통해 배출되는 에미션 페이스트가 순수공급장치(11) 및 배수장치(12)를 구비한 순수탱크(9)내에 있는 순수를 통과해서 대기중으로 배출되게 함을 특징으로 하는 산화물 음극제조시 에미션 페이스트 회수방법.
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