JPH0411931B2 - - Google Patents
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- JPH0411931B2 JPH0411931B2 JP24119385A JP24119385A JPH0411931B2 JP H0411931 B2 JPH0411931 B2 JP H0411931B2 JP 24119385 A JP24119385 A JP 24119385A JP 24119385 A JP24119385 A JP 24119385A JP H0411931 B2 JPH0411931 B2 JP H0411931B2
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- coating film
- optical disk
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- disk substrate
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Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は光デイスク基板の製造方法に関し、特
に溝形状を有する光デイスク基板の製造方法に関
する。 〔従来の技術〕 従来、光デイスク基板等に用いる溝つき基板の
製造方法としては、ガラス等の基板上にフオトレ
ジスト膜を塗布した後、第４図に示ようなレーザ
ー露光装置を用いてフオトレジスト膜をレーザー
光で選択的に露光し、現像処理後ドライエツチン
グ等のエツチング処理を行なう方法が知られてい
る。 〔発明の解決しようとする問題点〕 上記フオトレジスト法によればガラス等の基板
上にミクロン間隔の光デイスク用案内溝を正確に
作成できる利点を有するものの、レーザー光を用
いて選択露光にあたり１枚のデイスク状基板作成
に数10分もの露光操作時間がかかり生産性が悪い
という問題点があつた。又レーザーを用いる高精
度の露光装置は極めて高価であるとともに精度の
確保に繁雑な操作が必要であるという問題点があ
つた。 〔問題点を解決するための手段〕 上記従来の問題点を解決するために、本発明は
基板上に有機金属化合物を含む溶液の可塑性塗布
膜を形成した後プレス型を押しあてて該塗布膜上
にプレス型の峰形状に対応する溝形状を転写し、
その後該塗布膜を焼成して固化させている。 本発明に用いる有機金属化合物は重縮合あるい
は架橋反応がおこることによつて溶液の粘性を上
昇させるような化合物であれば使用できる。 例えばSi（OCH）4、Si（OC2H5）4、Ti
（OC3H7）4、Ti（OC4H9）4、Zr（OC3H7）4、Zr
（OC4H9）4、Al（OC3H7）3、Al（OC4H9）3、
NaOC2H5等のＭ（OR）o〔ＭはSi、Ti、Zr、Ca、
Al、Na、Pb、Ｂ、Sn、Ge等の金属、Ｒはメチ
ル、エチル等のアルキル基、ｎは１〜４の整数〕
で示される普通ゾルーゲル法と呼ばれる方法に用
いられる金属アルコラート、および−Cl、−
COOH、−COOR、−NH2、
に溝形状を有する光デイスク基板の製造方法に関
する。 〔従来の技術〕 従来、光デイスク基板等に用いる溝つき基板の
製造方法としては、ガラス等の基板上にフオトレ
ジスト膜を塗布した後、第４図に示ようなレーザ
ー露光装置を用いてフオトレジスト膜をレーザー
光で選択的に露光し、現像処理後ドライエツチン
グ等のエツチング処理を行なう方法が知られてい
る。 〔発明の解決しようとする問題点〕 上記フオトレジスト法によればガラス等の基板
上にミクロン間隔の光デイスク用案内溝を正確に
作成できる利点を有するものの、レーザー光を用
いて選択露光にあたり１枚のデイスク状基板作成
に数10分もの露光操作時間がかかり生産性が悪い
という問題点があつた。又レーザーを用いる高精
度の露光装置は極めて高価であるとともに精度の
確保に繁雑な操作が必要であるという問題点があ
つた。 〔問題点を解決するための手段〕 上記従来の問題点を解決するために、本発明は
基板上に有機金属化合物を含む溶液の可塑性塗布
膜を形成した後プレス型を押しあてて該塗布膜上
にプレス型の峰形状に対応する溝形状を転写し、
その後該塗布膜を焼成して固化させている。 本発明に用いる有機金属化合物は重縮合あるい
は架橋反応がおこることによつて溶液の粘性を上
昇させるような化合物であれば使用できる。 例えばSi（OCH）4、Si（OC2H5）4、Ti
（OC3H7）4、Ti（OC4H9）4、Zr（OC3H7）4、Zr
（OC4H9）4、Al（OC3H7）3、Al（OC4H9）3、
NaOC2H5等のＭ（OR）o〔ＭはSi、Ti、Zr、Ca、
Al、Na、Pb、Ｂ、Sn、Ge等の金属、Ｒはメチ
ル、エチル等のアルキル基、ｎは１〜４の整数〕
で示される普通ゾルーゲル法と呼ばれる方法に用
いられる金属アルコラート、および−Cl、−
COOH、−COOR、−NH2、
【式】
実施例 １
通常のガラス基板（ソーダーライムガラス）を
十分洗浄して基板１とし、次にSiテトラメトキシ
シラン、Naエトキサイド、Caエトキサイドを
SaO2：Na2O：CaOの比率として70：14：16（重
量比）となるようにエチルアルコールと混合し、
これに少量の水を加えて塗布液２とした。該塗布
液２中に基板１を浸漬した後引きあげて基板１上
に塗布膜３を作成した。この時塗布膜３の厚さは
約0.3μｍであつた。その後ただちに高さ90nｍ上
底0.9μｍ下底1.0μｍの峰部４を1.6μｍの間隔で
（谷部の幅0.6μｍ）で多数有する金属製プレス型
５を押しあて峰部４に対応する案内溝６を塗布膜
３上に転写した。この時塗布膜３はまだ可塑性を
持つているためひび割れやはがれ等の現象は示さ
なかつた。 その後案内溝６が形成された塗布膜３つき基板
１を電気炉内へ移し徐々に加熱して最終的に300
℃２時間の焼成を行なつた。徐冷後試料には第３
図に示すような高さ約70nｍ、溝巾約1.0μｍ、溝
間隔約1.6μｍの台形をくずしてなだらかにしたよ
うな案内溝６を有する膜厚約0.37μｍの被膜７が
形成されていた。該被膜７は完全にガラス化して
おり、基板１に密着して割れ等は生じていなかつ
た。 又得られた被膜のみぞ端部の形状のみだれは、
光デイスク用案内溝としての使用に影響がない程
度のものであつた。 実施例 ２ 塗布液としてSiテトラメトキシシラン、Alブ
トキサイド、TiブトキサイドをSiO2：Al2O3：
TiO2の比率として68：20：12（重量比）となるよ
うにエチルアルコールと混合した。 この塗布液２を実施例１同様の基板１上にスピ
ンコート装置を用いて塗布した。スピン回転数を
2000rpmとしたところ塗布膜３の厚さは約0.3μｍ
であつた。 塗布膜３を数分間空気中で保持した後実施例１
で用いたプレス型５をおしあてて案内溝６を転写
した。この試料を実施例１同様500℃２時間の焼
成処理を行なつたところ、実施例１とほぼ同様な
案内溝６を有する膜厚約0.15μｍのガラス被膜８
になつた。 〔発明の効果〕 本発明によれば、溶液の塗布、プレス型のプレ
ス、焼成という生産性の高い手段によつてみぞつ
き基板が作成できるため従来法よりも高い生産性
を提供できる。
十分洗浄して基板１とし、次にSiテトラメトキシ
シラン、Naエトキサイド、Caエトキサイドを
SaO2：Na2O：CaOの比率として70：14：16（重
量比）となるようにエチルアルコールと混合し、
これに少量の水を加えて塗布液２とした。該塗布
液２中に基板１を浸漬した後引きあげて基板１上
に塗布膜３を作成した。この時塗布膜３の厚さは
約0.3μｍであつた。その後ただちに高さ90nｍ上
底0.9μｍ下底1.0μｍの峰部４を1.6μｍの間隔で
（谷部の幅0.6μｍ）で多数有する金属製プレス型
５を押しあて峰部４に対応する案内溝６を塗布膜
３上に転写した。この時塗布膜３はまだ可塑性を
持つているためひび割れやはがれ等の現象は示さ
なかつた。 その後案内溝６が形成された塗布膜３つき基板
１を電気炉内へ移し徐々に加熱して最終的に300
℃２時間の焼成を行なつた。徐冷後試料には第３
図に示すような高さ約70nｍ、溝巾約1.0μｍ、溝
間隔約1.6μｍの台形をくずしてなだらかにしたよ
うな案内溝６を有する膜厚約0.37μｍの被膜７が
形成されていた。該被膜７は完全にガラス化して
おり、基板１に密着して割れ等は生じていなかつ
た。 又得られた被膜のみぞ端部の形状のみだれは、
光デイスク用案内溝としての使用に影響がない程
度のものであつた。 実施例 ２ 塗布液としてSiテトラメトキシシラン、Alブ
トキサイド、TiブトキサイドをSiO2：Al2O3：
TiO2の比率として68：20：12（重量比）となるよ
うにエチルアルコールと混合した。 この塗布液２を実施例１同様の基板１上にスピ
ンコート装置を用いて塗布した。スピン回転数を
2000rpmとしたところ塗布膜３の厚さは約0.3μｍ
であつた。 塗布膜３を数分間空気中で保持した後実施例１
で用いたプレス型５をおしあてて案内溝６を転写
した。この試料を実施例１同様500℃２時間の焼
成処理を行なつたところ、実施例１とほぼ同様な
案内溝６を有する膜厚約0.15μｍのガラス被膜８
になつた。 〔発明の効果〕 本発明によれば、溶液の塗布、プレス型のプレ
ス、焼成という生産性の高い手段によつてみぞつ
き基板が作成できるため従来法よりも高い生産性
を提供できる。
第１図は実施例１に示した本発明の手順を示す
概略図、第２図および第３図は実施例１で用いた
プレス型および実施例１により作製されたみぞつ
き基板の断面形状を示す拡大概略断面図、第４図
は従来のフオトレジスト法に使用するレーザー露
光装置の概略図である。
概略図、第２図および第３図は実施例１で用いた
プレス型および実施例１により作製されたみぞつ
き基板の断面形状を示す拡大概略断面図、第４図
は従来のフオトレジスト法に使用するレーザー露
光装置の概略図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基板上に有機金属化合物を含む溶液の可塑性
塗布膜を形成した後プレス型を押しあてて該塗布
膜上にプレス型の峰形状に対応する溝形状を転写
し、その後該塗布膜を焼成して固化させる光デイ
スク基板の製造方法。 ２ 該有機金属化合物が金属アルコラートである
特許請求の範囲第１項記載の光デイスク基板の製
造方法。 ３ 該塗布膜を200℃以上で焼成する特許請求の
範囲第１項又は第２項記載の光デイスク基板の製
造方法。 ４ 該塗布膜が10〜105ポイズの粘度を有する時
にプレス型を押しあてる特許請求の範囲第１項な
いし第３項記載の光デイスク基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24119385A JPS62102445A (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | 光デイスク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24119385A JPS62102445A (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | 光デイスク基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62102445A JPS62102445A (ja) | 1987-05-12 |
| JPH0411931B2 true JPH0411931B2 (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=17070596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24119385A Granted JPS62102445A (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | 光デイスク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62102445A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5234717A (en) * | 1990-06-14 | 1993-08-10 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Process for producing a minute-patterned substrate |
| WO1999039890A1 (fr) * | 1998-02-05 | 1999-08-12 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Article a surface rugueuse, procede de production dudit article et composition a cet effet |
| CN1124920C (zh) | 1999-07-07 | 2003-10-22 | 日本板硝子株式会社 | 具有凹凸表面的物品及其制造方法 |
| WO2001011393A1 (fr) | 1999-08-04 | 2001-02-15 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Echelon de michelson et element de guide d'ondes optique |
| WO2001019587A1 (fr) | 1999-09-16 | 2001-03-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Procede de production d'un article ayant une forme de surface predefinie et element pour guide d'onde optique |
| WO2002053345A1 (fr) | 2000-12-22 | 2002-07-11 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Article presentant une forme de surface predefinie et son procede de preparation |
| EP1277571A4 (en) | 2001-02-28 | 2006-08-30 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | OBJECT WITH PRE-ASSEMBLED SURFACE FORM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
| JP2005008909A (ja) * | 2003-06-16 | 2005-01-13 | Canon Inc | 構造体の製造方法 |
| JP2008279597A (ja) | 2006-05-10 | 2008-11-20 | Oji Paper Co Ltd | 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、反射防止体、位相差板、工程シート原版ならびに光学素子の製造方法 |
| CN101071183A (zh) * | 2006-05-10 | 2007-11-14 | 王子制纸株式会社 | 凹凸形状形成片及其制造方法、防反射体、相位差板、工序片原版以及光学元件的制造方法 |
| JP2009233855A (ja) * | 2006-07-21 | 2009-10-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 転写用型およびその製造方法ならびに転写用型を用いた転写物の製造方法 |
| KR101193615B1 (ko) * | 2007-02-21 | 2012-10-26 | 오지 세이시 가부시키가이샤 | 요철 패턴 형성 시트 및 그 제조 방법 |
| CN110076945B (zh) * | 2019-04-30 | 2020-02-07 | 北京航空航天大学 | 一种减阻柔弹性薄膜的制备方法和应用 |
-
1985
- 1985-10-28 JP JP24119385A patent/JPS62102445A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62102445A (ja) | 1987-05-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |