SU650044A1 - Способ полива бесподложечных галогенсеребр ных эмульсионных слоев - Google Patents

Способ полива бесподложечных галогенсеребр ных эмульсионных слоев

Info

Publication number
SU650044A1
SU650044A1 SU752193578A SU2193578A SU650044A1 SU 650044 A1 SU650044 A1 SU 650044A1 SU 752193578 A SU752193578 A SU 752193578A SU 2193578 A SU2193578 A SU 2193578A SU 650044 A1 SU650044 A1 SU 650044A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
emulsion
emulsion layers
free emulsion
casting substrate
layers
Prior art date
Application number
SU752193578A
Other languages
English (en)
Inventor
Кира Михайловна Романовская
Рихо Альфредович Ныммик
Дмитрий Александрович Журавлев
Марина Александровна Кондратьева
Original Assignee
Всесоюзный Государственный Научно-Исследовательский И Проектный Институт Химико-Фотографической Промышленности
Научно-Исследовательский Институт Ядерной Физики Московского Государственного Университета Им. М.В.Ломоносова
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Всесоюзный Государственный Научно-Исследовательский И Проектный Институт Химико-Фотографической Промышленности, Научно-Исследовательский Институт Ядерной Физики Московского Государственного Университета Им. М.В.Ломоносова filed Critical Всесоюзный Государственный Научно-Исследовательский И Проектный Институт Химико-Фотографической Промышленности
Priority to SU752193578A priority Critical patent/SU650044A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU650044A1 publication Critical patent/SU650044A1/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/015Apparatus or processes for the preparation of emulsions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Peptides Or Proteins (AREA)

Description

сионных слоев, равномерных по толщине н с уменьшенной диетореией.
Сущность изобретени  заключаетс  в том, что нагретую до температуры 39-41°С эмульсию нанос т на форм-кювету, предварительно нагретую до температуры эмульсии , и студенение эмульсии провод т при одновременном охлаждении форм-кюветы и эмульсии.
При таком способе полива не происходит систематической деформации форм-кювет , из-за которой эмульсионный слой приобретает плосковогнутую форму. KpOiMe того , процесс перехода эмульсии в состо ние гел  происходит постепенно, что способствует образованию равновесной структуры сло  и, как следствие этого, уменьшает деформацию эмульсионных слоев и количество производственного брака.
Пример. Провод т полив бесподложечных эмульсионных слоев толщины 450 мкм и размером 22X62 см эмульсию, нагревают до температуры 40±1°С.
Перед поливом форм-кювету из органического стекла выдерживают в термостате цри температуре 40±3°С в течение 2 ч. Эмульсию наливают на форм-кюветы и студен т при температуре окружающей среды 20±2°С в течение 60 мин.
Дл  получени  сравнительных данных провод т полив однотипных бесподложечных эмульсионных слоев на форм-кюветы по известному способу.
В обоих опытах определ ют максимальный прогиб дна форм-кюветы во врем  полива , а также величину разнотолщинности эмульсионных слоев (величина А do - - .di, где do--толщина эмульсионного сло  в центре, di - то же в углу сло ).
Результаты приведены в таблице.
SU752193578A 1975-11-28 1975-11-28 Способ полива бесподложечных галогенсеребр ных эмульсионных слоев SU650044A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU752193578A SU650044A1 (ru) 1975-11-28 1975-11-28 Способ полива бесподложечных галогенсеребр ных эмульсионных слоев

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU752193578A SU650044A1 (ru) 1975-11-28 1975-11-28 Способ полива бесподложечных галогенсеребр ных эмульсионных слоев

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU650044A1 true SU650044A1 (ru) 1979-02-28

Family

ID=20638619

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU752193578A SU650044A1 (ru) 1975-11-28 1975-11-28 Способ полива бесподложечных галогенсеребр ных эмульсионных слоев

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU650044A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3486892A (en) Preferential etching technique
JPS56142630A (en) Manufacture of semiconductor device
SE7614365L (sv) Forfarande for framstellning av kornigt kvartsglas
ATE41020T1 (de) Methode zur herstellung von poly(arylensulfid).
EP0193820A3 (en) Method for forming a thin film pattern
SU650044A1 (ru) Способ полива бесподложечных галогенсеребр ных эмульсионных слоев
FR2469477A1 (fr) Procede de fabrication de grenat polycristallin, grenat polycristallin et monocristal correspondant
JPH0411931B2 (ru)
JPS5757628A (en) Manufacture of blaxially rolled film
FR2338908A1 (fr) Procede de fabrication d'une matiere moulable a haute teneur en verre cristallisable
JPS5749263A (en) Manufacture of close contact type image sensor
JPS5333050A (en) Production of semiconductor element
JPS5678155A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JPS552982A (en) Semi-conductor layer thickness measuring method
EP0232941A3 (en) Sol-gel process for producing luminescent thin film, and film so produced, and devices utilizing same
JPS5249990A (en) Method for vacuum evaporation of multi layr film
KR890005919A (ko) Cd₁-xZnxS 소격막의 제조 방법
SU1557105A1 (ru) Способ получени тетрабромида ниоби
RU2081001C1 (ru) Способ изготовления декоративной поверхности
JPS5252570A (en) Device for production of compound semiconductor
BR8106957A (pt) Processo de fabricacao de uma solucao apropriada para uso na formacao de um meio formador de imagem ablativo uniforme e fino
EP0293244A3 (en) N epsilon-trifluoroacetyl-l-lysyl-l-proline.d-1o-camphorsulfonic acid salt and process for producing the same
SU487048A1 (ru) Способ нанесени пленки стеклосуспензий
SU477315A1 (ru) Способ измерени разности температур между противоположными поверхност ми пластин
JPS54125984A (en) Manufactur of semiconductor device