JPH0359752B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0359752B2 JPH0359752B2 JP61067437A JP6743786A JPH0359752B2 JP H0359752 B2 JPH0359752 B2 JP H0359752B2 JP 61067437 A JP61067437 A JP 61067437A JP 6743786 A JP6743786 A JP 6743786A JP H0359752 B2 JPH0359752 B2 JP H0359752B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating film
- manufacturing
- grooved substrate
- substrate according
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 8
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 4
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は溝つき基板の製造方法に関し、特に光
デイスク用溝つき基板および回折格子等に使用す
る溝つき基板の製造方法関する。 〔従来の技術〕 従来、光デイスク基板等に用いる溝つき基板の
製造方法としては、ガラス等の基板上にフオトレ
ジスト膜を塗布した後、レーザー露光装置を用い
てフオトレジスト膜をレーザー光で選択的に露光
し、現像処理後ドライエツチング等のエツチング
処理を行なう方法が知られている。 〔発明の解決しようとする問題点〕 上記フオトレジスト法によればガラス等の基板
上にミクロン間隔の溝を正確に作成できる利点を
有するものの、レーザー光を用いての選択露光に
あたり１枚のデイスク状基板作成に数10分もの露
光操作時間がかかり生産性が悪いという問題点が
あつた。又レーザーを用いる高精度の露光装置は
極めて高価であるとともに精度の確保に繁雑な操
作が必要であるという問題点があつた。 上記問題点の解決方法として、基板上に有機金
属化合物を含む溶液の可塑性塗布膜を形成した後
プレス型を押しあてて該塗布膜上にプレス型の峰
形状に対応する溝形状を転写し、その後該塗布膜
を焼成して固化させる溝つき基板の製造方法が考
えられる。（特願昭60−241193） このプレス型を用いた溝つき基板の製造方法に
よれば、光デイスク基板に用いる溝つき基板を簡
単な操作により作製できる利点を有するものの、
プレス型を塗布膜に押しつけるタイミングをつか
むのが難かしいため型くづれやはくり等の不良品
を発生しやすいという問題があつた。 〔問題点を解決するための手段〕 上記従来の問題点を解決するために、本発明は
基板上に有機金属化合物を含む溶液の可塑性塗布
膜を形成した後プレス型を押しあてて該塗布膜上
にプレス型の峰形状に対応する溝形状を転写し、
その後該塗布膜を焼成して固化させる溝つき基板
の製造方法において、有機金属化合物を含む溶液
に増粘剤を加えている。 本発明に用いる有機金属化合物は重縮合あるい
は架橋反応がおこることによつて溶液の粘性を上
昇させるような化合物であれば使用できる。 例えばSi（OCH）4，Si（OC2H5）4，Ti
（OC3H7）4，Ti（OC4H9）4，Zr（OC3H7）4，Zr
（OC4H9）4，Al（OC3H7）3，Al（OC4H9）3，
NaOC2H5等のＭ（OR）o〔ＭはSi，Ti，Zr，Ca，
Al，Na，Pb，Ｂ，Sn，Ge等の金属、Ｒはメチ
ル、エチル等のアルキル基、ｎは１〜４の整数〕
で示される通常ゾルーゲル法と呼ばれる方法に用
いられる金属アルコラート、および−Cl，−
COOH，−COOR，−NH2，
デイスク用溝つき基板および回折格子等に使用す
る溝つき基板の製造方法関する。 〔従来の技術〕 従来、光デイスク基板等に用いる溝つき基板の
製造方法としては、ガラス等の基板上にフオトレ
ジスト膜を塗布した後、レーザー露光装置を用い
てフオトレジスト膜をレーザー光で選択的に露光
し、現像処理後ドライエツチング等のエツチング
処理を行なう方法が知られている。 〔発明の解決しようとする問題点〕 上記フオトレジスト法によればガラス等の基板
上にミクロン間隔の溝を正確に作成できる利点を
有するものの、レーザー光を用いての選択露光に
あたり１枚のデイスク状基板作成に数10分もの露
光操作時間がかかり生産性が悪いという問題点が
あつた。又レーザーを用いる高精度の露光装置は
極めて高価であるとともに精度の確保に繁雑な操
作が必要であるという問題点があつた。 上記問題点の解決方法として、基板上に有機金
属化合物を含む溶液の可塑性塗布膜を形成した後
プレス型を押しあてて該塗布膜上にプレス型の峰
形状に対応する溝形状を転写し、その後該塗布膜
を焼成して固化させる溝つき基板の製造方法が考
えられる。（特願昭60−241193） このプレス型を用いた溝つき基板の製造方法に
よれば、光デイスク基板に用いる溝つき基板を簡
単な操作により作製できる利点を有するものの、
プレス型を塗布膜に押しつけるタイミングをつか
むのが難かしいため型くづれやはくり等の不良品
を発生しやすいという問題があつた。 〔問題点を解決するための手段〕 上記従来の問題点を解決するために、本発明は
基板上に有機金属化合物を含む溶液の可塑性塗布
膜を形成した後プレス型を押しあてて該塗布膜上
にプレス型の峰形状に対応する溝形状を転写し、
その後該塗布膜を焼成して固化させる溝つき基板
の製造方法において、有機金属化合物を含む溶液
に増粘剤を加えている。 本発明に用いる有機金属化合物は重縮合あるい
は架橋反応がおこることによつて溶液の粘性を上
昇させるような化合物であれば使用できる。 例えばSi（OCH）4，Si（OC2H5）4，Ti
（OC3H7）4，Ti（OC4H9）4，Zr（OC3H7）4，Zr
（OC4H9）4，Al（OC3H7）3，Al（OC4H9）3，
NaOC2H5等のＭ（OR）o〔ＭはSi，Ti，Zr，Ca，
Al，Na，Pb，Ｂ，Sn，Ge等の金属、Ｒはメチ
ル、エチル等のアルキル基、ｎは１〜４の整数〕
で示される通常ゾルーゲル法と呼ばれる方法に用
いられる金属アルコラート、および−Cl，−
COOH，−COOR，−NH2，
実施例 １
Si−テトラエトキサイドとβ−トリイソプロポ
キサイドとをSiO2及びB2O3となつた時のモル比
として80：20となるようにそれぞれ秤量し、この
Si−テトラエトキサイドにモル比で５倍のエタノ
ールと６倍の水（6wt％のHNO3を含む）を加
え、約70℃で４時間還流した後、β−トリイソプ
ロポキサイドを滴加し、さらに４時間還流を行な
う。この溶液に等量のエタノールを加え希釈し、
さらに分子量600のポリエチレングリコール
（PEG600）を、最終生成物であるSiO2とB2O3の
混合された酸化物に対するモル比で
（PEG600）／（酸化物）＝0.15の量を加え、均一
に溶かしたものを塗布溶液とした。 この塗布溶液中へ、洗浄および乾燥を行なつた
ガラス基板１を浸漬した後ゆつくりと引きあげ
て、ガラス基板１上に塗布膜を作成した。 この塗布膜は長時間空気中に保持しても粘性に
変化がみられず、クリーム状で粘度としては102
〜103ポイズ程度であつた。 次いでこの約0.2μm厚の塗布膜へ峰高さ
0.15μm、峰巾2μm、峰間隔4μmの多数の峰部を
有する金属製の型を押しあて５分間保持した後ゆ
つくりと引きはなした。その後前記プレス型の峰
形状に対応する溝形状の転写された塗布膜つきガ
ラス板をゆつくりと加熱して最終的に450℃２時
間の焼成を行なつた。この焼成操作により塗布膜
はエタノールおよび水分等が飛散してガラス体類
似の約0.12μm厚の非晶質膜２となつていた。 上記操作により作成された溝つき基板３の表面
を光学顕微鏡により観察した所第１図に示すよう
な溝深さ約72nm、溝巾約2μm、溝間隔約4μmの
良好な溝形状が作成されていた。 実施例 ２ Si−テトラエトキサイドを１モル秤量し、これ
に15モルのエタノールと６モルの水を加えさら
に、分子量600のポリエチレングリコール
（PEG600）を、最終生成物であるSiO2に対するモ
ル比で（PEG600）／（SiO2）＝0.15の量を加え均
一に溶かしたものを塗布溶液とした。 この塗布溶液を用いて、実施例１と同様な操作
によりガラス基板上に塗布膜を作成し、金属製の
型を押しあてプレスし、450℃２時間の焼成を行
なつた。 上記の操作により作成された溝つき基板の表面
を光学顕微鏡により観察した所、実施例１同様第
１図に示すような良好な溝形状が作成されてい
た。 〔発明の効果〕 本発明によれば、従来短かかつた塗布膜がブレ
ス作業に適当な粘度を有する時間（プレス作業時
間）が大巾に長くなり作業性が向上している。そ
のため非常に安定した生産を行なうことができ
る。 又塗布液自体の粘度（初期粘度）を従来よりも
高くすることにより１回の塗布作業により形成さ
れる塗布膜の膜厚を従来よりも厚くすることがで
きる。これはプレス成形に必要な塗布膜の膜厚
（比較的厚い膜）を形成する作業を従来法よりも
簡略化することになる。
キサイドとをSiO2及びB2O3となつた時のモル比
として80：20となるようにそれぞれ秤量し、この
Si−テトラエトキサイドにモル比で５倍のエタノ
ールと６倍の水（6wt％のHNO3を含む）を加
え、約70℃で４時間還流した後、β−トリイソプ
ロポキサイドを滴加し、さらに４時間還流を行な
う。この溶液に等量のエタノールを加え希釈し、
さらに分子量600のポリエチレングリコール
（PEG600）を、最終生成物であるSiO2とB2O3の
混合された酸化物に対するモル比で
（PEG600）／（酸化物）＝0.15の量を加え、均一
に溶かしたものを塗布溶液とした。 この塗布溶液中へ、洗浄および乾燥を行なつた
ガラス基板１を浸漬した後ゆつくりと引きあげ
て、ガラス基板１上に塗布膜を作成した。 この塗布膜は長時間空気中に保持しても粘性に
変化がみられず、クリーム状で粘度としては102
〜103ポイズ程度であつた。 次いでこの約0.2μm厚の塗布膜へ峰高さ
0.15μm、峰巾2μm、峰間隔4μmの多数の峰部を
有する金属製の型を押しあて５分間保持した後ゆ
つくりと引きはなした。その後前記プレス型の峰
形状に対応する溝形状の転写された塗布膜つきガ
ラス板をゆつくりと加熱して最終的に450℃２時
間の焼成を行なつた。この焼成操作により塗布膜
はエタノールおよび水分等が飛散してガラス体類
似の約0.12μm厚の非晶質膜２となつていた。 上記操作により作成された溝つき基板３の表面
を光学顕微鏡により観察した所第１図に示すよう
な溝深さ約72nm、溝巾約2μm、溝間隔約4μmの
良好な溝形状が作成されていた。 実施例 ２ Si−テトラエトキサイドを１モル秤量し、これ
に15モルのエタノールと６モルの水を加えさら
に、分子量600のポリエチレングリコール
（PEG600）を、最終生成物であるSiO2に対するモ
ル比で（PEG600）／（SiO2）＝0.15の量を加え均
一に溶かしたものを塗布溶液とした。 この塗布溶液を用いて、実施例１と同様な操作
によりガラス基板上に塗布膜を作成し、金属製の
型を押しあてプレスし、450℃２時間の焼成を行
なつた。 上記の操作により作成された溝つき基板の表面
を光学顕微鏡により観察した所、実施例１同様第
１図に示すような良好な溝形状が作成されてい
た。 〔発明の効果〕 本発明によれば、従来短かかつた塗布膜がブレ
ス作業に適当な粘度を有する時間（プレス作業時
間）が大巾に長くなり作業性が向上している。そ
のため非常に安定した生産を行なうことができ
る。 又塗布液自体の粘度（初期粘度）を従来よりも
高くすることにより１回の塗布作業により形成さ
れる塗布膜の膜厚を従来よりも厚くすることがで
きる。これはプレス成形に必要な塗布膜の膜厚
（比較的厚い膜）を形成する作業を従来法よりも
簡略化することになる。
第１図は、本発明実施例により作成した溝つき
基板の概略を示す断面図である。
基板の概略を示す断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基板上に有機金属化合物を含む溶液の可塑性
塗布膜を形成した後プレス型を押しあてて該塗布
膜上にプレス型の峰形状に対応する溝形状を転写
し、その後塗布膜を焼成して固化させる溝つき基
板の製造方法において、前記溶液にあらかじめ増
粘剤を加えておくことを特徴とする溝つき基板の
製造方法。 ２ 前記増粘剤が水溶性でかつ有機溶媒に可溶な
高分子材料である特許請求の範囲第１項記載の溝
つき基板の製造方法。 ３ 前記増粘剤がポリエチレングリコールである
特許請求の範囲第１項又は第２項記載の溝つき基
板の製造方法。 ４ 該ポリエチレングリコールを前記溶液に溶液
により生成される酸化物重量の0.5〜1.8倍の重量
添加する特許請求の範囲第３項記載の溝つき基板
の製造方法。 ５ 該有機金属化合物が金属アルコラートである
特許請求の範囲第１項ないし第４項記載の溝つき
基板の製造方法。 ６ 該塗布膜を200℃以上で焼成する特許請求の
範囲第１項ないし第５項記載の溝つき基板の製造
方法。 ７ 該塗布膜が10〜105ポイズの粘度を有する時
にプレス型を押しあてる特許請求の範囲第１項な
いし第６項記載の溝つき基板の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61067437A JPS62225273A (ja) | 1986-03-26 | 1986-03-26 | 溝つき基板の製造方法 |
| US07/030,892 US4810547A (en) | 1986-03-26 | 1987-03-26 | Substrate with fine grooves and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61067437A JPS62225273A (ja) | 1986-03-26 | 1986-03-26 | 溝つき基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62225273A JPS62225273A (ja) | 1987-10-03 |
| JPH0359752B2 true JPH0359752B2 (ja) | 1991-09-11 |
Family
ID=13344900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61067437A Granted JPS62225273A (ja) | 1986-03-26 | 1986-03-26 | 溝つき基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62225273A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03101701A (ja) * | 1990-05-24 | 1991-04-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 微細パターン付き基板の製造方法 |
| US6721485B1 (en) | 1999-08-04 | 2004-04-13 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Echelon diffraction grating and optical waveguide element |
| CN1126653C (zh) | 1999-09-16 | 2003-11-05 | 日本板硝子株式会社 | 具有规定的表面形状的物品的制造方法及光波导元件 |
| JP2001240800A (ja) | 2000-02-25 | 2001-09-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 所定表面形状を有する物品の製造方法 |
| US6849350B2 (en) | 2001-02-28 | 2005-02-01 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Article having a predetermined surface shape and method for preparation thereof |
| JP2008279597A (ja) | 2006-05-10 | 2008-11-20 | Oji Paper Co Ltd | 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、反射防止体、位相差板、工程シート原版ならびに光学素子の製造方法 |
| PT1935929E (pt) * | 2006-12-19 | 2012-02-09 | Evonik Degussa Gmbh | Processo sol-gel para produzir películas protetoras para substratos poliméricos |
| JP2012099731A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Ulvac Japan Ltd | 基板の製造方法 |
-
1986
- 1986-03-26 JP JP61067437A patent/JPS62225273A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62225273A (ja) | 1987-10-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102188297B1 (ko) | 하드마스크 | |
| JPH0359752B2 (ja) | ||
| JP2008524374A (ja) | シロキサン樹脂コーティング | |
| JPH0411931B2 (ja) | ||
| JP2007521355A (ja) | 高屈折率を持つ有機・無機ハイブリッドポリマー塗膜 | |
| US10545270B2 (en) | Method of manufacturing nano metal grating and nano metal grating manufactured thereby | |
| JP2023184588A5 (ja) | ||
| JP2516227B2 (ja) | 溝つき基板の製造方法 | |
| JPH02305612A (ja) | 微細パターン付き基板の製造方法 | |
| JP3089700B2 (ja) | 微細パターン付基板の製造方法 | |
| DK1084992T3 (da) | Fremgangsmåde til udfældning af zirkoniumoxid-lag ved anvendelse af oplöselige pulvere | |
| JPH02283638A (ja) | 微細パターン付き基板の製造方法 | |
| JPWO2021171943A5 (ja) | ||
| CN107450282A (zh) | 一种超精细纳米纹玻璃模具制备方法 | |
| JPH05109618A (ja) | グラフオエピタキシー用基板の製法 | |
| JPH0327002A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
| JPH04305833A (ja) | 微細パターン付基板の製造方法 | |
| JPH0260397B2 (ja) | ||
| US20030031958A1 (en) | Photosensitive composition and process for producing articles covered with a patterned film | |
| JP2678380B2 (ja) | 改良されたシリカ系被膜形成用塗布液の製造方法 | |
| JPH03101701A (ja) | 微細パターン付き基板の製造方法 | |
| US6319551B1 (en) | Methods and compositions for forming silica, germanosilicate and metal silicate films, patterns and multilayers | |
| JPH04321953A (ja) | 微細パターン付基板の製造方法及び装置 | |
| JP3203686B2 (ja) | 塗布溶液およびそれを用いた凹凸パターン形成方法 | |
| JP2648341B2 (ja) | 薄膜酸素センサの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |