JPH04100054A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPH04100054A
JPH04100054A JP21697190A JP21697190A JPH04100054A JP H04100054 A JPH04100054 A JP H04100054A JP 21697190 A JP21697190 A JP 21697190A JP 21697190 A JP21697190 A JP 21697190A JP H04100054 A JPH04100054 A JP H04100054A
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仁典 前野
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関するものである
(従来の技術) 従来、磁気プリンタドラム用材料は、例えば熱磁気プリ
ンタに用いられており、その場合磁気記録媒体に磁気潜
像が形成され、これを磁気的に現像して可視像を得るよ
うにしている([マグネトグラフィプリンタ」今村舜仁
著、大野信編集、0MCrノンインパクトプリンティン
グ」第15章P。
159〜P、168.1986参照)。
第14図は従来の熱磁気プリンタの印刷プロセス図であ
る。
図において、記録用磁気ドラムlは矢印A方向に回転す
る。該記録用磁気ドラム1面上には磁気潜像を形成する
ための磁気記録媒体であるCrO□薄膜等が設けられて
いる。
印刷プロセスにおいて、まず消磁手段2が磁気記録媒体
を一定方向に磁化する0次に、磁気記録手段3が所定の
磁気潜像を形成し、現像手段4が磁気潜像上にトナーを
付着させることにより、磁気潜像は可視像化される。こ
こで、トナーは磁気記録媒体面上の漏れ磁界による磁力
線と磁気記録媒体面とが交差する部分に付着し、その結
果、磁気潜像は可視像化される。
その後、転写手段5及び定着手段6は、可視像を用紙上
に転写、定着する。最後にクリーニング手段7は磁気記
録媒体上の残留トナーを除去し、印刷プロセスを終了す
る。
ところで、上記磁気記録媒体上に磁気潜像を記録する方
法としてはサーマルヘッドを用いる方法やレーザビーム
光照射により加熱する方法がある。
また、磁気記録媒体の磁化方向は、主として記録媒体面
に沿う方向(面内記録法)と記録媒体の面に対し垂直で
ある方向(垂直記録法)とがあり、高解像度を必要とす
る場合には垂直記録法が用いられる。垂直記録用の磁気
記録媒体は、希土類元素と鉄族元素との合金膜、すなわ
ちRE−7M合金膜又はCo−Cr合金膜で形成される
。 RE−T?I合金膜は磁気記録法を用いた光磁気デ
ィスクに、またCo−C。
合金膜は磁気ヘッド記録法を用いた磁気ディスクに多く
用いられている。
さらに、最近では、Co/Pt人工格子膜やCo/Pd
人工格子膜などの薄膜、またこれら人工格子膜を多重構
造にした多層膜も垂直磁化膜として利用することができ
るようになっている。
(発明が解決しようとする課′11) しかしながら、上記構成の磁気記録媒体において、Co
−Cr合金膜で形成した場合はキューリ点が高いため熱
磁気記録が困難となり、RE−7M合金膜で形成した場
合は残留磁束密度が小さいためトナーの付着力が不十分
となる。
また、Co/Pt人工格子膜やCo/Pd人工格子膜の
場合、全膜厚が数百人の極薄状態においては磁気ヒステ
リシス曲線の角形比は1であるが、全膜厚が数千人にな
ると角形比は1以下となり磁気記録に必要な残留磁束密
度が得られず、更に保磁力も2000e程度で小さい。
また、人工格子膜を用いた多重構造多層膜の場合、角形
比は1となり保磁力も20000e程度であって磁気記
録媒体として有効であるが、作成方法が複雑であり作成
時間も長い。
このように、垂直記録用の垂直磁化膜を用いた熱磁気プ
リンタは、原理的には記録の安定性が高く高解像度を得
ることができ、低消費電力で作動するなどの特徴がある
ものの、垂直磁化膜として適当な材料がなく、さらに磁
気特性を向上させようとした場合、膜の構造が複雑化し
て膜作成が困難になる。
本発明は、上記従来の磁気記録媒体の製造方法の問題点
を解決して残留磁束密度及び保磁力を十分に高くし、し
かもキューり温度を低くすことができる垂直記録用の磁
気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
(課駐を解決するための手段) そのために、本発明の磁気記録媒体の製造方法において
は、基板と間隔をおいてCoターゲット及びPtターゲ
ット又はPdターゲットを配設し、基板を周期的に移動
させ、上記両ターゲットに交互に対向させて高周波スパ
ッタリングを施し、基板上にCo/Pt人工格子膜又は
Co/Pd人工格子膜を形成する。
そして、その後上記Co/Pt人工格子膜又はCo/P
d人工格子膜の熱処理温度Tを、 200″C≦T≦450℃ として、熱処理する。
上記Co/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工格子膜の
Co層厚dCoを 1Å≦dCo≦15人 とし、pt層厚dot又はPd層厚dPtを2人≦d8
≦30人 又は  2人≦dP4≦30人 とするとともに、熱処理時間を1分以上とするのが好ま
しい。
また、Co/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工格子膜
のCo層厚dCoを 1人≦dCo≦15人 とし、pt層厚art又はPd層層厚−を2人≦dot
≦30人 又は  2Å≦dPt≦30人 とするとともに、上記高周波スパッタリングを施す際に
上記基板にプラスの電圧を印加すると好ましい。
(作用) 本発明によれば、上記のように基板と間隔をおいてCo
ターゲット及びPtターゲット又はPdターゲットを配
設し、基板を周期的に移動させ、上記両ターゲットに交
互に対向させて高周波スパッタリングを施すと、上記基
板上に交互にCoとPt又はPdの層が積層され、Co
/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工格子膜が形成され
る。
そして、その後上記Co/Pt人工格子膜又はCo/P
d人工格子膜の熱処理温度Tを、 200°C≦T≦450 ’C として、熱処理する。
上記Co/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工格子膜の
Co層厚dCoを 1Å≦dCo≦15人 とし、pt層厚dot又はPd層厚dPtを2人≦d8
≦30人 又は  2人≦dPd≦30人 とするとともに、熱処理時間を1分以上とするのが好ま
しい、また、上記高周波スパッタリングを施す際に上記
基板にプラスの電圧を印加すると好ましい。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
第1図は本発明の製造方法により作られた磁気記録媒体
を示す図、第1図(A)は磁気記録媒体の断面図、第1
図(B)は記録用磁気ドラムの断面図である。
図において、厚さが数十〜数百ミクロンの曲折自在なス
テンレス基板8上にプラス電圧を印加して、I?Fスパ
ッタ法を用いて垂直磁化膜、すなわち数百ミクロンの膜
厚を有するCo/Pt人工格子膜10が積層されて磁気
記録媒体11が形成される。該磁気記録媒体11はシー
ト状に形成され、記録用磁気ドラム芯材12上に巻き付
けられる。
第2図は磁気記録媒体の人工格子膜の断面図である。
図に示すように、Co層とpt層が交互に又はCo層と
Pd層が交互に積層される。
第3図は本発明の磁気記録媒体の製造方法が適用される
製造装置の概略図、第3図(A)は同正面図、第3図(
B)は同平面図である。
図において、21は回転板22上に配設され、スパッタ
リングによって人工格子膜が形成される基板である。上
記回転板22は基板印加用電源23によってプラス電圧
が印加されている。
24は上記基板21に対向して配設されるCoターゲ、
7トであり、25は同様に基Fi21に対向して配設さ
れるPt (又はPd)ターゲットである。
Coターゲ・ノド24及びPt (又はPd)ターゲッ
ト25と上記回転板22との間にスバンタ用の高周波(
IIF)電源26.27が接続される。また、Coター
ゲット24とPt (又はPd)ターゲット25間には
しきり板28が配設される。
上記構成の電圧印加型のRF多元スパッタ装置において
は、回転板22が回転するのに伴い、Coターゲット2
4とPt (又はPd)ターゲット25上を基板2Iが
回転することになり、該基板21上にPi (又はPc
t)とCoが周期的に積層され、人工格子膜が形成され
る。
上記Co/Pt人工格子膜工0のCo層厚(dC,)は
1Å≦dCo≦15人であり、pt層厚(d8)は2人
≦art≦30人である。
次に上記構成・の磁気記録媒体を用いて磁気特性評価を
行った結果について説明する。この実験には、Co/P
t人工格子膜IOとしてCo層厚dcoが5人、pt層
厚dPtが15人となるように周期的に積層したものを
用い、成膜後300°Cで30分間の熱処理をした。こ
の磁気記録媒体11を評価したところ、保磁力は100
00e程度で残留磁束密度は2000 Gauss程度
であり、磁性体であるトナーを吸収するのに十分な磁気
力を有する。また、キューり温度は200℃程度以下で
ある。
また、Co/Pt人工格子膜としてco層層厚、。をd
Co=5人、PtJiff d PLをdP、=15人
としてそれらを周期的に積層したものを用い、基板印加
電圧を50Vとし、成膜後300℃で30分間の熱処理
をした磁気記録媒体を用いて熱磁気記録を行った。
次に、上記条件で作成した磁気記録媒体の特性について
第4図に基づき説明する。
第4図は本発明の磁気記録媒体の製造方法における熱処
理前後の磁化ループ比較図、第4図(A)は熱処理前の
磁化ループ図、第4図(B)は熱処理後の磁化ループ図
である。
この磁気記録媒体11を評価したところ、保磁力は15
000e程度で残留磁束密度は3000Gauss程度
であり、磁性体であるトナーを咬着するのに十分な磁気
力を有する。また、キューり温度は200°C程度以下
であった。
第5図は熱処理温度/磁気特性関係図、第6図は熱処理
温度/残留磁束密度関係図である。
ここで印加電圧は50v  熱処理時間はすべて30分
である。図に示すように、200 ’C〜450 ’C
の熱処理により磁気特性が向上し、300°Cにおいて
最も良い値となる。
第7図は熱処理温度を250℃、300°C,400°
Cとしたときの熱処理時間/残留磁束密度関係図、第8
図は基板印加電圧をOV、30V、50Vとしたときの
熱処理時間/残留磁束密度関係図である。
図に示すように、1分以上の熱処理により磁気特性が向
上し、10分程度以上では一定となる。
第9図は基板印加電圧/熱処理後の磁気特性関係図であ
る。
図に示すように、人工格子膜の作成時の印加電圧を高く
することにより、熱処理後の磁気特性が良好となる。
第10図は本発明の他の製造方法により作られた磁気記
録媒体を示す図、第10図(A)は磁気記録媒体の断面
図、第10図(B)は記録用磁気ドラムの断面図である
図において、厚さが数十〜数百ミクロンの曲折自在なス
テンレス基板8上にRPスパッタ法を用いて垂直磁化膜
、すなわち数百ミクロンの膜厚を有するCo/Pd人工
格子膜14が積層されて磁気記録媒体15が形成される
。該磁気記録媒体15はシート状に形成され、記録用磁
気ドラム芯材12上に巻き付けられる。
上記Co/Pd人工格子膜14のCo層厚(dC,)は
1Å≦dCo≦15人であり、Pd層厚(d9)は2人
≦dPd≦30人である。
次に上記構成の磁気記録媒体15を用いて磁気特性評価
を行った結果について説明する。この実験には、Co/
Pd人工格子膜14としてCo層厚dceが5人、Pd
層厚d9が15人となるように周期的に積層したものを
用い、成膜後300℃で30分間の熱処理を行った。こ
の磁気記録媒体15を評価したところ、保磁力は200
00e程度で残留磁束密度は3000 Gaussであ
り、磁性体であるトナーを吸着するのに十分な磁気力を
有する。また、キュリー温度は200°C程度以下であ
った。
次に、上記条件で作成した磁気記録媒体の特性について
第11図に基づき説明する。
第11図は本発明の他の磁気記録媒体の製造方法におけ
る熱処理前後の磁化ループ比較図、第11図(A)は熱
処理前の磁化ループ図、第11図(B)は熱処理後の磁
化ループ図である。
図に示すように、磁気特性が非常に向上することが分か
る。
第12図は熱処理温度/[気持性関係図、第13図は熱
処理温度を250 ’C,300°C,350°Cとし
たときの熱処理時間/残留磁束密度関係図である。
図に示すように、1分以上の熱処理により磁気特性が徐
々に向上し、10分以上では一定となる。
また、200℃〜450°Cの熱処理により磁気特性が
向上し、300°Cにおいて最も良い値となる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
例えば、上記実施例においては、磁気記録媒体11.1
5の基板としてステンレス基板8を用いているが、非磁
性体であるポリイミド樹脂基板を利用してもよい。
また、磁気記録媒体11,15を応用した例として熱磁
気プリンタを示しているが、熱及び光の照射により記録
を行う他の記録装置にも応用することができる。また、
人工格子膜10.14の膜厚を数百ミクロンとし、ステ
ンレス基板8の板厚を数十〜数百ミクロンとしているが
、これらの厚さは用途に応じて変化させることができる
(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明によれば、Co/P
t人工格子膜又はCo/Pd人工格子膜の熱処理温度T
を、 200℃≦T≦450°C として熱処理し、上記Co/Pt人工格子膜又はCo/
Pd人工格子膜のCO層層厚、。を 1人≦dce≦15人 とし、pt層層厚8又はPd層層厚□を2人≦dot≦
30人 又は  2人≦art≦30人 とし、熱処理時間を1分以上とするとともに、高周波ス
パッタリングを施す際に基板にプラスの電圧を印加する
ようにしている。
したがって、膜の構造が単純であるため作成が容易とな
り、さらに垂直記録を行う熱磁気記録法において、高い
磁気記録密度を得ることができる。
そして、例えば熱磁気プリンタにこれを用いた場合、解
像度を高くし消費電力を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の製造方法により作られた磁気記録媒体
を示す図、第1図(A)は磁気記録媒体の断面図、第1
図(B)は記録用磁気ドラムの断面図、第2図は磁気記
録媒体の人工格子膜の断面図、第3図は本発明の磁気記
録媒体の製造方法が適用される製造装置の概略図、第3
図(A)は同正面図、第3図(B)は同平面図、第4図
は本発明の磁気記録媒体の製造方法における熱処理前後
の磁化ループ比較図、第4図(A)は熱処理前の磁化ル
ープ図、第4図(B)は熱処理後の磁化ループ図、第5
図は熱処理温度/磁気特性関係図、第6図は熱処理温度
/残留磁束密度関係図、第7図は熱処理温度を250°
C,300℃、400°Cとしたときの熱処理時間/残
留磁束密度関係図、第8図は基板印加電圧をOV、 3
0V、 50Vとしたときの熱処理時間/残留磁束密度
関係図、第9図は基板印加電圧/熱処理後の磁気特性関
係図、第10図は本発明の他の製造方法により作られた
磁気記録媒体を示す図、第10図(A)は磁気記録媒体
の断面図、第10図(B)は記録用磁気ドラムの断面図
、第11図は本発明の他の磁気記録媒体の製造方法にお
ける熱処理前後の磁化ループ比較図、第11図(A)は
熱処理前の磁化ループ図、第11図(B)は熱処理後の
磁化ループ図、第12図は熱処理温度/磁気特性関係図
、第13図は熱処理温度を250°C,300°C,3
50℃としたときの熱処理時間/残留磁束密度関係図、
第14図は従来の熱磁気プリンタの印刷プロセス図であ
る。 8・・・ステンレス基板、10・・・Co/Pt人工格
子膜、11.15・・・磁気記録媒体、12・・・記録
用磁気ドラム芯材、14・・・Co/Pd人工格子膜、
21・・・基板、22・・・回転板、23・・・基板印
加用電源、24・・・Coターゲット、25・・・Pi
 (又はPd)ターゲット、26.27・・・高周波(
IIP)電源、28・・・しきり板。 特許出願人 沖電気工業株式会社 代理人 弁理士 川 合  誠(外1名)第 図 不発BA/1石鳳気記録舖2水す2 第1図 A′;18月のに敢気シ球媒φトの製遷」装置のび七叫
鉋凶第3図 熱ヌ亀理@雀しの4化4−グIj較図 第4図 熱処理羞シ1汎符社関係図 第5図 残留孟1水Z度(バGaUss) 熱処理時間/グ(習急東銀関4七起 第8図 オ(【明のイ色の滋勇J己1も女系チト乞帆す2第10
図 羞枦、印加電属/処怨理後の層気付・江関係図第9図 熱処理釣俊I(2)九ルグ比較図 第11図 第12図 残留臘動儂CKQauss) #:来、je、EIA’Aグワン9’QfT’JAI’
:)”Dt’、7Ua第14図 熱処理時7Il′l/残祐勤■渡関介図第13図 手続補正書 (自発) 明   細   書 平成2年12月27日

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)基板と間隔をおいてCoターゲット及びP
    tターゲットを配設し、 (b)基板を周期的に移動させ、上記両ターゲットに交
    互に対向させて高周波スパッタリングを施し、基板上に
    Co/pt人工格子膜を形成し、 (c)該Co/Pt人工格子膜の熱処理温度Tを、20
    0℃≦T≦450℃ として、熱処理することを特徴とする磁気記録媒体の製
    造方法。
  2. (2)上記Co/Pt人工格子膜のCo層厚d_C_o
    を1Å≦d_C_o≦15Å とし、Pt層厚d_P_tを 2Å≦d_P_t≦30Å とするとともに、熱処理時間を1分以上とする上記請求
    項1記載の磁気記録媒体の製造方法。
  3. (3)上記Co/Pt人工格子膜のCo層厚d_C_o
    を1Å≦d_C_o≦15Å とし、Pt層厚d_P_tを 2Å≦d_P_t≦30Å とするとともに、上記高周波スパッタリングを施す際に
    、上記基板にプラスの電圧を印加する上記請求項1記載
    の磁気記録媒体の製造方法。
  4. (4)(a)基板と間隔をおいてCoターゲット及びP
    dターゲットを配設し、 (b)基板を周期的に移動させ、上記両ターゲットに交
    互に対向させて高周波スパッタリングを施し、基板上に
    Co/Pd人工格子膜を形成し、 (c)該Co/Pd人工格子膜の熱処理温度Tを、20
    0℃≦T≦450℃ として、熱処理することを特徴とする磁気記録媒体の製
    造方法。
  5. (5)上記Co/Pd人工格子膜のCo層厚d_C_o
    を1Å≦d_C_o≦15Å とし、Pd層厚d_P_dを 2Å≦d_P_d≦30Å とするとともに、熱処理時間を1分以上とする上記請求
    項4記載の磁気記録媒体の製造方法。
  6. (6)上記Co/Pd人工格子膜のCo層厚d_C_o
    を1Å≦d_C_o≦15Å とし、Pd層厚d_P_dを 2Å≦d_P_d≦30Å とするとともに、上記高周波スパッタリングを施す際に
    、上記基板にプラスの電圧を印加する上記請求項4記載
    の磁気記録媒体の製造方法。
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