JPH01155532A - 光磁気記録媒体の作製方法 - Google Patents
光磁気記録媒体の作製方法Info
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- JPH01155532A JPH01155532A JP31193987A JP31193987A JPH01155532A JP H01155532 A JPH01155532 A JP H01155532A JP 31193987 A JP31193987 A JP 31193987A JP 31193987 A JP31193987 A JP 31193987A JP H01155532 A JPH01155532 A JP H01155532A
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- resin substrate
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Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザ光を用いて情報の記録、再生。
消去を行なう光磁気記録に係わり、特に、記録の安定性
にすぐれた光磁気記録媒体の製造方法に関する。
にすぐれた光磁気記録媒体の製造方法に関する。
光磁気記録は、書き換え可能な大容量ファイルメモリー
として注目されている。光磁気記録材料としては、希土
類−遷移金属合金や酸化物磁性体などが用いられている
が、記録材料として用いるためには垂直磁気異方性およ
び保磁力が十分に大きいことが必要である。従来技術に
おいて、光磁気記録膜の垂直磁気異方性は、特公昭５７
−２０６９１号に記載のように、薄膜の成膜時に発生す
るもの、もしくは、特開昭６１−１１５２５９号に記載
のように、基板と光磁気記録膜との熱膨張率の差から、
光磁気記録膜に発生する応力を利用して、磁歪効果によ
シ誘起し友ものであった。
として注目されている。光磁気記録材料としては、希土
類−遷移金属合金や酸化物磁性体などが用いられている
が、記録材料として用いるためには垂直磁気異方性およ
び保磁力が十分に大きいことが必要である。従来技術に
おいて、光磁気記録膜の垂直磁気異方性は、特公昭５７
−２０６９１号に記載のように、薄膜の成膜時に発生す
るもの、もしくは、特開昭６１−１１５２５９号に記載
のように、基板と光磁気記録膜との熱膨張率の差から、
光磁気記録膜に発生する応力を利用して、磁歪効果によ
シ誘起し友ものであった。
しかし、成膜時に発生する磁気異方性は、Ｔｂ−Ｆｅな
どの限られた組成のものでしか、十分に大さくならず、
耐朕性や磁気光学効果の点からより優れた材料を選択し
ようとする場合に制約があった。また、基板と磁性膜の
熱膨張率の差を利用して、磁性膜に応力を加え磁気異方
性を誘起する方法においては、基板を高温に加熱しなけ
ればならず、安価なプラスチック基板の便用が不可能で
あった。
どの限られた組成のものでしか、十分に大さくならず、
耐朕性や磁気光学効果の点からより優れた材料を選択し
ようとする場合に制約があった。また、基板と磁性膜の
熱膨張率の差を利用して、磁性膜に応力を加え磁気異方
性を誘起する方法においては、基板を高温に加熱しなけ
ればならず、安価なプラスチック基板の便用が不可能で
あった。
本発明の目的は、プラスチック基板を用いて。
基板温度を上げることなしに、光磁気記録膜に応力を加
え、磁気異方性を誘起する方法を提供することにある。
え、磁気異方性を誘起する方法を提供することにある。
上記目的は、露光による収縮性を有する樹脂製基板上に
光磁気記録膜を作製し、その後、上記樹脂製基板を露光
することにより、基板を収縮させ、こルにより上記光磁
気記録膜に圧縮応力全印加し、垂直磁気異方性を増大さ
せることにより、達成される。
光磁気記録膜を作製し、その後、上記樹脂製基板を露光
することにより、基板を収縮させ、こルにより上記光磁
気記録膜に圧縮応力全印加し、垂直磁気異方性を増大さ
せることにより、達成される。
〔作用」
本発明の原理を、第１図を用いて説明する。本発明にお
いては、紫外線硬化樹脂などの樹脂製基板２を使用する
。ここで、上記基板は重合による硬化がまだ完全には終
了していないものを用いる。
いては、紫外線硬化樹脂などの樹脂製基板２を使用する
。ここで、上記基板は重合による硬化がまだ完全には終
了していないものを用いる。
この基板ヒに、第１図（Ａ）に示すように記録膜１を、
スパッタ法やメッキ法により作製する。この時点では１
だ、記録膜の磁化が面内方向を向いていてもかまわない
。仄に、第１図（Ｂ）に示すように、樹脂基板に紫外線
を照射することにより、樹脂基板の重合による硬化を完
了させる。硬化することにより、樹脂基板は、第１図（
Ｃ）に示すように収縮する。これにより、記録膜１には
、市内圧縮応力が加わる。もし５記録膜１の磁歪係数が
正であれば、この面内圧縮応力に工す、逆磁歪効果によ
って記録膜に垂直磁気異方性が誘起される。
スパッタ法やメッキ法により作製する。この時点では１
だ、記録膜の磁化が面内方向を向いていてもかまわない
。仄に、第１図（Ｂ）に示すように、樹脂基板に紫外線
を照射することにより、樹脂基板の重合による硬化を完
了させる。硬化することにより、樹脂基板は、第１図（
Ｃ）に示すように収縮する。これにより、記録膜１には
、市内圧縮応力が加わる。もし５記録膜１の磁歪係数が
正であれば、この面内圧縮応力に工す、逆磁歪効果によ
って記録膜に垂直磁気異方性が誘起される。
このメカニズＡにより、垂直磁気異方性が小さいために
、従来は光磁気記録材料としての使用が困難であった酸
化物磁性体などの使用が可能となる。
、従来は光磁気記録材料としての使用が困難であった酸
化物磁性体などの使用が可能となる。
以下、実施例１〜３を用いて１本発明の詳細な説明する
。
。
〔実施例１〕
第２図に、本発明の実施例１により作製した光磁気記録
媒体の構造を示す。完全には硬化が完了していない紫外
線硬化樹脂基板４の上に、Ｇｄ１５ Ｄ）’７ Ｆｅ８
０ Ｃ０１ｇよシなる記録膜１をイオンビームスパッタ
法により成膜した。その後、基板側から紫外線露光を行
なうことにより樹脂基板の硬化を完了させた。この、露
光の前後で、基板は、０．５ ％収縮した。
媒体の構造を示す。完全には硬化が完了していない紫外
線硬化樹脂基板４の上に、Ｇｄ１５ Ｄ）’７ Ｆｅ８
０ Ｃ０１ｇよシなる記録膜１をイオンビームスパッタ
法により成膜した。その後、基板側から紫外線露光を行
なうことにより樹脂基板の硬化を完了させた。この、露
光の前後で、基板は、０．５ ％収縮した。
第３図に露光前と露光後のカー回転角ヒステリシスを示
す。露光前には保磁力が１ｇｃｍｅでめったが、露光後
は４ｋＯｅとなり、垂直磁気異方性が増大し、光磁気記
録材料として適した膜となった。
す。露光前には保磁力が１ｇｃｍｅでめったが、露光後
は４ｋＯｅとなり、垂直磁気異方性が増大し、光磁気記
録材料として適した膜となった。
〔実施例２〕
第４図に、本発明の実施例２によシ作製した光磁気記録
媒体の構造を示す。完全には硬化が完了していない紫外
線硬化樹脂基板４の上に、Ｙ゛−Ｆ ｅ−０膜５ ｅ、
イオンビームスパッタ法によシ１゜イツトリウム鉄ガー
ネット（Ｙ Ｉ Ｇ ） ｔメーゲツトとして成膜し７
た。その後、紫外線露光により樹脂基板の硬化を完了さ
せた。この露光により、基板は、０．５％収縮した。
媒体の構造を示す。完全には硬化が完了していない紫外
線硬化樹脂基板４の上に、Ｙ゛−Ｆ ｅ−０膜５ ｅ、
イオンビームスパッタ法によシ１゜イツトリウム鉄ガー
ネット（Ｙ Ｉ Ｇ ） ｔメーゲツトとして成膜し７
た。その後、紫外線露光により樹脂基板の硬化を完了さ
せた。この露光により、基板は、０．５％収縮した。
第５図に、露光前と露光後のカー回転角ヒステリシスを
示す。露光前には、面内磁化膜であったが、露光後には
垂直磁気異方性が誘起されて垂直磁化膜となった。
示す。露光前には、面内磁化膜であったが、露光後には
垂直磁気異方性が誘起されて垂直磁化膜となった。
〔実施例３〕
第６図に、本発明の実施例３により作製した光磁気記録
媒体の構造を示す。完全には硬化が完了していない紫外
線硬化樹脂基板４の上に、メッキ法によシスピネル型の
コバルトフェライトＰ！Ａ６を２０００人の厚さに成膜
した。フェライトメッキは。
媒体の構造を示す。完全には硬化が完了していない紫外
線硬化樹脂基板４の上に、メッキ法によシスピネル型の
コバルトフェライトＰ！Ａ６を２０００人の厚さに成膜
した。フェライトメッキは。
基板を回転しながら、Ｃ０ＣｊｚとＦｅＣ１，の水溶液
よりなる金属原子吸着槽と、空気による酸化槽との間を
往復させることにより行なった。吸着槽の温度は８０Ｃ
とした。このようにして、コバルトフェライト裏金成膜
した後、紫外線露光により樹脂基板の硬化を完了させた
。この露光によシ、基板は０．５％収縮した。
よりなる金属原子吸着槽と、空気による酸化槽との間を
往復させることにより行なった。吸着槽の温度は８０Ｃ
とした。このようにして、コバルトフェライト裏金成膜
した後、紫外線露光により樹脂基板の硬化を完了させた
。この露光によシ、基板は０．５％収縮した。
−第７図に、露光前と露光後の、膜面垂直方向の磁化曲
線を示す。露光前には、面内磁化膜であったが、露光後
には垂直磁気異方性が誘起されて垂直磁化膜となり、保
磁力も２０００ｅと大さくなった。
線を示す。露光前には、面内磁化膜であったが、露光後
には垂直磁気異方性が誘起されて垂直磁化膜となり、保
磁力も２０００ｅと大さくなった。
本発明によシ、従来の方法では当直磁気異方性が小さす
ぎて光磁気記録材料として用いることができなかった酸
化物などの膜に対しても、磁歪の効果を用いて十分に大
きな垂直磁気異方性および保磁力を付与した膜を樹脂基
板上にもうけることが可能となった。
ぎて光磁気記録材料として用いることができなかった酸
化物などの膜に対しても、磁歪の効果を用いて十分に大
きな垂直磁気異方性および保磁力を付与した膜を樹脂基
板上にもうけることが可能となった。
第１図は本発明の原理を示す模式図記録媒休所面、第２
図、第４図および第６図は本発明の実施例光磁気記録媒
体の縦断面図、第３図および第５図は実施例の光磁気記
録媒体のカー回転角ヒステリシス図、第７図は実施例３
の光磁気記録膜の膜面垂直方向の磁化曲線である。 １・・・記録膜、２・・・樹脂製基板、３・・・紫外線
、４・・・−紫外線硬化樹脂基板、５・・・Ｙ−Ｆｅ−
０膜、６・・・コバルトフェライト膜。 第１図
図、第４図および第６図は本発明の実施例光磁気記録媒
体の縦断面図、第３図および第５図は実施例の光磁気記
録媒体のカー回転角ヒステリシス図、第７図は実施例３
の光磁気記録膜の膜面垂直方向の磁化曲線である。 １・・・記録膜、２・・・樹脂製基板、３・・・紫外線
、４・・・−紫外線硬化樹脂基板、５・・・Ｙ−Ｆｅ−
０膜、６・・・コバルトフェライト膜。 第１図
Claims (4)
- １．樹脂製基板上に光磁気記録膜を作製し、その後、上
記樹脂製基板を露光することにより、基板を収縮させ、
これにより上記光磁気記録膜に圧縮応力を印加し、垂直
磁気異方性を増大させることを特徴とする光磁気記録媒
体の作製方法。 - ２．樹脂製基板として、紫外線硬化樹脂基板を用いたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気記録
媒体の作製方法。 - ３．光磁気記録膜として酸化物磁性体を用いたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気記録媒体の
作製方法。 - ４．光磁気記録膜として、メッキ法で作製された酸化物
磁性体を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の光磁気記録媒体の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31193987A JPH01155532A (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | 光磁気記録媒体の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31193987A JPH01155532A (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | 光磁気記録媒体の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01155532A true JPH01155532A (ja) | 1989-06-19 |
Family
ID=18023251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31193987A Pending JPH01155532A (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | 光磁気記録媒体の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01155532A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0428155A2 (en) * | 1989-11-14 | 1991-05-22 | Ube Industries, Ltd. | Rare earth-iron-garnet fine particles and magneto-optical material using the same |
| JPH04132029A (ja) * | 1990-09-21 | 1992-05-06 | Ube Ind Ltd | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2008262961A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Ihi Corp | 磁性半導体の製造方法および製造装置 |
-
1987
- 1987-12-11 JP JP31193987A patent/JPH01155532A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0428155A2 (en) * | 1989-11-14 | 1991-05-22 | Ube Industries, Ltd. | Rare earth-iron-garnet fine particles and magneto-optical material using the same |
| JPH04132029A (ja) * | 1990-09-21 | 1992-05-06 | Ube Ind Ltd | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2008262961A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Ihi Corp | 磁性半導体の製造方法および製造装置 |
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