JPS61210549A - 磁気光学記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気光学記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS61210549A JPS61210549A JP5043285A JP5043285A JPS61210549A JP S61210549 A JPS61210549 A JP S61210549A JP 5043285 A JP5043285 A JP 5043285A JP 5043285 A JP5043285 A JP 5043285A JP S61210549 A JPS61210549 A JP S61210549A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- film
- magnetic field
- recording medium
- magneto
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気光学記録媒体の製造方法に悌シ、臀に、多
数回の繰シ返し記録・再生・消去に対して安定な搬送波
対雑音比（Ｃ／Ｎ）を有し、その特性変化が小さい磁気
光学記録媒体に好適な製造方法に関する。
数回の繰シ返し記録・再生・消去に対して安定な搬送波
対雑音比（Ｃ／Ｎ）を有し、その特性変化が小さい磁気
光学記録媒体に好適な製造方法に関する。
書き換え可能な光記録方式である光磁気記録の記録材料
として、比較的大きなカー回転角が得られる希土類−鉄
族系非晶質膜が注目を浴びている。
として、比較的大きなカー回転角が得られる希土類−鉄
族系非晶質膜が注目を浴びている。
しかし、記録・再生・（Ｐｉ去を多数回繰シ返した〕、
高温環境下で用いると、その特性弁が著しく劣化し、Ｃ
／Ｎも低下することが刈られている。この主な原因とし
て、膜自体の構造緩和（非晶質構造を示す範囲内で原子
がわずかに移動する現象をいう）による垂直磁気異方性
の経時変化が挙げられ、この経時変化を抑える方法とし
て、熱処理法が提案されている（向えば特開昭５９−３
４６１８号）。
高温環境下で用いると、その特性弁が著しく劣化し、Ｃ
／Ｎも低下することが刈られている。この主な原因とし
て、膜自体の構造緩和（非晶質構造を示す範囲内で原子
がわずかに移動する現象をいう）による垂直磁気異方性
の経時変化が挙げられ、この経時変化を抑える方法とし
て、熱処理法が提案されている（向えば特開昭５９−３
４６１８号）。
しかし従来の単なる熱処理法でに、熱処理中の構造緩和
によ〕重置磁気異方性が低下する。このためカー回転角
も低下し再生出力が低下してしまう問題があった。
によ〕重置磁気異方性が低下する。このためカー回転角
も低下し再生出力が低下してしまう問題があった。
本発明の目的は、レーザ光による熱履歴や熱活性化に対
して、再生出力が低下することなく、繰〕返し記録・消
去が安定に出来る高寿命の磁気光学記録媒体の製造方法
を提供することにある。
して、再生出力が低下することなく、繰〕返し記録・消
去が安定に出来る高寿命の磁気光学記録媒体の製造方法
を提供することにある。
従来、Ｆｅ−５−ｓｔ等の金属−非金属系強磁性非晶質
薄帯を磁場中で熱処理すると、印加ａ場方向に容易に強
い山気異方性が誘起されることが知られている。本発明
者等は、垂直磁気異方性や磁気光学特性を劣化さ９せる
ことなく熱処理し、長寿命の記録膜を製造するために、
上記性質が光磁気記録材料の希土類−鉄族系非晶質膜で
も生じるかどうかを検討し、同様の効果が得られること
を見い出し次。その結果、希土頌−鉄族系非晶質垂直磁
化膜の膜面に垂直方向に強い外部磁場を印加しなから熱
処理すると、熱処理前と比べて垂直山気異方性は同等以
上になシ、外部磁場の無い通常の熱処理膜と比べても、
よシ高い垂直磁気異方性エネルギーと高いカー回転角が
得られること七見い出した。また本発明の熱処理法で得
られ念膜は、熱処理しない膜と比べて、レーザ光の熱履
歴に対してより高い熱安定性を示すこともわかった。
薄帯を磁場中で熱処理すると、印加ａ場方向に容易に強
い山気異方性が誘起されることが知られている。本発明
者等は、垂直磁気異方性や磁気光学特性を劣化さ９せる
ことなく熱処理し、長寿命の記録膜を製造するために、
上記性質が光磁気記録材料の希土類−鉄族系非晶質膜で
も生じるかどうかを検討し、同様の効果が得られること
を見い出し次。その結果、希土頌−鉄族系非晶質垂直磁
化膜の膜面に垂直方向に強い外部磁場を印加しなから熱
処理すると、熱処理前と比べて垂直山気異方性は同等以
上になシ、外部磁場の無い通常の熱処理膜と比べても、
よシ高い垂直磁気異方性エネルギーと高いカー回転角が
得られること七見い出した。また本発明の熱処理法で得
られ念膜は、熱処理しない膜と比べて、レーザ光の熱履
歴に対してより高い熱安定性を示すこともわかった。
ここで、本発明の熱処Ｊによる記録媒体＃遺失において
、上記効果を得るためには熱九理温度は非晶貧相での構
造緩和が起る温度以上で結晶化温度以下にする必要が６
９、高分子等のディスク基板の軟化温度を考慮すると、
５０〜２５０ｒの温度範四に設定するのがよシ好ましい
。−万、印加外部磁場は上記温度範囲内で誘導磁気異方
性を誘起させるに十分な磁場強度である必要があシ、熱
部Ｍｉ温度にも依存するが約１ｏｏｏｅ以上で、強けれ
ば強い程より好ましい。
、上記効果を得るためには熱九理温度は非晶貧相での構
造緩和が起る温度以上で結晶化温度以下にする必要が６
９、高分子等のディスク基板の軟化温度を考慮すると、
５０〜２５０ｒの温度範四に設定するのがよシ好ましい
。−万、印加外部磁場は上記温度範囲内で誘導磁気異方
性を誘起させるに十分な磁場強度である必要があシ、熱
部Ｍｉ温度にも依存するが約１ｏｏｏｅ以上で、強けれ
ば強い程より好ましい。
熱処理雰囲気は、酸化による特性劣化を防止すルア’！
−メ不活性ガス（Ｎ２ ＃ Ａｒ、Ｈｅ、 Ｎｅ等）中
か真空中で行なうことが望ましい。但し、非晶質膜上に
保ａ膜（Ｓ ｉｏｚ 、 Ｓ ｉ３Ｎ４＊ ＡｔＮ等）
を被膜すれば大気中でも行なうことが出来る。
−メ不活性ガス（Ｎ２ ＃ Ａｒ、Ｈｅ、 Ｎｅ等）中
か真空中で行なうことが望ましい。但し、非晶質膜上に
保ａ膜（Ｓ ｉｏｚ 、 Ｓ ｉ３Ｎ４＊ ＡｔＮ等）
を被膜すれば大気中でも行なうことが出来る。
〔発明の実１ｉＩＡ列〕
以下、本発明を実施列を用いて説明する。
案内溝を有するガラスあるいはＰＭＭＡ、エポキシポリ
カーボネイト等の高分子基板（２“φ）上に、マグネト
ロンスパッタ法で５ｉＯｓ＆（ｄｊＥ厚３００人）、Ｔ
ｂｘ ｓ Ｇｄｔ ｏ Ｆｅ７ｓ 記録膜（膜厚１００
０人）、ＳｉＯ鵞膜（膜厚７００人）を被膜し、光磁気
ディスクを炸裂した。次にこうして得られたディスクの
表面が外部静磁場方向に垂直になるように配置し、外部
磁場１０ＫＯｅ、焼鈍温度ｔｓｏｃの条件下で３０分間
熱処理を施した。
カーボネイト等の高分子基板（２“φ）上に、マグネト
ロンスパッタ法で５ｉＯｓ＆（ｄｊＥ厚３００人）、Ｔ
ｂｘ ｓ Ｇｄｔ ｏ Ｆｅ７ｓ 記録膜（膜厚１００
０人）、ＳｉＯ鵞膜（膜厚７００人）を被膜し、光磁気
ディスクを炸裂した。次にこうして得られたディスクの
表面が外部静磁場方向に垂直になるように配置し、外部
磁場１０ＫＯｅ、焼鈍温度ｔｓｏｃの条件下で３０分間
熱処理を施した。
このような熱処理後でも、再生Ｃ／Ｎ比の劣化は認めら
れなかった。
れなかった。
次に、基板としてガラスを用い次代表列で上述の熱感ｍ
後の記録媒体を、周囲温度５０Ｃのもとて繰り返し記録
・消去・再生し、Ｃ／Ｎ比を測定した（レーザ光パワー
７ｍＷ、外部磁場１（ｅｘ ＝３０００Ｃ％再生光レ
ーザ光パワー１．５ｍＷ）。
後の記録媒体を、周囲温度５０Ｃのもとて繰り返し記録
・消去・再生し、Ｃ／Ｎ比を測定した（レーザ光パワー
７ｍＷ、外部磁場１（ｅｘ ＝３０００Ｃ％再生光レ
ーザ光パワー１．５ｍＷ）。
この結果を第１図に示す。曲１Ｍｌに示すように、本発
明の上記熱処理ディスクは約１０’回のｌａミツし後も
Ｃ／Ｎ劣化は認められなかった。−万、無磁場中熱処理
では、熱処理後約１〜２ｄＢの再生Ｃ／Ｎ比の劣化が認
められた。また熱処理を施さなかったディスクでは第１
図の曲線２に示すように、約１０’回の繰シ返し後でＣ
／Ｎ比が顕著に低下した。尚、本実施列ではＴｂＱｄ１
；”ｅ を記録材料として用いたがＴｂ Ｆｅ Ｃｏ、
Ｔｂ Ｇｄ ＦｅＣｏ。
明の上記熱処理ディスクは約１０’回のｌａミツし後も
Ｃ／Ｎ劣化は認められなかった。−万、無磁場中熱処理
では、熱処理後約１〜２ｄＢの再生Ｃ／Ｎ比の劣化が認
められた。また熱処理を施さなかったディスクでは第１
図の曲線２に示すように、約１０’回の繰シ返し後でＣ
／Ｎ比が顕著に低下した。尚、本実施列ではＴｂＱｄ１
；”ｅ を記録材料として用いたがＴｂ Ｆｅ Ｃｏ、
Ｔｂ Ｇｄ ＦｅＣｏ。
ＴｂＤｙｐｅＣｏ等の材料においても同様の効果を得る
ことができる。
ことができる。
以上の実施向から明らかなように、本発明の熱処理法は
、記録膜の熱処理による特性劣化を防ぎ、光磁気ディス
クの記録膜の特性寿命を大幅に改善することが出来る。
、記録膜の熱処理による特性劣化を防ぎ、光磁気ディス
クの記録膜の特性寿命を大幅に改善することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第１図はＣ／Ｎの繰り返し記録・消去回数依存性を示す
成因である。
成因である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、希土類−鉄族系非晶質膜を記録材料に用いた磁気光
学記録媒体の製造方法において、実質的に該非晶質膜の
膜面に垂直方向に外部磁場を印加しながら熱処理する工
程を有することを特徴とする磁気光学記録媒体の製造方
法。 ２、特許請求の範囲第１項において、前記熱処理する工
程は、外部磁場が１０００ｅ以上、熱処理温度が５０℃
以上２５０℃以下の条件下で行なわれるものであること
を特徴とする磁気光学記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5043285A JPS61210549A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 磁気光学記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5043285A JPS61210549A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 磁気光学記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61210549A true JPS61210549A (ja) | 1986-09-18 |
Family
ID=12858704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5043285A Pending JPS61210549A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 磁気光学記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61210549A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63317946A (ja) * | 1987-06-19 | 1988-12-26 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS63317947A (ja) * | 1987-06-19 | 1988-12-26 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-03-15 JP JP5043285A patent/JPS61210549A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63317946A (ja) * | 1987-06-19 | 1988-12-26 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS63317947A (ja) * | 1987-06-19 | 1988-12-26 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体の製造方法 |
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