KR970011228B1 - 광자기기록매체 및 제조방법 - Google Patents

Abstract

요약없음

Description

광자기기록매체 및 제조방법

제1도는 종래 광자기 디스크의 단면도.

제2도는 본 발명에 의한 광자기 디스크의 단면도.

제3도는 본 발명의 디스크와 종래 기술의 디스크의 내산화성 시험 그래프.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1,3 : 보호층,2 : 기록층,

4 : 기판,5 : 산화층

본 발명은 광자기기록매체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 희토류원소의 선택적인 산화에 의한 매체의 특성저하를 방지할 수 있도록 한 광자기기록매체 및 그 제조방법에 관한 것이다.

최근에 대용량 고밀도의 기록매체가 요구됨에 따라 기존의 자기기록매체에서는 실현하기 어려운 높은 기록밀도를 가진 광자기 기술이 발전하게 되었다.

콤팩트 디스크, 비디오 디스크 등 재생전용 광디스크는 대략 보급 단계에 있으며, 1회 기록할 수 있는 추기형(追記形) 디스크는 파일링 시스템등으로 그 응용이 확대되고 있다.

그러나 기존의 자기기록매체를 대체할 수 있는 소거 가능형 광디스크는 아직 개발 단계에 있는 상황이다.

소거 가능형 광디스크는 크게 나누어 광자기형과 상변이형이 있으면 현재는 광자기형이 실용화 단계에 있다.

광자기 디스크의 기록층으로 쓰이는 기록재료로서는 희토류-천이금속(RE-Tm)의 비정질 막이 대용되고 있으며, 희토류로서는 Tb, Od, Ty등이 사용되고 천이 금속으로서는 Fe, Co가 사용되고 있다.

이들 원소들은 산호가 쉽게 되는 물질이며, 특히 Tb등은 그 영향이 더욱 강하여 막에서 선택적인 산화가 일어나기 쉬워 기록매체 열화의 큰 원인이 되고 있다.

이러한 문제점을 개선하기 위해 제1도와 같이 기록층 상하를 샌드위치시켜 보호층을 형성하는 방법이 많이 사용되고 있다.

제1도에서 1은 보호층으로서 SiNx, SiOx, A/N 등의 유전체가 사용되며, 2는 기록층으로서 TbFeCo, GdTbFeCo 등의 RE-TM막으로 이루어져 있고, 3은 엔티리플렌션층으로서 보호층(1)과 같은 재료가 사용되고 있다.

그러나 종래에 사용되던 보호층(1)에 의한 보호효과는 충분하지 못하여 기록층(2)이 쉽게 산화되며, 특히 기록층(2)중 Tb등 희토류 원소가 선택적으로 사용되어 매체의 산화도를 크게 저하시키게 되는 결함이 있었다.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 결함을 해소하기 위하여 창안한 것이다.

본 발명에 의한 광자기기록매체는 기판의 상면에 보호층, 기록층 및 보호층을 순차적으로 형성하되, 상기 기록층과 적어도 한쪽의 보호층 사이에 산화층을 형성하여서 된 것을 특징으로 하며, 그 제조방법은 기판에 보호층을 형성하는 공정과, 상기 보호층에 기록층을 형성하는 공정과, 상기 기록층과 그 양쪽에 형성되는 보호층의 경계면 중 적어도 한쪽 경계면을 진공조 내부에서 증착 후 가열하여 기록층 또는 보호층의 잔존산소 확산에 의하여 두께 5~500Å의 범위로 희토류 원소의 산화층을 형성하는 공정으로 이루어짐을 특징으로 한다. 또한 상기 산화층을 스퍼터링 에칭에 의하여 5~50Å의 두께만큼 제거함을 특징으로 한다.

제2도는 본 발명의 일실시예에 의한 광자기기록매체의 구성을 보인 단면도로서, 이에 도시한 바와 같이, 기판(4)위에 보호층(3), 기록층(2) 및 보호층(1)이 순차적으로 적층된 것에 있어서, 상기 기록층(2)의 상면에 산화층(5)을 형성하여서 된 것이다.

상기 구조에서 보호층(1,3)은 SiNx, SiOx 또는 A/N으로 형성되고, 기록층(2)은 TbFeCo 또는 GdTbFeCo로 형성되어 있으며, 산화층(5)은 기록층(2)의 표면을 그 기록층(2)내부의 산화로 확산산화시켜서 된 것이다.

본 발명에 의한 광자기기록매체의 제조방법은 기록층(2)을 형성시킨 후 진공중에서 가열에 의하여 기록층(2)중의 산소를 기록면의 반대표면(레이저 조사가 일어나는 뒷면)에 산화층(5)을 형성시키고 다시 보호층(1,3)을 입힘으로써 기록층(2)중의 잔존산소에 의한 기록층(2)의 산화가 방지되도록 한다.

상기와 같이 기록층(2)을 형성한 후 진공중에서 가열하면 기록층(2) 및 보호층(1,3)에 함유된 잔존산소가 확산되어 기록층(2) 표면에 희토류 원소의 산화층(5)이 형성되는 것이다.

본 발명에 의한 산화층(5)을 형성하는 공정에서는 그 산화층(5)의 두께는 5~500Å의 범위에서 형성하고, 그 산화층(5)을 스퍼터링 에칭에 의해 약 5~500Å 제거하는 방법으로 행함으로써 기록층(2)의 내산화력이 보다 향상될 수 있었다.

이하, 본 발명을 실시예를 들어 보다 상세히 설명한다.

실시예에서 사용된 기록층(2)의 재료는 TbFeCo계로서 베이스 압력이 5×10^-7Torr로 되게 한 스퍼터링 챔버내에서 Tb와 Fe-Co타게트를 사용하여 동시에 스퍼터링을 하여 형성하였다.

기판(4)으로서는 폴리카보네이트와 글래스를 사용하였으며, 기록층(2)을 입히기 전에 Si타게트로 사용하여 반응성 스퍼터링에 의해 SiNx층을 형성한 후 기록층(2)을 형성하였다. 기록층(2)을 약 1000Å정도가 되게 입힌 후 다시 진공을 베이스 압력까지 유지시킨 후 흘로그램 램프에 의해 약 90℃로 1시간 30분 가열한후 약 30~50Å정도 스퍼터링 에칭하였다. 이후 다시 Si타게트를 이용하여 반응성 스퍼터링에 의해 Sinx를 보호층(3)으로서 형성하였다.

기록층(2)이 열화되는 가장 큰 원인은 기록층(2) 중의 잔존산소의 희토류 원소의 결합, 선택적인 산화가 일어나기 때문인 바, 본 발명에서는 이러한 문제를 해결하기 위하여 기록층(2)의 잔존산소는 가열에 의하여 표면에 확산시킨 후 스퍼터링 에칭에 의해 제거하는 방법으로서 본 발명에 의한 광자기기기록매체는 시간의 경과에 따라 자기특성이 열화되지 않았다.

제3도는 본 발명에 의한 광자기기록매체의 자기특성의 변화를 보인 도표로서, 이 도표에 표시된 바와 같이 초기 보자력 HC(o)과 소정 시간 경과 후의 보자력 HC(t)의 비(比)가 본 발명에 의한 광자기 디스크는 큰 변화가 없음을 알수 있다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 매체중에 존재하는 잔존산소를 열처리 및 에칭으로 제거함으로써 종래의 디스크 구조에서 흔히 일어나는 희토류 원소의 선택적 산화에 의한 디스크 특성의 열화를 방지할 수 있는 것으로 고품질, 고신뢰성의 디스크를 제공할 수 있는 것이다.

Claims (3)

1. 기판의 상면에 보호층, 기록층 및 보호층을 순차적으로 형성하되, 상기 기록층과 적어도 한쪽의 보호층 사이에 산화층을 형성하여서 된 것을 특징으로 하는 광자기기록매체.
2. 기판에 보호층을 형성하는 공정과, 상기 보호층에 기록층을 형성하는 공정과, 상기 기록층과 그 양쪽에 형성되는 보호층의 경계면 중 적어도 한쪽 경계면을 진공조 내부에서 증착 후 가열하여 기록층 또는 보호층의 잔존산소 확산에 의하여 두께 5~500Å의 범위로 희토류 원소의 산화층을 형성하는 공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 광자기기록매체의 제조방법.
3. 제2항에 있어서, 상기 산화층을 스퍼터링 에칭에 의하여 5~50Å의 두께만큼 제거함을 특징으로 하는 광자기기록매체의 제조방법.

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