JPH0388747A - 金属被覆光ファイバの製造方法 - Google Patents

金属被覆光ファイバの製造方法

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JPH0388747A
JPH0388747A JP1221832A JP22183289A JPH0388747A JP H0388747 A JPH0388747 A JP H0388747A JP 1221832 A JP1221832 A JP 1221832A JP 22183289 A JP22183289 A JP 22183289A JP H0388747 A JPH0388747 A JP H0388747A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、金属被覆光ファイバの製造方法に関するもの
である。
〔従来技術とその課題〕
例えば原子カプラントや化学プラント等において、高温
になる箇所に光ファイバを布設して情報伝送を行う場合
、光ファイバとしては通常の石英ガラス光ファイバの上
に金属被膜を形成して耐熱性を向上させたものを使用す
ることが多い。
また光ファイバの強度を向上させる目的で金属被膜を設
ける場合もある。
この種の金属被覆光ファイバとしては、光フアイバ上に
例えばアルミニウムからなる金属被膜を設けたものが公
知である（昭和５９年電子通信学会総合全国大会論文集
４−２０７頁）、このアルミニウム被覆光ファイバは、
線引後の光ファーｆバを溶融アルミニウム浴槽内に通し
てアルミニウム被膜を形成する、いわゆるディッピング
法により製造されるゆ しかしディッピング法では、光フアイバ表面に付着した
溶融アルミニウムが冷却されて固化する際に、石英ガラ
ス製の光ファイバの線膨張係数が０．４Ｘ１０−”／’
Ｃであるのに対し、アルミニウムのそれは２９ＸＩＯ−
’／’Ｃと、光ファイバの約７０倍にもなっているため
、アルミニウム被膜が収縮して内部の光ファイバがマイ
クロヘンドを起こし、初期の伝送損失が増加するという
問題がある。この問題はアルミニウム被覆光ファイバに
限らず、ディッピング法で製造される金属被覆光ファイ
バ一般にいえることである。
またディッピング法によらない方法としては、光フアイ
バ上に無電解メッキ法により金属被膜を形成して金属被
覆光ファイバを製造することも公知である　（特開昭５
１−５４４４５号公報）。
しかしながら無電解メッキによる方法は金属被膜の形成
速度が遅いため、必要な厚さの金属被膜を形成するには
光ファイバとメッキ液を長時間接触させる必要があり、
この間に光ファイバが水素や水分を吸収してしまい、光
ファイバの伝送損失が増加するという欠点がある。
〔課題の解決手段とその作用〕
本発明は、上記のような課題を解決した金属被覆光ファ
イバの製造方法を提供するもので、その方法は、光フア
イバ上にカーボン被膜を設けたカーボン被覆光ファイバ
上に、無電解メッキ法により金属被膜を形成することを
特徴とするものである。
最近、線引直後の光ファイバにアモルファスカーボン等
のカーボン被膜を形成することが検討されているが、カ
ーボン被膜は緻密で水素や水分を通し難いため、これを
光フアイバ上に設けた上で興電解メッキを施すと、光フ
ァイバとメッキ液が長時間接触しても光ファイバへの水
素や水分の侵入を防止できる。この場合のカーボン被膜
の厚さは３００〜千数百人程度である。もちろん高温に
加熱しないためディッピング法のような金属被膜の収縮
による初期ロスの増加もない。
なお無電解メッキ法のみでは必要な厚さの金属被膜を形
成するのに時間がかかるので、無電解メッキ法により金
属被膜を形成して光フアイバ表面の導電性を向上させた
上で、さらに電解メッキ法により金属被膜を形成するよ
うにすると、効率よく金属被覆光ファイバを製造するこ
とができる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を詳述する。
まず図−１に示すように、光フアイバ母材（本実施例で
はシングルモード用を使用）　Ｌを通常の方法により線
引炉２に導入し５て、例えば線引張力２０ｇ、線速３０
０ｍ／分で線引し、コアとクラッドからなる光ファイバ
３を製造する。続いて線引直後の光ファイバ３を反応炉
４に導入して、その表面に厚さ約５００人のアモルファ
スカーボン被膜を形成し、外径１２５μ−のカーボン被
覆光ファイバ５を製造した。形成されたカーボン被膜の
電気抵抗はＩＯＫΩ／Ｃ−であった。
なお光フアイバ３上にカーボン被膜を形成するには、前
記反応炉４内にヘリウム等の不活性ガスと共に炭化水素
ガス（例えばＣオＨｚ）を流し、これを反応炉４内で数
百℃に加熱することにより形成することができる。もち
ろんこれ以外の方法で形成しても差し支えない。
アモルファスカーボン被膜はきわめて緻密であり一手で
しごいても全く剥離するようなことがなく、これを設け
ると光ファイバの表面に傷がつくことがないので、その
ままボビンに巻き取ることができる。
以上のようにして得られたカーボン被覆光ファイバに、
次のようにして金属被膜を形成した。
実施例１ ■クリーニング：カーボン被覆光ファイバをクリーニン
グ剤Ｚ−２００（ワールドメタル■製、以下の処理剤は
すべて同社製）を２００ｓ　１　／　１２含む水溶液に
５０℃で２分間浸漬。
■水洗 ■エツチング：３６％１（ＣＩ　２００ｍ　Ａ　／　＋
２に添加剤ＭＣ−Ｅを２００ｍ　ｊ！　／　ｉｔ加えた
水溶液に常温で３０秒間浸漬。
■水洗 ■活性化−■：活性化剤ＭＣ−３を２００１１１わ９含
む水溶液に５０℃で２分間浸漬。
■水洗 ■活性化−■：活性化剤ＭＣ−Ａを２００ｍ　Ａ　／　
１含む水溶液に５０℃で２分間浸漬。
■水洗 ■Ｎ１メフキ：Ｎ１−Ｐメッキ濃厚液ＭＮ−８を２００
ｍ　ｊ！　／　ｅに希釈したＮ１−Ｐ無電解メッキ液に
９０℃で５時間浸漬。
［相］水洗 ■湯洗 ■乾燥 以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上に厚さ約１１０
０ｊＪのＮｉ被膜を有する金属被覆光ファイバを製造し
た。
実施例２ 実施例１の■〜■の工程後、次の工程を実施。
■Ｎｉ　メンキ：Ｎ１−Ｐメッキ濃厚液ＭＳ−Ｂを２０
０ｍ　ｌ　／　ｌに希釈したＮ１−Ｐ無電解メッキ液に
９０℃で３０分間浸漬。
［株］水洗 ■Ｃｕメッキ：ＭＣ１，＞Ｈ浴（銅無電解メ・ツキ浴で
、銅イオン補給剤Ｍ　ＣＵ　−Ａ　Ｈを１２５ｍ　Ｉｔ
　／　ｅ、還元剤→−錯化剤ＭＣＵ−ＢＨを１２５慣ｌ
／７！含む水溶液）に７０℃で２時間浸漬。
■水洗 ０湯洗 ［相］乾燥 以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上に厚さ約１０μ
暮のＮｉ被膜と、厚さ約１０μ−のＣｕ被膜を有する金
属被覆光ファイバを製造した。
実施例３ 実施例１の■〜■の工程後、実施例２のの）の工程を施
し、水洗後、さらに光沢硫酸銅メッキ（電解メッキ）に
より厚さ約１００μｍのＣｕを被覆し、水洗−場洗一乾
燥した。
以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上にＣｕ被膜を有
する金属被覆光ファイバを製造した。
実施例４ 実施例２の＠の工程の後、青化浴銀メッキ（電解メッキ
）により厚さ約５０μ−のＡｇを被覆し、水洗−場洗一
乾燥した。
以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上にＮｉ被膜とＡ
ｇ被膜を有する金属被覆光ファイバを製造した。
実施例５ 実施例３の光沢硫酸銅メッキにより厚さ約ｊＯμｍのＣ
ｕを被覆した後、水洗し、さらに青化浴金メッキ（電解
メッキ）により厚さ約２μｍのＡｕを被覆し、水洗−場
洗一乾燥した。
以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上にＮｉ被膜とＣ
ｕ被膜とＡｕ被膜を有する金属被覆光ファイバを製造し
た。
比較例１ カーボン被覆光ファイバのまま（カーボン被膜の厚さ５
００人） 比較例２ カーボン被覆光ファイバで、カーボン被膜の厚さを６μ
ｍにしたもの。
以上のようにして得られた各試料につき初期の伝送損失
をカットバック法にて測定した結果は次のとおりである
。
表−１ なお比較例１・２の伝送損失は、プラスチックコーティ
ング標準光ファイバの伝送損失と同しであった。
このように本発明の製造方法で得られた金属被覆光ファ
イバは、無電解メッキ工程を経ているにも関わらず、伝
送損失がほとんど劣化しないことが明らかである。
次に各試料につき、直径５ｎ＋ｎの曲げ試験と、空気中
での耐熱試験（７００℃×２４時間）を行った。その結
果を表−２に示す。
表−２ このように本発明の製造方法で得られる金属被覆光ファ
イバは、耐屈曲性、ｉｔ熱性にも優れている。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、光ファイバとにカ
ーボン被膜を設けた上で、＠電解メノキ法により金属被
膜を形成するようにしたので、無電解メッキの際に、光
ファイバへの水素や水分の侵入がカーボン被膜によって
阻止され、伝送特性の安定した金属被覆光ファイバを製
造することができる。また高温に加熱しないためディッ
ピング法のような金属被膜の収縮による初期ロスの増加
も回避できる。また無電解メッキ法で形成した金属被膜
を利用して電解メッキ法によりさらに金属被膜を形成す
れば、効率よく必要な厚さの金属被膜を形成できる利点
がある。
【図面の簡単な説明】
図−１はカーボン被覆光ファイバの製造方法を示す説明
図である。 １；光フアイバ母材、３：光ファイバ、５：カーボン被
覆光ファイバ。 図− 光フアイバ母材 ＼

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、光ファイバ上にカーボン被膜を設けたカーボン被覆
    光ファイバ上に、無電解メッキ法により金属被膜を形成
    することを特徴とする金属被覆光ファイバの製造方法。 ２、請求項１の製造方法で得られた金属被覆光ファイバ
    上に、さらに電解メッキ法により金属被膜を形成するこ
    とを特徴とする金属被覆光ファイバの製造方法。
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