JPH038793A - 分子線エピタキシ装置 - Google Patents

分子線エピタキシ装置

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JPH038793A
JPH038793A JP14296189A JP14296189A JPH038793A JP H038793 A JPH038793 A JP H038793A JP 14296189 A JP14296189 A JP 14296189A JP 14296189 A JP14296189 A JP 14296189A JP H038793 A JPH038793 A JP H038793A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
molecular beam
shutter
beam source
molecular
source
Prior art date
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Pending
Application number
JP14296189A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroki Kawada
洋揮 川田
Nushito Takahashi
主人 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP14296189A priority Critical patent/JPH038793A/ja
Publication of JPH038793A publication Critical patent/JPH038793A/ja
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜成長法の−っである分子線エピタキシ装置
に係わり、特に、同じ原料を複数の分子線源に装着して
、それらを連続的に一つずつ運転していくような1分子
線エピタキシ装置に関する。
〔従来の技術〕
近年、HE M T ()Iigh Electron
 MobilityTransistor)などの素子
が、分子線エピタキシ装置によって大量生産されている
。現在、生産に使われている装置では、分子線源に充填
された原料がなくなったり、分子線源が故障したりする
と。
原料の補充や分子線源の管理のために、成長室を大気開
放している。−旦、大気開放した真空槽を超高真空に排
気するためには、真空槽をベーキングしなければならな
いので、装置の稼動率を上げるためには、なるべく大気
開放の頻度を低くしなければならない。
そこで、一つの対策として、同じ原料(特にガリウムや
ヒ素)を複数の分子線源に装着して、それらを連続的に
一つずつ運転していく方式が採られている。しかし、装
置に多数の分子線源を取付けねばならず、また、それぞ
れの分子線源に、シャッタを一つずつ設けているので、
装置が大型化している。
そこで、シャッタの数を減らすために、特開昭53−9
1573号公報に記載されているように、一つのシャッ
タと一つのコリメータ板を設けて、複数の分子線源を開
閉する方式が考案されている。
また、特開昭63−204712号公報に記載されてい
るように1分子線源を円周上に配置し1円の中心点を通
る軸を中心に回転するような大きな円盤状のシャッタを
設けて、複数の分子線源を開閉する方式も考案されてい
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
特開昭53−91573号公報に記載されている従来技
術では、シャッタの他にコリメータ板を設けねばならな
いので、装置の構造が複雑になり、装置が大型化する。
また、特開昭63−204712号公報に記載されてい
る従来技術では、シャッタが大型化するため、装置が大
型化するだけでなく、シャッタの動作速度が遅くなる。
本発明の目的は、シャッタの数を減らして、装置を小型
化することにある。また、そのシャッタを小さくして、
動作速度を速くすることにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、シャッタに、それが回転すると、一つある
いは複数の分子線源からの分子線を透過させると同時に
、他の分子線源からの分子線を遮るような、切欠部を設
けることにより達成される。
また、複数の分子線源を複数の組に分け、その組ごとに
、一つのシャッタを設けることにより達成される。
〔作用〕
シャッタを適当な位置へ回転させると、一つあるいは複
数の分子線源からの分子線を透過させると同時に、他の
分子線源からの分子線を遮る。このようにすると、複数
の分子線源に対し、一つのシャッタを設けるだけで良い
ので、装置を小型化することができる。
また、複数の分子線源を複数の組に分け、その組ごとに
、一つのシャッタを設けるようにすると、シャッタの数
を少なく出来るので、装置がlJS型化できる。また、
シャッタが小型化できるので1分子線源の開閉動作が速
くなる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。
シャツタ板11は、シャツタ軸12を中心に回転する。
シャツタ板11の切欠部が、分子線源の正面にくると、
その分子線源から照射される分子線のみが透過して、基
板上に到達し、他の分子線源の分子線は遮られて到達し
ない。それぞれの分子線源には1例えば、ガリウムなど
の消費量の多い原料が装着されている。この場合、少な
くとも一つの分子線源を運転して分子線を照射し、他の
分子線源は予備として、運転しない。よって、運転しな
い分子線源は、常にシャッタで閉じておけば良い。例え
ば1分子線源A  13の分子線のみを透過させるとき
には、第1図に示されるような位置にシャツタ板11を
回転する。すべての分子線源の分子線を遮るときには、
第2図に示されるような位置にシャツタ板11を回転す
る。分子線源B  14は予備なので、常にシャッタで
閉じられている。
もちろん、分子線源の数は、いくつでも良い。
たとえば、第3図のように、三つの分子線源31に一つ
のシャツタ板11を設けてもよい。また、切欠部を広く
すると、−度に、隣合う二つの分子線源から分子線を照
射させることも出来る。
また、シャツタ板11を、例えば、ステッピングモータ
で駆動すると、回転の角度や位置をコンピュータで制御
できるので、装置の自動化に都合が良い。
以上のようにすると、一つのシャッタで、複数の゛分子
線源のうち、特定の分子線源を開け、他の分子線源を閉
じることができるので、装置を小型化できる。
また、複数の分子線源を複数の組に分け、その組ごとに
、一つのシャッタを設けた例を第4図で説明する。
第4図は、基板の裏面40側から見た、シャッタと分子
線源の配置図である。Ga、AM、As。
Siの分子線源は、それぞれ二つずつある。結晶成長時
には、二つのうち一つを運転し、もう一つは予備機とし
て運転しない。第4図では、運転中のGa、AQ、As
、Siのそれぞれの分子線源41.43,45.47が
結晶成長に使用されており、予備のG a I A Q
 、A s + S 主のそれぞれの分子線源42,4
4.46.48は運転されていない。運転中のAQの分
子線源43はシャツタ板11で閉じられており、運転中
のGa、As。
Siのそれぞれの分子411j9f41,45.47は
閉じられていないので、基板の表面に、Siがドーピン
グされたGaAsの結晶が成長している。
このような装置構造にすると、シャッタの数を少なく出
来るので、装置が小型化できる。また、シャッタが小型
化できるので、分子線源の開閉動作が速くなる効果があ
る。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明は、一つのシャッタで、複数
の分子線源のうち、特定の分子線源を開け、他の分子線
源を閉じることができるので、装置を小型化できるとい
う効果がある。また、シャッタが比較的小さいので、分
子線源の開閉動作が速くなるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の外観図、第2図は、第1図
において、二つの分子線源の両方を閉じたときの上面図
、第3図は三つの分子線源の一つのシャッタを設けた上
面図、第4図は基板の裏面側から見た。シャッタと分子
線源の配置図である。 11・・・シャツタ板、12・・・シャツタ軸、13・
・・分子線源A、14・・・分子線源B、31・・・分
子1源。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、複数の分子線源と、分子線源より照射される分子線
    を遮るためのシャッタより成る分子線エピタキシ装置に
    おいて、シャッタが回転すると、一つあるいは複数の分
    子線源からの分子線を透過させると同時に、他の分子線
    源からの分子線を遮ることが出来るような切欠部を、シ
    ャッタに設けたことを特徴とする分子線エピタキシ装置
JP14296189A 1989-06-07 1989-06-07 分子線エピタキシ装置 Pending JPH038793A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14296189A JPH038793A (ja) 1989-06-07 1989-06-07 分子線エピタキシ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14296189A JPH038793A (ja) 1989-06-07 1989-06-07 分子線エピタキシ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH038793A true JPH038793A (ja) 1991-01-16

Family

ID=15327688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14296189A Pending JPH038793A (ja) 1989-06-07 1989-06-07 分子線エピタキシ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH038793A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001289977A (ja) * 2000-03-17 2001-10-19 Eta Sa Fab Ebauches 特に計時器などの携帯用物体へのデータのロードおよび携帯用物体からのデータの抽出を行うための手段

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001289977A (ja) * 2000-03-17 2001-10-19 Eta Sa Fab Ebauches 特に計時器などの携帯用物体へのデータのロードおよび携帯用物体からのデータの抽出を行うための手段

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