JPH038737A - 光ファイバ用母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ用母材の製造方法Info
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- JPH038737A JPH038737A JP14327089A JP14327089A JPH038737A JP H038737 A JPH038737 A JP H038737A JP 14327089 A JP14327089 A JP 14327089A JP 14327089 A JP14327089 A JP 14327089A JP H038737 A JPH038737 A JP H038737A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ca茶業上利用分野〕
本発明は光ファイバ用母材の製造方法、特にはグレーテ
ッドインデックス型、シングルモード型、または高NA
用光ファイバの製造に有用とされる光ファイバ用母材の
製造方法に関するものである。
ッドインデックス型、シングルモード型、または高NA
用光ファイバの製造に有用とされる光ファイバ用母材の
製造方法に関するものである。
[従来の技術]
光ファイバ用母材の製造はけい素化合物とゲルマニウム
化合物とからなるガラス原料をガス状で酸水素火炎バー
ナーに導入し、ここでの加水分解で生成したガラス微粒
子を担体上に堆積させて軸方向に成長した多孔質ガラス
母材を作り、これを加熱し透明ガラス化するという方法
(以下VAD法と略記する)によって行なわれており、
この場合、けい素化合物として四塩化けい素、ゲルマニ
ラム化合物として四塩化ゲルマニウムを使用し、多孔質
ガラス母材の底面の形状と温度分布をコントロールする
とこのゲルマニウムによってドープされた光ファイバ用
母材の屈折率分布はほぼ2乗分布となる。
化合物とからなるガラス原料をガス状で酸水素火炎バー
ナーに導入し、ここでの加水分解で生成したガラス微粒
子を担体上に堆積させて軸方向に成長した多孔質ガラス
母材を作り、これを加熱し透明ガラス化するという方法
(以下VAD法と略記する)によって行なわれており、
この場合、けい素化合物として四塩化けい素、ゲルマニ
ラム化合物として四塩化ゲルマニウムを使用し、多孔質
ガラス母材の底面の形状と温度分布をコントロールする
とこのゲルマニウムによってドープされた光ファイバ用
母材の屈折率分布はほぼ2乗分布となる。
[発明により解決されるべき課題]
しかし、このVAD法ではガス状のガラス原料の加水分
解によって生成したガラス微粒子が多孔質ガラス母材の
底面を通り外周直胴部に沿って排気されるために、外周
部にゲルマニウムの濃度分布に異常が生じ、この屈折率
分布が第2図の点線で示したようにスソ引きするように
なり、実線に示したような完全な2乗分布を示さなくな
るという不利が生じ、このような光ファイバ用母材から
製造された光ファイバはグレーテッドインデックス型や
高NA型においては広帯域化が困難となり、シングルモ
ード型ではファイバ設計ができなくなるという欠点が生
ずる。
解によって生成したガラス微粒子が多孔質ガラス母材の
底面を通り外周直胴部に沿って排気されるために、外周
部にゲルマニウムの濃度分布に異常が生じ、この屈折率
分布が第2図の点線で示したようにスソ引きするように
なり、実線に示したような完全な2乗分布を示さなくな
るという不利が生じ、このような光ファイバ用母材から
製造された光ファイバはグレーテッドインデックス型や
高NA型においては広帯域化が困難となり、シングルモ
ード型ではファイバ設計ができなくなるという欠点が生
ずる。
そのため、この種の光ファイバ用母材については多孔質
ガラス母材の製造工程と焼結工程でこの屈折率分布を調
整する方法が採られており、これについては多孔質ガラ
ス母材の製造工程において、多孔質ガラス母材の外周部
に不活性ガスや酸素ガスを吹き付ける方法(特開昭54
−116429号公報参照)が知られているが、これに
は多孔質ガラス母材の外周部の温度低下によって多孔質
ガラス母材のかさ密度が低くなるために、多孔質ガラス
母材が割れ易くなり、その製造が安定しなくなるという
不利があり、多孔質ガラス母材を焼結するときに脱水を
兼ねてCR2などのハロゲンガスで処理して四塩化ゲル
マニウムを蒸発除去する方法、ゲルマニウムを一酸化炭
素、水素などの還元性ガスを用いて一酸化ゲルマニウム
として気化除去する方法も知られているが、Cβ2ガス
を用いる場合は反応が遅く、Cβ2ガスが多孔質ガラス
母材の中心部まで拡散されるために外周部のゲルマニウ
ムだけを効率的に除去するのが難しく、−酸化炭素、水
素などの還元性ガスを用いる場合には反応が非常に速く
進むために拡散部分でゲルマニウムが除去され、拡散部
のゲルマニウムの分布に極端な段差が生じるという欠点
があり、さらにこの−酸化炭素、水素の添加は石英に構
造欠陥を与えるという不利もある。
ガラス母材の製造工程と焼結工程でこの屈折率分布を調
整する方法が採られており、これについては多孔質ガラ
ス母材の製造工程において、多孔質ガラス母材の外周部
に不活性ガスや酸素ガスを吹き付ける方法(特開昭54
−116429号公報参照)が知られているが、これに
は多孔質ガラス母材の外周部の温度低下によって多孔質
ガラス母材のかさ密度が低くなるために、多孔質ガラス
母材が割れ易くなり、その製造が安定しなくなるという
不利があり、多孔質ガラス母材を焼結するときに脱水を
兼ねてCR2などのハロゲンガスで処理して四塩化ゲル
マニウムを蒸発除去する方法、ゲルマニウムを一酸化炭
素、水素などの還元性ガスを用いて一酸化ゲルマニウム
として気化除去する方法も知られているが、Cβ2ガス
を用いる場合は反応が遅く、Cβ2ガスが多孔質ガラス
母材の中心部まで拡散されるために外周部のゲルマニウ
ムだけを効率的に除去するのが難しく、−酸化炭素、水
素などの還元性ガスを用いる場合には反応が非常に速く
進むために拡散部分でゲルマニウムが除去され、拡散部
のゲルマニウムの分布に極端な段差が生じるという欠点
があり、さらにこの−酸化炭素、水素の添加は石英に構
造欠陥を与えるという不利もある。
[課題を解決するための手段]
本発明はこのような不利、欠点を除去した光ファイバ用
母材の製造方法に関するものであり、これはけい素化合
物とゲルマニウム化合物よりなるガラス原料を酸水素火
炎バーナーで加水分解し、生成したガラス微粒子を担体
上に堆積して軸方向に成長した多孔質ガラス母材を作り
、ついでこれを加熱処理して透明ガラス化する光ファイ
バ母材の製造方法において、該バーナーに隣接して第2
のバーナーを設けてここに塩素−水素炎を発生させ、こ
れを該多孔質ガラス母材の外周に吹き付けて該光ファイ
バ母材の屈折率分布を調節することを特徴とするもので
ある。
母材の製造方法に関するものであり、これはけい素化合
物とゲルマニウム化合物よりなるガラス原料を酸水素火
炎バーナーで加水分解し、生成したガラス微粒子を担体
上に堆積して軸方向に成長した多孔質ガラス母材を作り
、ついでこれを加熱処理して透明ガラス化する光ファイ
バ母材の製造方法において、該バーナーに隣接して第2
のバーナーを設けてここに塩素−水素炎を発生させ、こ
れを該多孔質ガラス母材の外周に吹き付けて該光ファイ
バ母材の屈折率分布を調節することを特徴とするもので
ある。
すなわち、本発明者らはゲルマニウムの屈折率分布が2
乗分布を示す光ファイバ用母材の製造方法について種々
検討した結果、公知のVAD法による光ファイバ用母材
の製造方法において、けい素化合物とゲルマニウム化合
物とからなるガス状のガラス原料を酸水素火炎で加水分
解させて得たガラス微粒子を堆積させて多孔質ガラス母
材を作ったのち、この多孔質ガラス母材の外周に第2の
バーナーによって塩素−水素炎を発生させ、この塩素−
水素炎をその外周部に吹き付けると多孔質ガラス母材の
外周温度を低下させずにゲルマニウムによる屈折率分布
が第2図の実線で示したように2乗分布のスソ引きがな
くなることを見出すと共に、これについては第1のバー
ナーと同じ第3のバーナーを設けてここで発生したガラ
ス微粒子を上記で塩素−水素炎を吹き付けた多孔質ガラ
ス母材の外周部に堆積させれば、このスソ引きが完全に
解決されたコア、クラッドからなる光ファイバ用母材を
一体で合成することができることを確認して本発明を完
成させた。
乗分布を示す光ファイバ用母材の製造方法について種々
検討した結果、公知のVAD法による光ファイバ用母材
の製造方法において、けい素化合物とゲルマニウム化合
物とからなるガス状のガラス原料を酸水素火炎で加水分
解させて得たガラス微粒子を堆積させて多孔質ガラス母
材を作ったのち、この多孔質ガラス母材の外周に第2の
バーナーによって塩素−水素炎を発生させ、この塩素−
水素炎をその外周部に吹き付けると多孔質ガラス母材の
外周温度を低下させずにゲルマニウムによる屈折率分布
が第2図の実線で示したように2乗分布のスソ引きがな
くなることを見出すと共に、これについては第1のバー
ナーと同じ第3のバーナーを設けてここで発生したガラ
ス微粒子を上記で塩素−水素炎を吹き付けた多孔質ガラ
ス母材の外周部に堆積させれば、このスソ引きが完全に
解決されたコア、クラッドからなる光ファイバ用母材を
一体で合成することができることを確認して本発明を完
成させた。
つぎにこれをさらに詳述する。
[作 用]
本発明による光ファイバ用母材の製造は基本的にはVA
D法で行なわれる。
D法で行なわれる。
したがって、この光ファイバ用母材の製造はまず第1図
に示したように、四塩化けい素などのけい素化合物と四
塩化ゲルマニウムなどのゲルマニウム化合物とからなる
ガラス原料をガス状として第1のバーナー1としての酸
水素火炎バーナーに送り、ここでの加水分解で発生した
ガラス微粒子を担体(図示せず)上に堆積して多孔質ガ
ラス母材2を形成させるのであるが、このようにして得
られる多孔質ガラス母材のゲルマニウムの屈折率分布は
第2図に点線で示したようにスソ引き部があるので、こ
れについては第2のガスバーナー3を用意してこれに塩
素−水素炎を発生させて、この塩素−水素炎をここに得
られた多孔質ガラス母材の外周面4に吹き付けてこのゲ
ルマニウムの屈折率分布のスソ引き部を消滅させる必要
がある。
に示したように、四塩化けい素などのけい素化合物と四
塩化ゲルマニウムなどのゲルマニウム化合物とからなる
ガラス原料をガス状として第1のバーナー1としての酸
水素火炎バーナーに送り、ここでの加水分解で発生した
ガラス微粒子を担体(図示せず)上に堆積して多孔質ガ
ラス母材2を形成させるのであるが、このようにして得
られる多孔質ガラス母材のゲルマニウムの屈折率分布は
第2図に点線で示したようにスソ引き部があるので、こ
れについては第2のガスバーナー3を用意してこれに塩
素−水素炎を発生させて、この塩素−水素炎をここに得
られた多孔質ガラス母材の外周面4に吹き付けてこのゲ
ルマニウムの屈折率分布のスソ引き部を消滅させる必要
がある。
この第2のバーナーによる塩素−水素炎の作用は
H2+CR2→ 2HC1’ ・・・
(1)GeO□+ 4HCj! −GeC114+
2)120 = (2)Ge02+ 2CJ)2 −
GeCp、+ 02 − (3)という反応
(1)〜(3)によって多孔質ガラス母材外周部におい
て温度を低下させることなく、原料炎中の未反応四塩化
ゲルマニウムの加水分解によるゲルマニウム酸化物の生
成を抑制すると共に、ゲルマニウム酸化物を四塩化ゲル
マニウムとして容易に蒸発させるので、多孔質ガラス母
材におけるゲルマニウムの屈折率分布においてスソ引き
部を形成している6e02がなくなってゲルマニウムG
em、の屈折率分布が第2図に実線で示したようなスソ
引き部のない最適な2乗分布を示すようになる。
(1)GeO□+ 4HCj! −GeC114+
2)120 = (2)Ge02+ 2CJ)2 −
GeCp、+ 02 − (3)という反応
(1)〜(3)によって多孔質ガラス母材外周部におい
て温度を低下させることなく、原料炎中の未反応四塩化
ゲルマニウムの加水分解によるゲルマニウム酸化物の生
成を抑制すると共に、ゲルマニウム酸化物を四塩化ゲル
マニウムとして容易に蒸発させるので、多孔質ガラス母
材におけるゲルマニウムの屈折率分布においてスソ引き
部を形成している6e02がなくなってゲルマニウムG
em、の屈折率分布が第2図に実線で示したようなスソ
引き部のない最適な2乗分布を示すようになる。
なお、この塩素−水素炎を形成する塩素/水素のモル比
は上記した式(1)によるH Cf!の形成、(3)式
によるCR2の存在が必要とされることから1.0以下
では充分な効果が得られなくなるので1.0以上とする
ことがよいが、このC2□、H2の供給量はゲルマニウ
ムをドープした多孔質ガラス母材の外径に応じて適宜遭
訳すればよい。
は上記した式(1)によるH Cf!の形成、(3)式
によるCR2の存在が必要とされることから1.0以下
では充分な効果が得られなくなるので1.0以上とする
ことがよいが、このC2□、H2の供給量はゲルマニウ
ムをドープした多孔質ガラス母材の外径に応じて適宜遭
訳すればよい。
また、このように塩素−水素炎で処理した多孔質ガラス
母材は上記したようにゲルマニウムの屈折率分布が最適
の2乗分布を示したものとなるので、これを1,100
℃で脱水後、1.450℃のヘリウム雰囲気中で透明ガ
ラス化すればゲルマニウムの屈折率分布が2乗分布を示
す光ファイバ用母材とすることができる。また、この多
孔質ガラス母材については第3図に示したように第1の
バーナー1と同じ酸水素火炎バーナーを用意し、この第
3のバーナー5にガス状のガラス原料であるけい素化合
物を供給し、この酸水素火炎による加水分解でガラス微
粒子を発生させてこれを多孔質ガラス母材の外周部に堆
積させることができ、これによればスソ引きのない屈折
分布をもったコアとクラッドの一体合成が可能となるの
で、これを脱水し、透明ガラス化すればより確実にゲル
マニウムの屈折率分布が2乗分布である光ファイバ用母
材を得ることができ、この光ファイバ用母材からはグレ
ーテッドインデックス型、シングルモード型、高NA型
光ファイバを容易に得ることができるという有利性が与
えられる。
母材は上記したようにゲルマニウムの屈折率分布が最適
の2乗分布を示したものとなるので、これを1,100
℃で脱水後、1.450℃のヘリウム雰囲気中で透明ガ
ラス化すればゲルマニウムの屈折率分布が2乗分布を示
す光ファイバ用母材とすることができる。また、この多
孔質ガラス母材については第3図に示したように第1の
バーナー1と同じ酸水素火炎バーナーを用意し、この第
3のバーナー5にガス状のガラス原料であるけい素化合
物を供給し、この酸水素火炎による加水分解でガラス微
粒子を発生させてこれを多孔質ガラス母材の外周部に堆
積させることができ、これによればスソ引きのない屈折
分布をもったコアとクラッドの一体合成が可能となるの
で、これを脱水し、透明ガラス化すればより確実にゲル
マニウムの屈折率分布が2乗分布である光ファイバ用母
材を得ることができ、この光ファイバ用母材からはグレ
ーテッドインデックス型、シングルモード型、高NA型
光ファイバを容易に得ることができるという有利性が与
えられる。
[実施例]
つぎに本発明の実施例および比較例をあげる。
実施例1
第1図に示した装置を使用し、この第1のバーナーに水
素4 、511/分、酸素6.!l/分、シールアルゴ
ン1.017分を送入して着火し、この酸水素火炎バー
ナーにアルゴンに同伴させた四塩化けい素0.2II+
7分、四塩化ゲルマニウム0.02N/分を流し、ここ
での加水分解で発生したガラス微粒子を担体としての石
英製ロンド上に堆積して外周にゲルマニウムをドープし
た多孔質ガラス母材を作り、第2のバーナーに水素3.
OR1分、塩素5.01!/分、シールアルゴン0.7
R/分を流してここに塩素−水素炎を発生させ、この塩
素−水素炎を上記で得た多孔質ガラス母材の外周部に吹
き付けて外径60mmφ、長さ450ml11、重量2
30gの多孔質ガラス母材とJObr、この多孔質ガラ
ス母材を1,100℃に加熱して脱水し、1,450℃
のヘリウム雰囲気中で透明ガラス化して光ファイバ用母
材を作り、このもののゲルマニウムの屈折率分布をしら
べたところ、このものは第2図の実線に示したようにΔ
n□8が1.0%で外周部にゲルマニウムのスソ引き部
を有しないほぼ放物線状の2乗分布を示した。
素4 、511/分、酸素6.!l/分、シールアルゴ
ン1.017分を送入して着火し、この酸水素火炎バー
ナーにアルゴンに同伴させた四塩化けい素0.2II+
7分、四塩化ゲルマニウム0.02N/分を流し、ここ
での加水分解で発生したガラス微粒子を担体としての石
英製ロンド上に堆積して外周にゲルマニウムをドープし
た多孔質ガラス母材を作り、第2のバーナーに水素3.
OR1分、塩素5.01!/分、シールアルゴン0.7
R/分を流してここに塩素−水素炎を発生させ、この塩
素−水素炎を上記で得た多孔質ガラス母材の外周部に吹
き付けて外径60mmφ、長さ450ml11、重量2
30gの多孔質ガラス母材とJObr、この多孔質ガラ
ス母材を1,100℃に加熱して脱水し、1,450℃
のヘリウム雰囲気中で透明ガラス化して光ファイバ用母
材を作り、このもののゲルマニウムの屈折率分布をしら
べたところ、このものは第2図の実線に示したようにΔ
n□8が1.0%で外周部にゲルマニウムのスソ引き部
を有しないほぼ放物線状の2乗分布を示した。
つぎにこの光ファイバ用母材をコアとしてGIファイバ
母材を製造し、線引きしてガラスファイバとし、その評
価をしたところ、このものは0.115μmで850
MH2−Km、 1.3amで1,050MH2−1f
+という結果を示した。
母材を製造し、線引きしてガラスファイバとし、その評
価をしたところ、このものは0.115μmで850
MH2−Km、 1.3amで1,050MH2−1f
+という結果を示した。
比較例
実施例において第2のバーナーを設置せず、したがって
塩素−水素炎を多孔質ガラス母材に吹きつけることをし
なかったほかは実施例1と同じ方法で光ファイバ母材を
作り、このもののゲルマニウムの屈折率分布をしらべた
ところ、これは第2図の点線で示したようにその外周部
にゲルマニウムのスソ引き部がみられ、この母材から製
造したGIファイバ母材を線引きして得た光ファイバは
0.85tJmで340 MH2−Km 1.34
onで670 M)12−Km という結果を示した
。
塩素−水素炎を多孔質ガラス母材に吹きつけることをし
なかったほかは実施例1と同じ方法で光ファイバ母材を
作り、このもののゲルマニウムの屈折率分布をしらべた
ところ、これは第2図の点線で示したようにその外周部
にゲルマニウムのスソ引き部がみられ、この母材から製
造したGIファイバ母材を線引きして得た光ファイバは
0.85tJmで340 MH2−Km 1.34
onで670 M)12−Km という結果を示した
。
実施例2
第3図に示した装置を使用し、コア部合成用の第1のバ
ーナーに水素1,0ρ/分、酸素2.OR1分、シール
アルゴン0Ml1分を送入して着火し、この酸水素火炎
バーナーにアルゴンに同伴させた四塩化けい素を7om
R/分、四塩化ゲルマニウムを4mR1分で流し、ここ
での加水分解で発生したガラス微粒子を担体としての石
英製ロンド上に堆積して外周にゲルマニウムをドープし
た多孔質ガラス母材を作り、第2のバーナーに水素1.
54!/分、塩素2.簀/分、シールアルゴン0.6A
/分を流してここに塩素−水素炎を発生させ、この塩素
−水素炎を上記で得た多孔質ガラス母材の外周部に吹き
付けた。
ーナーに水素1,0ρ/分、酸素2.OR1分、シール
アルゴン0Ml1分を送入して着火し、この酸水素火炎
バーナーにアルゴンに同伴させた四塩化けい素を7om
R/分、四塩化ゲルマニウムを4mR1分で流し、ここ
での加水分解で発生したガラス微粒子を担体としての石
英製ロンド上に堆積して外周にゲルマニウムをドープし
た多孔質ガラス母材を作り、第2のバーナーに水素1.
54!/分、塩素2.簀/分、シールアルゴン0.6A
/分を流してここに塩素−水素炎を発生させ、この塩素
−水素炎を上記で得た多孔質ガラス母材の外周部に吹き
付けた。
ついで、第3のバーナーに水素7.OR1分、酸素10
、Off/分、シールアルゴン2.OR1分を流して着
火し、この酸水素火炎バーナーにアルゴンに同伴させた
四塩化けい素0.261’/分を流し、ここでの加水分
解で発生したガラス微粒子を上記で得た多孔質ガラス母
材の外周部に吹き付けて外径80mmφ、長さ700m
m 、重量630gであるシングルモード用の多孔質ガ
ラス母材を作った。
、Off/分、シールアルゴン2.OR1分を流して着
火し、この酸水素火炎バーナーにアルゴンに同伴させた
四塩化けい素0.261’/分を流し、ここでの加水分
解で発生したガラス微粒子を上記で得た多孔質ガラス母
材の外周部に吹き付けて外径80mmφ、長さ700m
m 、重量630gであるシングルモード用の多孔質ガ
ラス母材を作った。
つぎに、この多孔質ガラス母材を1,100℃で脱水し
、1,480℃のヘリウム雰囲気中で透明ガラス化して
光ファイバ用母材を作り、このものの屈折率分布なしら
べたところ、このものは第4図に示したように、Δn−
0J%、D/a=3.2でコア部とクラッド部の境界に
はゲルマニウムのスソ弓き部もなく明確な2乗分布を示
したので、この光ファイバ母材から製造したシングルモ
ード光ファイバはコア径が明確でこの屈折率分布からフ
ァイバのカットオフ波長などの構造設計推定が高い確率
で行なえるものであることが確認された。
、1,480℃のヘリウム雰囲気中で透明ガラス化して
光ファイバ用母材を作り、このものの屈折率分布なしら
べたところ、このものは第4図に示したように、Δn−
0J%、D/a=3.2でコア部とクラッド部の境界に
はゲルマニウムのスソ弓き部もなく明確な2乗分布を示
したので、この光ファイバ母材から製造したシングルモ
ード光ファイバはコア径が明確でこの屈折率分布からフ
ァイバのカットオフ波長などの構造設計推定が高い確率
で行なえるものであることが確認された。
[発明の効果]
本発明は前記したように、VAD法により得た多孔質ガ
ラス母材の外周部に第2のバーナーによる塩素−水素炎
を吹き付けてその屈折率分布を調節するものであるが、
これによれば塩素−水素炎で発生する塩化水素(HCl
l)および炎中の塩素(cI12)が多孔質ガラス母材
外周部での原料炎中の未反応四塩化ゲルマニウムの加水
分解反応を抑制すると共に、多孔質ガラス母材外周部の
二酸化ゲルマニウム(Gem2)と反応してこれを四塩
化ゲルマニウム(GeCI24)とし、この四塩化ゲル
マニウムが容易に蒸発するので、母材中のゲルマニウム
の屈折率分布においてスソ引き部を形成しているGeO
2がなくなり、したがってこの屈折率分布が適切な2乗
分布を示すようになるという効果が与えられる。なお、
この多孔質ガラス母材から作られた光ファイバ用母材に
は特にグレーテッドインデックス型、シングルモード型
、また高NA用光ファイバの製造に有用とされるという
工業上の有利性が与えられる。
ラス母材の外周部に第2のバーナーによる塩素−水素炎
を吹き付けてその屈折率分布を調節するものであるが、
これによれば塩素−水素炎で発生する塩化水素(HCl
l)および炎中の塩素(cI12)が多孔質ガラス母材
外周部での原料炎中の未反応四塩化ゲルマニウムの加水
分解反応を抑制すると共に、多孔質ガラス母材外周部の
二酸化ゲルマニウム(Gem2)と反応してこれを四塩
化ゲルマニウム(GeCI24)とし、この四塩化ゲル
マニウムが容易に蒸発するので、母材中のゲルマニウム
の屈折率分布においてスソ引き部を形成しているGeO
2がなくなり、したがってこの屈折率分布が適切な2乗
分布を示すようになるという効果が与えられる。なお、
この多孔質ガラス母材から作られた光ファイバ用母材に
は特にグレーテッドインデックス型、シングルモード型
、また高NA用光ファイバの製造に有用とされるという
工業上の有利性が与えられる。
第1図および第3図は本発明による多孔質ガラス母材の
製造方法を示す縦断面図、第2図は第1図の方法で作ら
れた多孔質ガラス母材のゲルマニウムの屈折率分布図、
第4図は第3図の方法で作られた多孔質ガラス母材のゲ
ルマニウムの屈折率分布図を示したものである。 1・・・第1 のバーナー 2・・・多孔質ガラス母材、 3・・・第2のバーナー 4・・・多孔質ガラス母材の外周部、 5・・・第3のバーナー 第 図 第 図 第 図 第 因
製造方法を示す縦断面図、第2図は第1図の方法で作ら
れた多孔質ガラス母材のゲルマニウムの屈折率分布図、
第4図は第3図の方法で作られた多孔質ガラス母材のゲ
ルマニウムの屈折率分布図を示したものである。 1・・・第1 のバーナー 2・・・多孔質ガラス母材、 3・・・第2のバーナー 4・・・多孔質ガラス母材の外周部、 5・・・第3のバーナー 第 図 第 図 第 図 第 因
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、けい素化合物とゲルマニウム化合物よりなるガラス
原料を酸水素火炎バーナーで加水分解し、生成したガラ
ス微粒子を担体上に堆積して軸方向に成長した多孔質ガ
ラス母材を作り、ついでこれを加熱処理して透明ガラス
化する光ファイバ母材の製造方法において、該バーナー
に隣接して第2のバーナーを設けてここに塩素−水素炎
を発生させ、これを該多孔質ガラス母材の外周に吹き付
けて該光ファイバ母材の屈折率分布を調節することを特
徴とする光ファイバ用母材の製造方法。 2、多孔質ガラス母材に塩素−水素炎を吹き付けたのち
、第3のバーナーを用いて該多孔質ガラス母材の外周に
ガラス微粒子を堆積してクラッド用多孔質ガラス層を形
成し、ついで加熱し透明ガラス化する請求項1に記載の
光ファイバ用母材の製造方法。 3、塩素−水素炎に供給する塩素/水素のモル比を1.
0以上とする請求項1または2に記載の光ファイバ用母
材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1143270A JPH0788231B2 (ja) | 1989-06-06 | 1989-06-06 | 光ファイバ用母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1143270A JPH0788231B2 (ja) | 1989-06-06 | 1989-06-06 | 光ファイバ用母材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH038737A true JPH038737A (ja) | 1991-01-16 |
JPH0788231B2 JPH0788231B2 (ja) | 1995-09-27 |
Family
ID=15334848
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1143270A Expired - Fee Related JPH0788231B2 (ja) | 1989-06-06 | 1989-06-06 | 光ファイバ用母材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0788231B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6401497B1 (en) | 1998-04-22 | 2002-06-11 | Wacoal Corp. | Garment with figure control or muscle support function |
JP2002335212A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 分散制御器 |
JP2002371453A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Asahi Kasei Corp | 経編地 |
KR100528763B1 (ko) * | 1999-02-09 | 2005-11-15 | 가부시키가이샤 와코르 | 체형보정기능이 있는 의류 |
KR100685522B1 (ko) * | 2005-12-31 | 2007-02-26 | 이철성 | 보정 속옷 |
WO2022181648A1 (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-01 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ及び光ファイバ母材の製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU768742B2 (en) * | 1998-11-02 | 2004-01-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Single-mode optical fiber and its production method |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5983953A (ja) * | 1982-11-05 | 1984-05-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
-
1989
- 1989-06-06 JP JP1143270A patent/JPH0788231B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5983953A (ja) * | 1982-11-05 | 1984-05-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6401497B1 (en) | 1998-04-22 | 2002-06-11 | Wacoal Corp. | Garment with figure control or muscle support function |
KR100528763B1 (ko) * | 1999-02-09 | 2005-11-15 | 가부시키가이샤 와코르 | 체형보정기능이 있는 의류 |
JP2002335212A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 分散制御器 |
JP2002371453A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Asahi Kasei Corp | 経編地 |
KR100685522B1 (ko) * | 2005-12-31 | 2007-02-26 | 이철성 | 보정 속옷 |
WO2022181648A1 (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-01 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ及び光ファイバ母材の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0788231B2 (ja) | 1995-09-27 |
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |