JPS60235734A - 石英系多孔質ガラス層の処理方法 - Google Patents
石英系多孔質ガラス層の処理方法Info
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- JPS60235734A JPS60235734A JP8883884A JP8883884A JPS60235734A JP S60235734 A JPS60235734 A JP S60235734A JP 8883884 A JP8883884 A JP 8883884A JP 8883884 A JP8883884 A JP 8883884A JP S60235734 A JPS60235734 A JP S60235734A
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- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業１−の利用分野）
本発明は石英系多孔質ガラス層にフッ素をドープするた
めの処理方法に関する。
めの処理方法に関する。
（従来技術）
石英系光ファイバにおけるコア・クラット相互の相対的
屈折率差、すなわち開「】数を大きくすへく、そのクラ
ンド中にフッ素をドープすることがＭＣＶＤ法、ＶＡＤ
法、ＯＶＤ法、ＰＣＶＤ法などにおいてすでに実施され
ている。
屈折率差、すなわち開「】数を大きくすへく、そのクラ
ンド中にフッ素をドープすることがＭＣＶＤ法、ＶＡＤ
法、ＯＶＤ法、ＰＣＶＤ法などにおいてすでに実施され
ている。
例えばＭＣＶＤ法、ＶＡＤ７Ｊ１、ＯＶＤ法ナトノ場合
、そのガラス合成時のフッ素分圧を高くすることにより
大ｒ銖のフッ素をドープする二「大がなされ、ＰＣＶＤ
法では特殊なフッ素化合物をドーパントとして用いるこ
とにより大量のフッ素をトープする１大かなされている
。
、そのガラス合成時のフッ素分圧を高くすることにより
大ｒ銖のフッ素をドープする二「大がなされ、ＰＣＶＤ
法では特殊なフッ素化合物をドーパントとして用いるこ
とにより大量のフッ素をトープする１大かなされている
。
しかしＰＣＶＤ法の場合、純石英に対して約２ｚも屈折
率を低下させるほど、かなり大量のフッ素がドープでき
るといわれているが、この方法には量産性がなく、一方
、量産性に優れるＶＡＤ法、ＯＶＤ法、さらに製品の品
質が高いＭＣＶＤ法などの場合、上記屈折率の低下が０
．４以下にとどまっている。
率を低下させるほど、かなり大量のフッ素がドープでき
るといわれているが、この方法には量産性がなく、一方
、量産性に優れるＶＡＤ法、ＯＶＤ法、さらに製品の品
質が高いＭＣＶＤ法などの場合、上記屈折率の低下が０
．４以下にとどまっている。
（発明の目的）
本発明は上記の問題点に鑑み、ＶＡＤ法、０■Ｄ法のこ
とき方法により作製された石英系の多孔質カラス層中に
、必要かつ十分な借のフッ素がドープできる処理方法を
１記供しようとするものである。
とき方法により作製された石英系の多孔質カラス層中に
、必要かつ十分な借のフッ素がドープできる処理方法を
１記供しようとするものである。
（発明の構成）
未発ＩＪＩ Ｊｊ法は、 −醇化ケイ素とともにガラス
形成しやすく、かつ、フン化物状態での低九発性をイｉ
する金属酸化物がドープされた石英系の多孔質カラス層
をつくり、該多孔質カラス層をフッ素含イ５雰囲気中に
て加熱処理することを特徴としている。
形成しやすく、かつ、フン化物状態での低九発性をイｉ
する金属酸化物がドープされた石英系の多孔質カラス層
をつくり、該多孔質カラス層をフッ素含イ５雰囲気中に
て加熱処理することを特徴としている。
（実 施 例）
つきに図面を参照して本発明方法の実施例を説明する。
図はＶＡＤ法により所定の石英系多孔質カラス層を作製
する例を略示したものであり、同図において、１は石英
系の多孔質ガラス棒、２はその外周に堆積形成された石
英系の多孔質ガラス層、３はＬ―記多孔質ガガラ林ｌを
形成するための多重管構造（三重管）のバーナ、４は上
記多孔質ガラス層２を形成するための多ｍ管構造（四重
管）のバーナである。
する例を略示したものであり、同図において、１は石英
系の多孔質ガラス棒、２はその外周に堆積形成された石
英系の多孔質ガラス層、３はＬ―記多孔質ガガラ林ｌを
形成するための多重管構造（三重管）のバーナ、４は上
記多孔質ガラス層２を形成するための多ｍ管構造（四重
管）のバーナである。
多孔質ガラス棒１、多孔質ガラス層２を堆積形成すると
き、八−す３の各ガス流通には気相のカラス原料、酸素
、水素がそれぞれ供給されるとともにバーナ４の各カス
流通には気相のガラス原料、気相のトープ原料、酸素、
水素がそれぞれ供給され、これらの火炎加水分解反応に
より生成された各ガラス微粒子（スート状）が図示しの
ごとく堆積されて多孔質ガラス棒１、多孔質ガラス層２
となる。
き、八−す３の各ガス流通には気相のカラス原料、酸素
、水素がそれぞれ供給されるとともにバーナ４の各カス
流通には気相のガラス原料、気相のトープ原料、酸素、
水素がそれぞれ供給され、これらの火炎加水分解反応に
より生成された各ガラス微粒子（スート状）が図示しの
ごとく堆積されて多孔質ガラス棒１、多孔質ガラス層２
となる。
［−記シこおける気相のカラス原料としては既知の５ｉ
Ｃ１，５ｉ（ＱＣ）！３）などが用いられ、−・力、ド
ープ原＃１としては二酸化ケイ素の光吸収損失を実質的
にきたさず、二酸化ケイ素ととも１こカラス形成しやす
く、しかもフッ化物状態での低蒸発性を有するハロゲン
化物、有機金属化合物などが用いられるのであり、これ
らはドーパントの状態で金属酸化物となる。
Ｃ１，５ｉ（ＱＣ）！３）などが用いられ、−・力、ド
ープ原＃１としては二酸化ケイ素の光吸収損失を実質的
にきたさず、二酸化ケイ素ととも１こカラス形成しやす
く、しかもフッ化物状態での低蒸発性を有するハロゲン
化物、有機金属化合物などが用いられるのであり、これ
らはドーパントの状態で金属酸化物となる。
ここでドーパントとしての金属醇化物をあげるとＡｌ２
Ｏ３，５ｂ２０３、ＺｒＯ２、Ｓ ｎ Ｏ２、Ｔａ２０
５． ＴｌＯ２、ＰｂＯ２、Ｎｂ２Ｏ５などがある。
Ｏ３，５ｂ２０３、ＺｒＯ２、Ｓ ｎ Ｏ２、Ｔａ２０
５． ＴｌＯ２、ＰｂＯ２、Ｎｂ２Ｏ５などがある。
したがって上記において形成された多孔質ガラス棒１は
純Ｓ、＋０２からなり、かつ、多孔質ガラス層２、はＳ
ｉ Ｑ ２と上述した一種以上のドーパントとからな
る。
純Ｓ、＋０２からなり、かつ、多孔質ガラス層２、はＳ
ｉ Ｑ ２と上述した一種以上のドーパントとからな
る。
通畠、上記多孔質ガラスｓｌと多孔質ガラス層２とから
なるものを多孔質母材などと称しているが、この多孔質
母材は石英製炉心管の外周に電気ヒータが備なえられた
既知の加熱炉を介して加熱処理されるのであり、この際
、その炉心管内で所定の雰囲気が形成される。
なるものを多孔質母材などと称しているが、この多孔質
母材は石英製炉心管の外周に電気ヒータが備なえられた
既知の加熱炉を介して加熱処理されるのであり、この際
、その炉心管内で所定の雰囲気が形成される。
以下多孔質母材の加熱処理につき説明すると、出語加熱
処理はフッ素含有雰囲気中において行なわれ、その雰囲
気はツー、素ガスまたはフッ素化合物ガスを主体にして
形成される。
処理はフッ素含有雰囲気中において行なわれ、その雰囲
気はツー、素ガスまたはフッ素化合物ガスを主体にして
形成される。
具体的にはＳＦ４． ＣＦ４． ＣＣｌ２Ｆ、、、 ５
ｉＦ４、ＢＦ３などを介してＬ記雰囲気が形成されるが
、その雰囲気中には水素化合物が存在しないのが望まし
く、ために該雰囲気中にはヘリウム、アルゴン、チン素
ガスな−と、所望の不活性ガスが混合されることがある
。
ｉＦ４、ＢＦ３などを介してＬ記雰囲気が形成されるが
、その雰囲気中には水素化合物が存在しないのが望まし
く、ために該雰囲気中にはヘリウム、アルゴン、チン素
ガスな−と、所望の不活性ガスが混合されることがある
。
フ、″ＪＩｃ含有雰囲気中においてＬ記多孔質母材を加
熱処理するとき、その雰囲気温度は７００°Ｃ以上に保
持され、この際、多孔質ガラス層２はフッ化物の状態で
蒸発しにくい、しかもニー酸化ケイ素とガラス化しやす
いドーパントを含有しているのでかなりの優のフッ素が
ドープされる。
熱処理するとき、その雰囲気温度は７００°Ｃ以上に保
持され、この際、多孔質ガラス層２はフッ化物の状態で
蒸発しにくい、しかもニー酸化ケイ素とガラス化しやす
いドーパントを含有しているのでかなりの優のフッ素が
ドープされる。
なお、この際の加熱処理を１３００°Ｃ以上で行なうと
、多孔質ガラス棒１、多孔質ガラスＮ２が透明ガラス化
できる。
、多孔質ガラス棒１、多孔質ガラスＮ２が透明ガラス化
できる。
＋ ３００ ’Ｃ以下の上記加熱処理において多孔質ガ
ラス棒ｌ、多孔質ガラス層２が未透明の状態を呈し７て
いるとき、その後の加熱処理によりこれらを透明ガラス
化すればよく、この際の加熱雰囲気は前記不活性ガスに
より形成される。
ラス棒ｌ、多孔質ガラス層２が未透明の状態を呈し７て
いるとき、その後の加熱処理によりこれらを透明ガラス
化すればよく、この際の加熱雰囲気は前記不活性ガスに
より形成される。
上述の実施例では、ＶＡＤ法により作製された多孔質ｆ
ｆｉ材の多孔質ガラスＭ２にフッ素をトープする例を示
したが、例えば既述の４沃を経て形成５れた石英系の焼
結ガラス棒、あるいは透明ガラス棒の外周にＯＶＤ法を
介して多孔質ガラス層２を形成し、これを前記と同様に
処理してもよい。
ｆｉ材の多孔質ガラスＭ２にフッ素をトープする例を示
したが、例えば既述の４沃を経て形成５れた石英系の焼
結ガラス棒、あるいは透明ガラス棒の外周にＯＶＤ法を
介して多孔質ガラス層２を形成し、これを前記と同様に
処理してもよい。
つぎに本発明方法のより具体的な実施例について説明す
る。
る。
図に示した母材形成手段において、バーナ３には気相の
カラス原料としてＳ ＋ Ｃｌ ｉを供給し、／ヘ一す
４には気相のカラス原木（としてＳ １Ｃｌ ＜を、気
相のドープ原料としてＡｌ２Ｏ３をそれぞれ供給し、こ
れらを火炎加水分解反応させることにより、それぞれ５
１０２微粒子−１ＳｉＯ，，−Ａｔ２０３微粒子を生成
して多孔質ガラス棒ｌ、多孔質ガラス層２を形成した。
カラス原料としてＳ ＋ Ｃｌ ｉを供給し、／ヘ一す
４には気相のカラス原木（としてＳ １Ｃｌ ＜を、気
相のドープ原料としてＡｌ２Ｏ３をそれぞれ供給し、こ
れらを火炎加水分解反応させることにより、それぞれ５
１０２微粒子−１ＳｉＯ，，−Ａｔ２０３微粒子を生成
して多孔質ガラス棒ｌ、多孔質ガラス層２を形成した。
つぎにｌ−記多孔質母材をフッ素含有雰囲気中で加熱処
理するとき、その雰囲気を１１ｅ１５．９＃ｍｉｎ、５
ＯＣＩ４０．ｌｕ ／１Ｉｉｎ、０２１ＪＲｍｉｎ、
５Ｆ６０．ＩＱ／ｉ＋ｉｎにより形成し、その雰囲気温
四を１４５０℃としてこれら多孔質ガラス棒ｌ、多孔質
ガラス層２をを透明カラス化した。
理するとき、その雰囲気を１１ｅ１５．９＃ｍｉｎ、５
ＯＣＩ４０．ｌｕ ／１Ｉｉｎ、０２１ＪＲｍｉｎ、
５Ｆ６０．ＩＱ／ｉ＋ｉｎにより形成し、その雰囲気温
四を１４５０℃としてこれら多孔質ガラス棒ｌ、多孔質
ガラス層２をを透明カラス化した。
］−記透明ガラス化後のガラス棒ｌはその屈折率が純イ
１英に対し−０，２ｚとなり、ガラス層２の屈折＝４＝
か純イＪ英に対し−１，０％となった。
１英に対し−０，２ｚとなり、ガラス層２の屈折＝４＝
か純イＪ英に対し−１，０％となった。
このように両力ラスｌ、２の屈折率差は０．８％にもな
り、その−力のカラス２にフッ素が充分ドープされてい
ることが確認された。
り、その−力のカラス２にフッ素が充分ドープされてい
ることが確認された。
（発明の効果）
以上説明した通り、本発明方法によるときは一酸化ケイ
素とのガラス合成易度、フッ化物状態での低蒸発性を有
する金属酢化物がトープされた石英系の多孔質カラス層
を、フッ素有雰囲気中にて加熱処理するから、量産性に
優れる方法により作製された多孔質ガラス層であっても
これに必要かつト分な畢のフッ素をドープすることがで
きる。
素とのガラス合成易度、フッ化物状態での低蒸発性を有
する金属酢化物がトープされた石英系の多孔質カラス層
を、フッ素有雰囲気中にて加熱処理するから、量産性に
優れる方法により作製された多孔質ガラス層であっても
これに必要かつト分な畢のフッ素をドープすることがで
きる。
図は本発明方法において処理対象となる多孔質カラス層
の作製状況を略示した説明図である。 ２・・・多孔質カラス層 代理人 弁理ト 斎 藤 義 雄
の作製状況を略示した説明図である。 ２・・・多孔質カラス層 代理人 弁理ト 斎 藤 義 雄
Claims (1)
- 。酸化ケイ素とともにカラスが形成しやすく、かつ、フ
ッ化物状態での低蒸発性を４１する金属酸化物がトープ
された石英系の多孔質ガラス層をつくり、該多孔質ガラ
スをフッ素含有雰囲気中において加熱処理することを特
徴とする石英系多孔質カラス層の処理力法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8883884A JPS60235734A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 石英系多孔質ガラス層の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8883884A JPS60235734A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 石英系多孔質ガラス層の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60235734A true JPS60235734A (ja) | 1985-11-22 |
Family
ID=13954091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8883884A Pending JPS60235734A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 石英系多孔質ガラス層の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60235734A (ja) |
-
1984
- 1984-05-02 JP JP8883884A patent/JPS60235734A/ja active Pending
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