JPH0385791A - 基板の反転洗浄装置 - Google Patents
基板の反転洗浄装置Info
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- JPH0385791A JPH0385791A JP22404189A JP22404189A JPH0385791A JP H0385791 A JPH0385791 A JP H0385791A JP 22404189 A JP22404189 A JP 22404189A JP 22404189 A JP22404189 A JP 22404189A JP H0385791 A JPH0385791 A JP H0385791A
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Registering Or Overturning Sheets (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔１既 要〕
プリント基板の反転可能な洗浄装置に関し、簡単な構造
で、装置の設置面積が小さいコンパクトなプリント基板
の洗浄装置を目的とし、洗浄室内に設置され、洗浄前の
基板を洗浄室中央に搬送する複数の基板搬送用ロールと
、該基板搬送用ロールに載置された基板を洗浄する基板
洗浄手段と、 基板を洗浄室出口方向に送出する複数の基板送出用ロー
ルと、 該基板送出用ロールに載置された基板を洗浄する基板洗
浄手段と、 前記基板搬送用ロールの最内側のロールと前記基板送出
用ロールの最内側のロールとの間に設置され、前記基板
搬送用ロールで搬送された基板を、持ち上げ、直立反転
可能とする基板支持台を、中心より放射状に延長して多
数配置した回転体と、前記基板支持台上に載置された基
板を洗浄する基板洗浄手段とを備えて構成する。
で、装置の設置面積が小さいコンパクトなプリント基板
の洗浄装置を目的とし、洗浄室内に設置され、洗浄前の
基板を洗浄室中央に搬送する複数の基板搬送用ロールと
、該基板搬送用ロールに載置された基板を洗浄する基板
洗浄手段と、 基板を洗浄室出口方向に送出する複数の基板送出用ロー
ルと、 該基板送出用ロールに載置された基板を洗浄する基板洗
浄手段と、 前記基板搬送用ロールの最内側のロールと前記基板送出
用ロールの最内側のロールとの間に設置され、前記基板
搬送用ロールで搬送された基板を、持ち上げ、直立反転
可能とする基板支持台を、中心より放射状に延長して多
数配置した回転体と、前記基板支持台上に載置された基
板を洗浄する基板洗浄手段とを備えて構成する。
本発明は反転機構を備えたプリント基板の洗浄装置に関
する。
する。
多層プリント基板を製造する場合、両面に導体層パター
ンを形威したエポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂よりな
る基材を、半硬化性のエポキシ樹脂よりなるシート状の
プリプレグを介してプレスして多層構造に積層する。そ
して該積層した基板にドリルを用いて開孔してスルーホ
ールを形成し、このスルーホール内を銅メンキしてスル
ーホール内導体を形成し、前記導体層パターンと接続し
て多層プリント基板を形威している。
ンを形威したエポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂よりな
る基材を、半硬化性のエポキシ樹脂よりなるシート状の
プリプレグを介してプレスして多層構造に積層する。そ
して該積層した基板にドリルを用いて開孔してスルーホ
ールを形成し、このスルーホール内を銅メンキしてスル
ーホール内導体を形成し、前記導体層パターンと接続し
て多層プリント基板を形威している。
ところでこのようなスルーホールを開孔した基板は、ド
リルで開孔するために基材の銅粉、或いは樹脂粉より成
る多量の切り粉が発生し、これを充分に洗浄して除去し
ないと、後のスルーホール内のメソキ工程に於いて支障
をきたす恐れがある。
リルで開孔するために基材の銅粉、或いは樹脂粉より成
る多量の切り粉が発生し、これを充分に洗浄して除去し
ないと、後のスルーホール内のメソキ工程に於いて支障
をきたす恐れがある。
またその他、前記基材の表面の銅箔を砥粒で研磨して該
銅箔面を粗く仕上げて、その後のパターン銅メツキ工程
で銅メツキが良好にできるような方法が採られている。
銅箔面を粗く仕上げて、その後のパターン銅メツキ工程
で銅メツキが良好にできるような方法が採られている。
この砥粒で研磨する研磨工程の後にも基板表面に付着し
た砥粒や銅粉を洗浄して除去しておかないとパターン銅
メツキが良好にできない場合がある。
た砥粒や銅粉を洗浄して除去しておかないとパターン銅
メツキが良好にできない場合がある。
従来、このような加工途中のプリント基板を洗浄する装
置として第３図に示すように、コンベアロール１を用い
て洗浄すべきプリント基板２を矢印Ａ方向に移動させな
がら、該プリント基板２の上下に設置したシャワー３よ
り３〜５Ｋｇ／ｃｍ３に加圧した水を噴射させ、この噴
射水流によってプリント基板上に付着している切り粉や
或いは砥粒等を洗浄除去していた。
置として第３図に示すように、コンベアロール１を用い
て洗浄すべきプリント基板２を矢印Ａ方向に移動させな
がら、該プリント基板２の上下に設置したシャワー３よ
り３〜５Ｋｇ／ｃｍ３に加圧した水を噴射させ、この噴
射水流によってプリント基板上に付着している切り粉や
或いは砥粒等を洗浄除去していた。
然し、このような装置であると第３図に示すようにプリ
ント基板の表面２Ａ側に付着している切り粉や、砥粒は
、該プリント基板の表面に形成されている表面層銅箔パ
ターンによって水流が遮られるので、確実に洗浄するの
が困難である。
ント基板の表面２Ａ側に付着している切り粉や、砥粒は
、該プリント基板の表面に形成されている表面層銅箔パ
ターンによって水流が遮られるので、確実に洗浄するの
が困難である。
そのため、コンベアロール１を多数配設するとともにシ
ャワー３を多数配設し、コンベアロール上を通過するプ
リント基板の！適時間を長くし、かつシャワーより噴射
する水の圧力を高圧にして洗浄していたが、このように
すると洗浄装置の設置面積が大きくなり、また水の消費
量も大と成る欠点がある。
ャワー３を多数配設し、コンベアロール上を通過するプ
リント基板の！適時間を長くし、かつシャワーより噴射
する水の圧力を高圧にして洗浄していたが、このように
すると洗浄装置の設置面積が大きくなり、また水の消費
量も大と成る欠点がある。
また洗浄を更に効果的にするために超音波発振器を用い
た洗浄槽を形威し、この洗浄槽内をコンベアロールを用
いてプリント基板を通過させることも試みたが、この方
法であると装置のコストが大に成る不都合が生じる。
た洗浄槽を形威し、この洗浄槽内をコンベアロールを用
いてプリント基板を通過させることも試みたが、この方
法であると装置のコストが大に成る不都合が生じる。
本発明は上記した問題点を解決し、簡単な装置でプリン
ト基板の表裏両面が確実に洗浄可能で設置面積が少なく
て清むプリント基板の反転洗浄装置を目的とする。
ト基板の表裏両面が確実に洗浄可能で設置面積が少なく
て清むプリント基板の反転洗浄装置を目的とする。
〔課題を解決するための手段］
上記目的を達成する本発明のプリント基板の反転洗浄装
置は、第１図に示すように洗浄室１１内に設置され、洗
浄前のプリント基板１３を洗浄室中央に搬送する基板搬
送用ロール１４と、 該基板搬送用ロールに載置された基板を洗浄する基板洗
浄手段１５と、 基板を洗浄室出口方向に送出する複数の基板送出用ロー
ル１６と、 該基板送出用ロールに載置された基板を洗浄する基板洗
浄手段１７と、 前記基板搬送用ロールの最内側のロール１４Ａと前記基
板送出用ロールの最内側のロール１６＾との間に設置さ
れ、前記基板搬送用ロールで搬送された基板を、持ち上
げ、直立反転可能とする基板支持台１９を、中心より放
射状に延長して配置した回転体１８と、 前記基板支持台１９に設置された基板をａ浄する基板洗
浄手段２】とを備えて構成する。
置は、第１図に示すように洗浄室１１内に設置され、洗
浄前のプリント基板１３を洗浄室中央に搬送する基板搬
送用ロール１４と、 該基板搬送用ロールに載置された基板を洗浄する基板洗
浄手段１５と、 基板を洗浄室出口方向に送出する複数の基板送出用ロー
ル１６と、 該基板送出用ロールに載置された基板を洗浄する基板洗
浄手段１７と、 前記基板搬送用ロールの最内側のロール１４Ａと前記基
板送出用ロールの最内側のロール１６＾との間に設置さ
れ、前記基板搬送用ロールで搬送された基板を、持ち上
げ、直立反転可能とする基板支持台１９を、中心より放
射状に延長して配置した回転体１８と、 前記基板支持台１９に設置された基板をａ浄する基板洗
浄手段２】とを備えて構成する。
本発明の装置は第１図に示すように、プリンＩ・基板１
３を洗浄室１１内に搬送する搬送用ロール１４の最内側
のロール１４＾と、洗浄後の基板を洗浄室外へ送出する
送出用ロール１６の最内側のロール１６八との間に回転
体１８を設ける。この回転体には該回転体の中心より放
η・１状に延長して延びる基板支持台１９を多数配設し
、この回転体を回転させることで搬送用ロールで搬送さ
れてきたプリンｌ−基板を前記回転体より放射状に延び
る基板支持台で持ち上げ、直立させた後、回転さセ゛て
反転させ、この支持台に対応して設置されているシャワ
ー２１によって洗浄することで基板の表裏両面が効率良
く確実に洗浄できる。このようにすれば前記洗浄すべき
プリント基板が、所定の位置で回転体によって回転する
ので、従来の装置に於（するようにコン−・アロールを
多数配置する必要が無くなり、装置の設置面積が少なく
て済み、またシャワーより噴射する氷の水圧も基板が反
転するために従来の装置より低くしても良い。
３を洗浄室１１内に搬送する搬送用ロール１４の最内側
のロール１４＾と、洗浄後の基板を洗浄室外へ送出する
送出用ロール１６の最内側のロール１６八との間に回転
体１８を設ける。この回転体には該回転体の中心より放
η・１状に延長して延びる基板支持台１９を多数配設し
、この回転体を回転させることで搬送用ロールで搬送さ
れてきたプリンｌ−基板を前記回転体より放射状に延び
る基板支持台で持ち上げ、直立させた後、回転さセ゛て
反転させ、この支持台に対応して設置されているシャワ
ー２１によって洗浄することで基板の表裏両面が効率良
く確実に洗浄できる。このようにすれば前記洗浄すべき
プリント基板が、所定の位置で回転体によって回転する
ので、従来の装置に於（するようにコン−・アロールを
多数配置する必要が無くなり、装置の設置面積が少なく
て済み、またシャワーより噴射する氷の水圧も基板が反
転するために従来の装置より低くしても良い。
以下、図面を用いて本発明の一実施例につき詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明の装置の一実施例の説明図で、第２図は
第１図の要部の説明図である。
第１図の要部の説明図である。
第１図および第２図に示すように塩化ビニル樹脂等で形
成された洗浄室１１内に、該洗浄室の入口１２より洗浄
前のプリント基板１３を洗浄室内に搬送する基板搬送用
ロール１４を多数設ける。この基板搬送用ロールは周囲
がゴム製のリングで被覆されたステンレスで形成されて
いる。そしてこの基板搬送用ロール１４の上下に、該基
板搬送用ロールに設置されたプリント基板１３を洗浄す
るシャワー１５を設ける。また上記基板搬送用ロール１
４に対して水平方向に所定の間隔を隔てて洗浄後の基板
を洗浄室外に送出する基板送出用ロール１６を設け、こ
の基板送出用ロール１６の上下にも基板を洗浄するシャ
ワー１７を設ける。
成された洗浄室１１内に、該洗浄室の入口１２より洗浄
前のプリント基板１３を洗浄室内に搬送する基板搬送用
ロール１４を多数設ける。この基板搬送用ロールは周囲
がゴム製のリングで被覆されたステンレスで形成されて
いる。そしてこの基板搬送用ロール１４の上下に、該基
板搬送用ロールに設置されたプリント基板１３を洗浄す
るシャワー１５を設ける。また上記基板搬送用ロール１
４に対して水平方向に所定の間隔を隔てて洗浄後の基板
を洗浄室外に送出する基板送出用ロール１６を設け、こ
の基板送出用ロール１６の上下にも基板を洗浄するシャ
ワー１７を設ける。
そして前記基板ｅｌｌ送用ロール１４の最内側のロール
１４八と、前記基板送出用ロール１６の最内側の［１−
ル１．７Ａとの間に内部が中空で洗浄後の水を排出する
ための開口部２３を有する円筒状のステンレス製の回転
体１８を設け、この回転体の中心より放射状に延び、前
記基板搬送用ロール１４で洗浄室１１内に搬送されてき
たプリント基板を、持ち上げ、直立反転可能とするステ
ンレス製の平板状の基板支持台１９を複数個配設する。
１４八と、前記基板送出用ロール１６の最内側の［１−
ル１．７Ａとの間に内部が中空で洗浄後の水を排出する
ための開口部２３を有する円筒状のステンレス製の回転
体１８を設け、この回転体の中心より放射状に延び、前
記基板搬送用ロール１４で洗浄室１１内に搬送されてき
たプリント基板を、持ち上げ、直立反転可能とするステ
ンレス製の平板状の基板支持台１９を複数個配設する。
そして上記基板支持台１９上に設置されて回転して反転
する基板を洗浄するためのシャワー２１を上記回転する
基板支持台１９上に該各々の基板支持台に対応して設け
る。
する基板を洗浄するためのシャワー２１を上記回転する
基板支持台１９上に該各々の基板支持台に対応して設け
る。
このような本発明のプリンｌ−基板の洗浄装置の洗浄室
１１内に基板搬送用ロール１４を用いてプリント基板１
３を矢印Ｂ方向に搬送する。この洗浄室内に搬送されて
きたプリント基板はシャワー１５により水洗された後、
矢印Ｃ方向に沿って回転する基板支持台１９上に設置さ
れ、回転体の移動により回転する基板支持台１９によっ
て−に部に持ち上げられ、シャワー２１によって水洗さ
れながら次第に直立した後、反転し、この反転した基板
の裏面側が洗浄された後、基板送出用ロール１６上に載
せられ、シャワー１７によって洗浄された後、出口２２
より洗浄室外へ搬送される。
１１内に基板搬送用ロール１４を用いてプリント基板１
３を矢印Ｂ方向に搬送する。この洗浄室内に搬送されて
きたプリント基板はシャワー１５により水洗された後、
矢印Ｃ方向に沿って回転する基板支持台１９上に設置さ
れ、回転体の移動により回転する基板支持台１９によっ
て−に部に持ち上げられ、シャワー２１によって水洗さ
れながら次第に直立した後、反転し、この反転した基板
の裏面側が洗浄された後、基板送出用ロール１６上に載
せられ、シャワー１７によって洗浄された後、出口２２
より洗浄室外へ搬送される。
このようにすればプリント基板の表面が洗浄された後、
更に自動的に反転して裏面側が洗浄されるのでプリント
基板の表裏両面が確実に洗浄されることになる。またプ
リント基板は回転体によって同一場所で回転しているの
で従来のようにコンベアロールを多数配設する必要が無
くなり、装置の設置面積が小さくて済む。
更に自動的に反転して裏面側が洗浄されるのでプリント
基板の表裏両面が確実に洗浄されることになる。またプ
リント基板は回転体によって同一場所で回転しているの
で従来のようにコンベアロールを多数配設する必要が無
くなり、装置の設置面積が小さくて済む。
尚、本実施例はプリント基板の洗浄装置に例を用いて述
べたが、本発明はプリント基板に限らず平板状の部材の
洗浄に適用できるのは熱論である。
べたが、本発明はプリント基板に限らず平板状の部材の
洗浄に適用できるのは熱論である。
また上記回転体は円筒状でなく内部が中空の多角錐形状
でも良い。
でも良い。
０
以上の説明から明らかなように本発明により、 ｃ、ｅ
、装置の設置面積が少なくて済む小型で簡単な洗浄装置
が得られ、装置の運用コストの小さい洗浄効果の大きい
洗浄装置が（＋７られる効果がある。
、装置の設置面積が少なくて済む小型で簡単な洗浄装置
が得られ、装置の運用コストの小さい洗浄効果の大きい
洗浄装置が（＋７られる効果がある。
第１図は本発明の装置の一実施例の説明図、第２図は第
１図の要部の説明図、 第３図番よ従来の装置の模式図である。 図において、 １１は洗浄室、１２は入口、１３はプリント基板、１４
Ｇよ基板搬送用じ１−ル、＋５．１７．２１は基板洗浄
手段（シャワー）、１６は基板送出用ロール、１８は回
転体、１９は基板支持台、２２は出口、２３は開口部を
示す。 ■
１図の要部の説明図、 第３図番よ従来の装置の模式図である。 図において、 １１は洗浄室、１２は入口、１３はプリント基板、１４
Ｇよ基板搬送用じ１−ル、＋５．１７．２１は基板洗浄
手段（シャワー）、１６は基板送出用ロール、１８は回
転体、１９は基板支持台、２２は出口、２３は開口部を
示す。 ■
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 洗浄室（１１）内に設置され、洗浄前の基板（１３）
を洗浄室中央に搬送する複数の基板搬送用ロール（１４
）と、 該基板搬送用ロールに載置された基板を洗浄する基板洗
浄手段（１５）と、 基板を洗浄室出口方向に送出する複数の基板送出用ロー
ル（１６）と、 該基板送出用ロールに載置された基板を洗浄する基板洗
浄手段（１７）と、 前記基板搬送用ロールの最内側のロール（１４Ａ）と前
記基板送出用ロールの最内側のロール（１６Ａ）との間
に設置され、前記基板搬送用ロールで搬送された基板を
、持ち上げ、直立反転可能とする基板支持台（１９）を
、中心より放射状に延長して多数配置した回転体（１８
）と、 前記基板支持台（１９）上に設置された基板を洗浄する
基板洗浄手段（２１）とを備えたことを特徴とする基板
の反転洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22404189A JPH0385791A (ja) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | 基板の反転洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22404189A JPH0385791A (ja) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | 基板の反転洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0385791A true JPH0385791A (ja) | 1991-04-10 |
Family
ID=16807670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22404189A Pending JPH0385791A (ja) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | 基板の反転洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0385791A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04305994A (ja) * | 1991-01-25 | 1992-10-28 | Sony Corp | プリント基板のエッチング装置 |
| JP2008008435A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Nitta Moore Co | 管継手 |
| JP2015029922A (ja) * | 2013-07-31 | 2015-02-16 | 株式会社 ハリーズ | 透明板清掃システム |
| JP2016140815A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | 株式会社 ハリーズ | 透明板清掃システム |
| JP2016140816A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | 株式会社 ハリーズ | 透明板清掃システム |
| CN105842256A (zh) * | 2015-01-30 | 2016-08-10 | 哈里斯股份有限公司 | 透明板检查装置及透明板清扫检查系统 |
| GB2590878A (en) * | 2020-04-23 | 2021-07-07 | Zhejiang Legou Tech Co Ltd | A cleaning apparatus for circuit boards |
-
1989
- 1989-08-29 JP JP22404189A patent/JPH0385791A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04305994A (ja) * | 1991-01-25 | 1992-10-28 | Sony Corp | プリント基板のエッチング装置 |
| JP2008008435A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Nitta Moore Co | 管継手 |
| JP2015029922A (ja) * | 2013-07-31 | 2015-02-16 | 株式会社 ハリーズ | 透明板清掃システム |
| JP2016140815A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | 株式会社 ハリーズ | 透明板清掃システム |
| JP2016140816A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | 株式会社 ハリーズ | 透明板清掃システム |
| CN105842256A (zh) * | 2015-01-30 | 2016-08-10 | 哈里斯股份有限公司 | 透明板检查装置及透明板清扫检查系统 |
| CN105842256B (zh) * | 2015-01-30 | 2019-01-18 | 哈里斯股份有限公司 | 透明板检查装置及透明板清扫检查系统 |
| GB2590878A (en) * | 2020-04-23 | 2021-07-07 | Zhejiang Legou Tech Co Ltd | A cleaning apparatus for circuit boards |
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