JP2546440B2 - プリント基板のエッチング装置 - Google Patents

プリント基板のエッチング装置

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JP2546440B2
JP2546440B2 JP3007654A JP765491A JP2546440B2 JP 2546440 B2 JP2546440 B2 JP 2546440B2 JP 3007654 A JP3007654 A JP 3007654A JP 765491 A JP765491 A JP 765491A JP 2546440 B2 JP2546440 B2 JP 2546440B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板を構成す
る絶縁支持部材の表面に施された導電材料の内、その後
の電流の伝導に使用されない部分を化学的に腐食除去す
るプリント基板のエッチング装置に関し、特に両面及び
/又は多層のプリント基板に細密なエッチングパターン
を形成するために用いて好適なプリント基板のエッチン
グ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のプリント基板のエッチング装置に
ついて、図4及び図5を参照して説明する。従来のプリ
ント基板のエッチング装置は、プリント基板1を搬送す
る一組の上搬送ロール22及下搬送ロール23と、プリ
ント基板1にエッチング液を噴射する上スプレー24及
び下スプレー25とを備えて構成されている。
【0003】上搬送ロール22及び下搬送ロール23
は、互いに平行に対向してそれぞれ設けられている。こ
れら上搬送ロール22及び下搬送ロール23は、一定間
隔をあけて所定数設けられており、対向間にプリント基
板1の搬送経路を構成している。上スプレー24及び下
スプレー25は、上搬送ロール22及び下搬送ロール2
3に臨んでそれぞれ設けられている。これら上スプレー
24及び下スプレー25は、上搬送ロール22及び下搬
送ロール23とが構成するプリント基板1の搬送経路に
沿って複数設けられている。
【0004】以上のように構成されたプリント基板のエ
ッチング装置は、上搬送ロール22及び下搬送ロール2
3との対向間に挟み込まれたプリント基板1を図4及び
図5中に示す矢印方向に水平に搬送する。このプリント
基板のエッチング装置は、上搬送ロール22及び下搬送
ロール23によって搬送されるプリント基板1の上下面
に対して、上スプレー24及び下スプレー25からエッ
チング液をそれぞれ噴射する。
【0005】プリント基板のエッチング装置は、プリン
ト基板1の上下面に対して上スプレー24及び下スプレ
ー25がエッチング液をそれぞれ噴射することによっ
て、プリント基板1を構成する絶縁支持部材の表面に施
された銅箔等の導電材料の内、電流の伝導に使用しない
部分を化学的に腐食除去する。したがって、プリント基
板のエッチング装置は、プリント基板1の上下面に、回
路パターン等のエッチングパターンをそれぞれ形成す
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したプ
リント基板1を水平に搬送するとともにこのプリント基
板1の上下面にエッチング処理をそれぞれ施すプリント
基板のエッチング装置は、プリント基板1の上面の中央
部に、上スプレー24から噴射されたエッチング液の液
溜り26が発生する。この液溜り26が発生した部分
は、エッチング液の流動が遅いため、この部分のエッチ
ングが遅れるという問題点がある。
【0007】そして、プリント基板のエッチング装置
は、特に、外形寸法の大型なプリント基板1にエッチン
グ処理を施す場合、液溜り26が発生し易いという問題
点があった。このため、プリント基板のエッチング装置
は、液溜り26が発生したプリント基板1の上面が、液
溜り26が発生しない下面に比較して均一なエッチング
が施すことができないという問題がある。
【0008】したがって、液溜り26が発生したプリン
ト基板1は、上面の中央部が下面に比較してエッチング
の進行速度が遅いため、充分なエッチング処理が施され
ず、上面の中央部のエッチングパターンの幅寸法が太く
なってしまう。すなわち、液溜り26が発生したプリン
ト基板1は、上面側にエッチング処理によって腐食除去
する必要がある箇所が残るため、隣接するエッチングパ
ターンの間で電気的短絡が生じるという問題がある。
【0009】そして、上述した問題の対策として、プリ
ント基板のエッチング装置は、液溜り26が発生したプ
リント基板1の上面の中央部に、所定のエッチングパタ
ーンを形成させるために、上搬送ロール22及び下搬送
ロール23の搬送速度を遅くしてエッチング処理を施す
時間を延長する対策が考慮される。
【0010】しかしながら、プリント基板のエッチング
装置は、エッチング処理を施す時間を延長することによ
って、プリント基板1に発生した液溜り26の周辺部分
が必要以上に腐食除去されて、エッチングパターンの幅
寸法が細くなり、いわゆるオーバーエッチングが発生し
てしまうという問題があった。
【0011】そこで、本発明は、両面及び/又は多層の
プリント基板に細密なエッチングパターンを均一に形成
することを可能とするプリント基板のエッチング装置を
提供することを目的とする。
【0012】
【課題を達成するための手段】上述した目的を達成する
ために提案される本発明に係るプリント基板のエッチン
グ装置は、プリント基板を水平に搬送する第1の搬送手
段とこの第1の搬送手段が搬送するプリント基板に対し
てエッチング液を噴射する第1のエッチング液噴射手段
とを有する第1のエッチング槽と、プリント基板を水平
に搬送する第2の搬送手段とこの第2の搬送手段が搬送
するプリント基板に対してエッチング液を噴射する第2
のエッチング液噴射手段とを有する第2のエッチング槽
と、第1のエッチング槽と第2のエッチング槽との間に
位置して配設されて第1の搬送手段が搬送するプリント
基板の上下面を反転させる反転装置と、第1のエッチン
グ槽と第2のエッチング槽とを連結させてこれら各エッ
チング槽内のエッチング液の特性を均一にする連通管と
を備える。
【0013】
【作用】以上のように構成した本発明に係るプリント基
板のエッチング装置は、第1の搬送手段によってプリン
ト基板を搬送するとともに、第1の噴射手段によってこ
のプリント基板にエッチング処理を施す。第1のエッチ
ング槽によってエッチング処理が施されたプリント基板
は、反転装置によって上下面が反転される。反転装置に
よって反転されたプリント基板は、第2のエッチング槽
の第2の搬送手段に搬入される。
【0014】第2のエッチング槽は、第2の搬送手段に
よってプリント基板を搬送するとともに、第2の噴射手
段によってこのプリント基板にエッチング処理を施す。
したがって、プリント基板は、第1のエッチング槽及び
第2のエッチング槽とによって、上下面にエッチング処
理がそれぞれ施される。
【0015】また、このプリント基板のエッチング装置
は、第1のエッチング槽及び第2のエッチング槽とを連
結する連通管によって、第1のエッチング槽と第2のエ
ッチング槽との各エッチング液をそれぞれ連通させる。
このため、第1のエッチング槽及び第2のエッチング槽
は、連通管によって各エッチング液の特性が均一にされ
る。
【0016】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について図1
乃至図3を参照して説明する。実施例プリント基板のエ
ッチング装置は、図1に示すように、概略、プリント基
板1にエッチング処理を施す有効処理長さを2分割して
配設される第1のエッチング槽11及び第2のエッチン
グ槽12と、これら第1のエッチング槽11と第2のエ
ッチング槽12との間に位置して配設されて第1のエッ
チング槽11によってエッチング処理が施されたプリン
ト基板1の上下面を反転させる反転装置13と、第1の
エッチング槽11と第2のエッチング槽12とを連結さ
せてこれら各エッチング槽内のエッチング液の特性を均
一にする連通管14とを備えて構成されている。
【0017】第1のエッチング槽11は、図1乃至図3
に示すように、プリント基板1を搬送する第1の搬送手
段を構成する1組の上搬送ロール2a及び下搬送ロール
3aとプリント基板1の上下面に対してエッチング液を
それぞれ噴射する第1のエッチング手段を構成する上ス
プレー4a及び下スプレー5bとを備えている。また、
及び第2のエッチング槽12は、図1乃至図3に示すよ
うに、プリント基板1を搬送する第2の搬送手段を構成
する1組の上搬送ロール2b及び下搬送ロール3bと、
第1のエッチング槽11側から搬送されたプリント基板
1の上下面に対してエッチング液をそれぞれ噴射する第
2のエッチング手段を構成する上スプレー4b及び下ス
プレー5bとを備えて構成されている。なお、プリント
基板1は、図2を基準として、上面をA面とするととも
に下面をB面とする。
【0018】各組の上搬送ロール2a,2b及び下搬送
ロール3a,3bは、互いに平行に対向してそれぞれ設
けられている。これら上搬送ロール2a,2b及び下搬
送ロール3a,bは、一定間隔をあけて所定数それぞれ
設けられており、相対向する間にプリント基板1の搬送
経路を構成している。
【0019】また、これら上搬送ロール2a,2b及び
下搬送ロール3a,3bには、外周部に、例えば、ゴム
等の弾性部材が設けられており、搬送されるプリント基
板1のエッチングレジスト等を損傷することの防止が図
られている。そして、上搬送ロール2a,2b及び下搬
送ロール3a,3bは、図示しない駆動機構によって回
転駆動されて、相対向する間にプリント基板1を挟み込
んだ状態でこのプリント基板1を水平に搬送する。すな
わち、プリント基板1は、図1に示す矢印方向に向かっ
て搬送される。
【0020】第1及び第2のエッチング手段をそれぞれ
構成する各組の上スプレー4a,4b及び下スプレー5
a,5bは、上搬送ロール2a,2b及び下搬送ロール
3a,3bに臨んでそれぞれ設けられている。これら上
スプレー4a,4b及び下スプレー5a,5bは、上搬
送ロール2a,2b及び下搬送ロール3a,3bとが構
成するプリント基板1の搬送経路に沿って複数設けられ
ている。
【0021】連通管14は、第1のエッチング槽11と
第2のエッチング槽12とに両端部が連結されており、
またこの連通管14には、隣接して図示しない撹拌装置
が設けられている。そして、第1のエッチング槽11及
び第2のエッチング槽12は、撹拌装置によってエッチ
ング液が撹拌されて、連通管14を介してエッチング液
が互いに連通されている。
【0022】反転装置13は、図1に示すように、第1
のエッチング槽11から第2のエッチング槽12にプリ
ント基板1を搬送する搬送ロール15と、この搬送ロー
ル15の搬送経路中に配設されて第1のエッチング槽1
1によってエッチング処理が施されたプリント基板1を
保持して反転させるものである。すなわち、反転装置1
3は、図1に示すように、回転機構を構成する回転体1
3aの外周囲に放射状に対をなす支持アーム14a,1
4bを設け、これら支持アーム14a,14b間に第1
のエッチング槽11側から搬送されるプリント基板1を
保持する。そして、反転装置13は、支持アーム14
a,14b間にプリント基板1を保持した状態で回転体
13aが回転されることにより、プリント基板1の上下
面を反転させる。
【0023】以上のように構成されたプリント基板のエ
ッチング装置について、プリント基板1の上下面にエッ
チング処理をそれぞれ施す動作、及び反転装置13がプ
リント基板1を反転する動作を説明する。まず、第1の
エッチング槽11は、上搬送ロール2a及び下搬送ロー
ル3bが回転駆動されることによってプリント基板1を
水平に搬送する。プリント基板1は、上搬送ロール2a
及び下搬送ロール3bによって搬送されるとともに、上
下面に上スプレー4a及び下スプレー5aによってエッ
チング液がそれぞれ付着される。
【0024】プリント基板1は、上下面にエッチング液
が付着されることによって、所定領域の銅箔等の導電材
料を化学的に腐食除去する。したがって、プリント基板
1には、上下面にエッチングパターンがそれぞれ形成さ
れる。ただし、このプリント基板1の上面(A面)は、
エッチング液の液溜り6が発生するため、エッチング処
理が充分に施されない。
【0025】次に、第1のエッチング槽11によってエ
ッチング処理が施されたプリント基板1は、反転装置1
3側に搬送される。反転装置13側に搬送されたプリン
ト基板1は、搬送ロール15によって搬送されながら支
持アーム14a,14b間に保持される。そして、回転
体13aが回転されることにより、支持アーム14a,
14b間に保持されたプリント基板1が180°回転さ
れて反転される。この反転されたプリント基板1は、搬
送ロール15によって搬送されて第2のエッチング槽1
2側に搬送する。
【0026】そして、第2のエッチング槽12は、上搬
送ロール2b及び下搬送ロール3bが回転駆動されるこ
とによって、反転装置13によって反転されて搬送され
てきたたプリント基板1を水平に搬送する。プリント基
板1は、上搬送ロール2b及び下搬送ロール3bによっ
て搬送されるとともに、上下面に上スプレー4b及び下
スプレー5bによってエッチング液がそれぞれ付着され
る。
【0027】プリント基板1は、上下面にエッチング液
が付着されることによって、所定領域の銅箔等の導電材
料を化学的に腐食除去する。したがって、プリント基板
1には、上下面にエッチングパターンがそれぞれ形成さ
れる。したがって、プリント基板1は、第1のエッチン
グ槽11において充分にエッチング処理が施されなかっ
たA面に、充分なエッチング処理が施される。
【0028】上述したように、プリント基板のエッチン
グ装置は、第1のエッチング槽11と第2のエッチング
槽12との間に位置して、プリント基板1の上下面を反
転させる反転装置13が配設されることによって、第1
のエッチング槽11によってエッチング処理が施された
プリント基板1を、反転装置13によって反転させて第
2のエッチング槽12によってエッチング処理を施すこ
とができる。
【0029】すなわち、プリント基板1は、第1のエッ
チング槽11において液溜まり6が発生してエッチング
処理が不充分な上面(A面)が、反転装置13によって
反転されることによって、第2のエッチング槽12にお
いて下面にされてエッチング処理が充分に施される。
【0030】したがって、このプリント基板のエッチン
グ装置は、プリント基板1の上下面に均一なエッチング
処理をそれぞれ施すことを可能とし、両面及び/又は多
層のプリント基板の各面に細密なエッチングパターンを
それぞれ形成することができる。すなわち、このプリン
ト基板のエッチング装置は、プリント基板1の両面にエ
ッチング処理それぞれを施す際、いわゆるオーバーエッ
チング等の不都合が発生することを防止する。
【0031】また、第1のエッチング槽11と第2のエ
ッチング槽12とを連結する連通管14が設けられたこ
とによって、第1のエッチング槽11及び第2のエッチ
ング槽12の各エッチング液がそれぞれ連通される。し
たがって、このプリント基板のエッチング装置は、連通
管14によって、第1のエッチング槽11及び第2のエ
ッチング槽12の各エッチング液の温度、濃度、比重等
の諸条件を同一条件にさせることができる。
【0032】さらに、プリント基板1の上下面に対して
エッチング液を噴射させる構成を備えることにより、プ
リント基板1にエッチング処理を施す時間の短縮化が図
られている。なお、第1のエッチング槽11及び第2の
エッチング槽12には、上下スプレー4a,4b及び下
スプレー5a,5bがそれぞれ設けられているが、上ス
プレー4a,4bを設けずに下スプレー5a,bのみに
よってプリント基板1の上下面にエッチング処理をそれ
ぞれ施すことも可能である。
【0033】すなわち、このプリント基板のエッチング
装置は、第1のエッチング槽11によってプリント基板
1の下面(B面)に下スプレー5aがエッチング処理を
施した後、反転装置13によってプリント基板1の上下
面を反転させて、第2のエッチング槽12によってプリ
ント基板1の下面(A面)に下スプレー5bがエッチン
グ処理を施す。このように下スプレー5a、5bのみを
設けることにより、プリント基板1の上面に全く液溜り
6を発生させることなくプリント基板1の上下面に更に
均一なエッチング処理を施すことが可能とされる。ただ
し、このように構成したプリント基板のエッチング装置
は、エッチング処理に要する時間が長くなるため、各エ
ッチング槽のエッチング処理長さ即ちプリント基板1の
搬送経路を長くしたり、プリント基板1の搬送速度を遅
くすることが必要となる。
【0034】
【発明の効果】上述したように本発明に係るプリント基
板のエッチング装置によれば、プリント基板の上下面を
反転させる反転装置が、複数のエッチング槽の間に位置
して配設されることによって、プリント基板の上下面に
均一なエッチング処理をそれぞれ施すことを可能とし、
両面及び/又は多層のプリント基板の各面に細密なエッ
チングパターンをそれぞれ形成することができる。した
がって、このプリント基板のエッチング装置は、プリン
ト基板の上下面にエッチング処理をそれぞれ施す際、い
わゆるオーバーエッチング等の不都合が発生することを
防止する。
【0035】また、本発明に係るプリント基板のエッチ
ング装置によれば、反転装置が、第1のエッチング槽に
よってエッチング処理が施されたプリント基板を反転さ
せて、第2のエッチング槽によってこのプリント基板に
エッチング処理を施すため、プリント基板の上下面に均
一なエッチング処理をそれぞれ施すことができる。した
がって、このプリント基板のエッチング装置は、プリン
ト基板の上下面にエッチング処理をそれぞれ施す際、い
わゆるオーバーエッチング等の不都合の発生を防止す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る実施例プリント基板のエッチング
装置を示す断面模式図である。
【図2】同プリント基板のエッチング装置が備える第1
のエッチング槽を示す模式斜視図である。
【図3】同プリント基板のエッチング装置が備える第2
のエッチング槽を示す模式斜視図である。
【図4】従来のプリント基板のエッチング装置を説明す
るために示す平面模式図である。
【図5】従来のプリント基板のエッチング装置を説明す
るために示す側面模式図である。
【符号の説明】
1 プリント基板 2 上搬送ロール(搬送手段) 3 下搬送ロール(搬送手段) 4 上スプレー(エッチング液噴射手段) 5 下スプレー(エッチング液噴射手段) 11 第1のエッチング槽 12 第2のエッチング槽 13 反転装置 14 連通管

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プリント基板を水平に搬送する第1の搬
    送手段と、この第1の搬送手段が搬送するプリント基板
    に対してエッチング液を噴射する第1のエッチング液噴
    射手段とを有する第1のエッチング槽と、 連通管によって上記第1のエッチング槽に連結されると
    ともに、プリント基板を水平に搬送する第2の搬送手段
    と、この第2の搬送手段が搬送するプリント基板に対し
    てエッチング液を噴射する第2のエッチング液噴射手段
    とを有する第2のエッチング槽と、 上記第1のエッチング槽と上記第2のエッチング槽との
    間に位置して配設され、上記第1のエッチング槽から上
    記第1の搬送手段によって搬送されるプリント基板を保
    持し、回転することにより上記プリント基板の上下面を
    反転させる反転手段とを備えることを特徴とするプリン
    ト基板のエッチング装置。
  2. 【請求項2】 上記第1の噴射手段及び上記第2の噴射
    手段には、プリント基板の上下面に臨んで噴射部がそれ
    ぞれ設けられていることを特徴とする請求項1記載のプ
    リント基板のエッチング装置。
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