JPH038363A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置

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JPH038363A
JPH038363A JP1143676A JP14367689A JPH038363A JP H038363 A JPH038363 A JP H038363A JP 1143676 A JP1143676 A JP 1143676A JP 14367689 A JP14367689 A JP 14367689A JP H038363 A JPH038363 A JP H038363A
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inner lead
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木下 嘉隆
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、樹脂封止型半導体装置に関し、特に、シング
ルインラインパッケージ構造を採用する樹脂封止型半導
体装置に適用して有効な技術に関するものである。
〔従来の技術〕
実装密度が高い樹脂封止型半導体装置として、Z I 
P(Zigzag In−1ine Package)
構造を採用した樹脂封止型半導体装置がある。この樹脂
封止型半導体装置はタブの表面上に搭載された半導体ペ
レットを樹脂封止部(レジン)で気密封止している。半
導体ペレットには例えばDRAM(Dynamic R
ando−八ccass Me+mory)が搭載され
る。半導体ペレットの外部端子(ポンディングパッド)
はボンディングワイヤを介在させてインナーリードの一
端側に電気的に接続される。インナーリードの他端側は
アウターリードに一体に構成される。アウターリード(
外部ピン)は樹脂封止部の一面に複数本ジグザグに配置
される。
ZIP構造を採用する樹脂封止型半導体装置はそのアウ
ターリードを介して実装基板に実装される。この樹脂封
止型半導体装置は半導体ペレットの素子形成面、インナ
ーリード、アウターリードの夫々を実装基板に対してほ
ぼ垂直に配置する。
つまり、ZIP構造の樹脂封止型半導体装置はDI P
(Dual In−1ine Package)、SO
P(Small○ut−1ine P ackage)
の夫々に比べて実装基板上での占有面積が小さく実装密
度が高い。
なお、ZIP構造を採用する樹脂封止型半導体装置につ
いては例えば特願昭62−264679号に記載されて
いる。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明者は半導体ペレットに 1[Mbitlの大容量
を備えたDRAMを搭載するZIP構造の樹脂封止型半
導体装置の開発を行っている。DRAMのメモリセルは
メモリセル選択用MISFETと情報蓄積用容量素子と
の直列回路で構成される。
DRAMの周辺回路は相補型MISFET、バイポーラ
トランジスタの夫々を組合せて構成される。
前記半導体ペレットは平面長方形状で構成され、DRA
Mの大容量化が進むにつれて、この半導体ペレットの平
面サイズは増大される。これに対して、ZIP構造の樹
脂封止型半導体装置は、統一の標準規格に基づき400
[mil]のサイズで構成される。
前記DRAMはアクセスタイムの高速化を図る目的でア
ドレスノンマルチ方式を採用する。このアドレスノンマ
ルチ方式の採用により、半導体ペレットの素子形成面に
配置されるアドレス信号用外部端子数はアドレスマルチ
方式の2倍になる。
例えば、半導体ペレットはアドレス信号用外部端子、ク
ロック系信号用外部端子、データ信号用外部端子、電源
用外部端子等少なくとも28個の外部端子が必要とされ
る。このため、外部端子は半導体ペレットの長方形状の
各辺(4辺)の夫々に沿った周辺部分の素子形成面に配
置される。この半導体ペレットを樹脂封止部に封止した
場合、樹脂封止部のアウターリードが配列された面に対
向しかつ最つども離隔する半導体ペレットの辺に沿って
配置された外部端子に電気的に接続するために、インナ
ーリードを引き回す必要が生じる。前述のように、半導
体ペレットの大型化及びZIP構造の樹脂封止型半導体
装置のサイズの規制があるので、樹脂封止部にはインナ
ーリードの引き回しを行う領域がほとんどない、このた
め、インナーリードの引き回しの領域に相当する分、樹
脂封止部のサイズが特に高さ方向のサイズが増大し、Z
IP構造を採用する樹脂封止型半導体装置が大型化する
という問題点が生じる。
また、このZIP構造を採用する樹脂封止型半導体装置
の大型化は、メモリボードに実装された際、メモリボー
ドの立体的な実装密度を低下するという問題点を生じる
本発明の目的は、シングルインラインパッケージ構造を
採用する樹脂封止型半導体装置において、小型化を図る
ことが可能な技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記樹脂封止型半導体装置におい
て、前記小型化を図ると共に歩留りを向上することが可
能な技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記樹脂封止型半導体装置におい
て、電気的信頼性を向上することが可能な技術を提供す
ることにある。
本発明の他の目的は、前記樹脂封止型半導体装置におい
て、動作速度の高速化を図ることが可能な技術を提供す
ることにある。
本発明の他の目的は、前記樹脂封止型半導体装置の放熱
効率を向上することが可能な技術を提供することにある
6 本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
〔課題を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)平面方形状の各辺に沿った素子形成面に外部端子
を複数配置する半導体ペレットが樹脂封止部で封止され
るZIP構造の樹脂封止型半導体装置であって、前記半
導体ペレットの素子形成面と対向する裏面に、絶縁材を
介在させ、前記樹脂封止部の7ウターリードが配置され
た面と対向しかつ最つども離隔した半導体ペレットの辺
に沿って配置された外部端子に電気的に接続される信号
用インナーリードを配置し、前記半導体ペレットの裏面
に、前記絶縁材を介在させ、前記半導体ペレットを支持
する電源用インナーリード又はノンコネクション用イン
ナーリードを配置する。
(2)前記半導体ペレットの裏面に前記絶縁材を介在さ
せて配置された信号用インナーリードの幅寸法は、それ
以外の信号用インナーリードの前記半導体ペレットの周
囲を引き回す部分の幅寸法に比べて細く構成される。
(3)前記半導体ペレットの裏面に前記絶縁材を介在さ
せて配置された電源用インナーリード又はノンコネクシ
ョン用インナーリードの幅寸法は、前記半導体ペレット
の裏面に前記絶縁材を介在させて配置された信号用イン
ナーリードの幅寸法に比べて太く構成される。
〔作  用〕
上述した手段(1)によれば、前記半導体ペレットの最
つども離隔した辺に沿って配置された外部端子に電気的
に接続される信号用インナーリードを半導体ペレットの
占有面積内において引き回し、この信号用インナーリー
ドの引き回しに相当する分、樹脂封止部のサイズを縮小
することができるので、ZIP構造の樹脂封止型半導体
装置の小型化を図ることができると共に、前記電源用イ
ンナーリード又はノンコネクション用インナーリードで
半導体ペレット、絶縁材の夫々の支持を補強し、半導体
ペレットを安定に保持することができるので、ZIP構
造の樹脂封止型半導体装置の歩留りを向上することがで
きる。また、前記半導体ペレットの裏面に配置された信
号用インナーリードの長さは引き回した場合に比べて短
縮され、この信号用インナーリードのインダクタンスを
小さくすることができるので、信号ノイズを低減し、半
導体ペレットに搭載された回路の誤動作を防止し、ZI
P構造の樹脂封止型半導体装置の電気的信頼性を向上す
ることができる。また、ZIP構造の樹脂封止型半導体
装置の小型化により、メモリボード上での立体的な実装
密度を向上することができる。
上述した手段(2)によれば、前記半導体ペレットの裏
面に配置された信号用インナーリードと半導体ペレット
との間に形成される寄生容量を低減し、信号用インナー
リードの信号伝達速度を速くすることができるので、Z
IP構造の樹脂封止型半導体装置の動作速度の高速化を
図ることができる。
上述した手段(3)によれば、前記電源用インナーリー
ド又はノンコネクション用インナーリードと半導体ペレ
ットとの間に形成される寄生容量を増加し、前記半導体
ペレットに搭載された回路で使用される電源のノイズを
カップリング作用により低減することができるので、z
rp構造の樹脂封止型半導体装置の電気的信頼性を向上
することができる。また、前記電源用インナーリードの
インダクタンスを小さくし、電源ノイズを低減すること
ができるので、ZIP構造の樹脂封止型半導体装置の電
気的信頼性を向上することができる。
また、前記半導体ペレットの裏面に配置された前記電源
用インナーリード(又はノンコネクション用インナーリ
ード)及び信号用インナーリードは、前記半導体ペレッ
トに搭載された回路の動作で発生する熱を前記絶縁材、
前記電源用インナーリード(又はノンコネクション用イ
ンナーリード)及び信号用インナーリードの夫々を通し
て樹脂封止部の外部に放出することができるので、樹脂
封止型半導体装置の熱抵抗を低減することができる。
以下、本発明の構成について、ZIP構造を採用する樹
脂封止型半導体装置に本発明を適用した実施例とともに
説明する。
なお、実施例を説明するための全回において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
〔発明の実施例〕
(実施例り 本発明の実施例IであるZIP構造を採用する樹脂封止
型半導体装置の基本的構造を第2図(外観図)及び第1
図(拡大部分断面外観図)で示す。
第2図に示すように、ZIP構造を採用する樹脂封止型
半導体装置10は樹脂封止部(レジンモールド部)5の
実装側の一端面にアウターリード(外部ピン)3Bを複
数配列する。つまり、Z I Plil造を採用する樹
脂封止型半導体装置10は、シングルインラインパッケ
ージ構造で構成され、ピン挿入型で構成される。
このZIP構造を採用する樹脂封止型半導体装[10は
、第1図及び第3図(第1図のm−m切断線で切った断
面図)に示すように、インナーリード3A上に絶縁フィ
ルム2、半導体ペレット1の夫々を順次積み重ねて構成
される。
前記インナーリード3A、アウターリード3Bの夫々は
同一のリードフレームに打抜き加工を又はエツチング加
工を施すことにより形成される。
つまり、インナーリード3A、アウターリード3Bの夫
々は一体に成型される。インナーリード3A及びアウタ
ーリード3Bは例えば鉄−ニッケル合金(例えばニッケ
ルの含有量は50[%])で形成される。この鉄−ニッ
ケル合金の表面には例えばZn−Ni合金メツキ層が設
けられる。このインナーリード3A及びアウターリード
3Bは例えば約200[μm]の膜厚で形成される。な
お、インナーリード3A及びアウターリード3Bは電気
伝導性及び熱伝導性に優れた銅(Cu)系材料で形成し
てもよい。
前記アウターリード3Bは、標準規格に基づき、各端子
に番号が付され、夫々に印加される信号が規定される。
前述のように、インナーリード3Aはアウターリード3
Bと一体に成型されるので、インナーリード3Aに印加
される信号はアウターリード3Bに印加される信号と同
様である。第1図中、ZIP構造を採用する樹脂封止型
半導体装置10は左端から右端に向って1番端子、2番
端子、・・・、28番端子の夫々が順次配列される。つ
まり。
ZIP構造を採用する樹脂封止型半導体装置10は合計
28端子(28ピン)で構成される。
前記1番端子(アウターリード3B)にはリフレッシュ
信号RF、2番端子にはチップイネーブル信号CE、3
番端子にはアウトプットイネーブル信号OE、4番端子
にはライトイネーブル信号WEの夫々が印加される。5
番端子にはデータ出力信号Dout 、6番端子にはデ
ータ入力信号Dinの夫々が印加される。7番端子には
アドレス信号A09.8番端子にはアドレス信号A1い
9番端子にはアドレス信号A4.の夫々が印加される。
10番端子には基準電源電圧Vss例えば回路の接地電
位0[v]が印加される。11番端子にはアドレス信号
Aい12番端子にはアドレス信号A0.13番端子には
アドレス信号A4.14番端子にはアドレス信号A、、
15番端子にはアドレス信号へ6の夫々が印加される。
16番端子にはアドレス信号A7.17番端子にはアド
レス信号A3.18番端子にはアドレス信号A2の夫々
が印加される。
19番端子には動作電源電圧Vcc例えば回路の動作電
圧5[v]が印加される。20番端子にはアドレス信号
A、、21番端子にはアドレス信号A11゜22番端子
にはアドレス信号A□6.23番端子にはアドレス信号
A、024番端子にはアドレス信号A□、の夫々が印加
される。25番端子にはアドレス信号A 1z、26番
端子にはアドレス信号A□、。
27番端子にはアドレス信号A L 6.28番端子に
はアドレス信号A、の夫々が印加される。
前記半導体ペレット1は前記第1図に示すように樹脂封
止部5の中央部分に配置される。半導体ペレット1は平
面長方形状の単結晶珪素基板で形成される。半導体ペレ
ット1の素子形成面(インナーリード3Aに対向する面
と反対側の面)には1[Mbitlの大容量を有するD
RAMが搭載される。このDRAMが搭載された半導体
ペレットlを第4図(チップレイアウト図)に示す。
第4図に示すように、半導体ペレット1の素子形成面に
搭載されたDRAMは中央部分にメモリセルアレイ(M
A)11を配置する。このメモリセルアレイ11は、同
第4図中、半導体ペレット1の上部において4分割(メ
モリセルアレイIIA〜11D)され、下部において4
分割(メモリセルアレイ11E〜IIH)され1合計8
分割される。つまり、DRAMは8マツト構成を採用す
る。この8分割されたメモリセルアレイ11A〜IIH
の夫々はさらに2分割され、メモリセルアレイ11は合
計16個のメモリセルアレイMAに細分化される。この
16個に細分化されたうちの1つのメモリセルアレイM
Aは256 [Kbit]の容量で構成される。
前記16個に細分化されたうちの2個のメモリセルアレ
イMAの間には夫々カラムアドレスデコーダ回路(Y 
D E C)12及びセンスアンプ回路(SA)13の
一部が配置される。センスアンプ回路13は相補型MI
 SFET(CMO8)で構成され、センスアンプ回路
13の一部はnチャネルMISFETで構成される。セ
ンスアンプ回路13の他部であるpチャネルMISFE
Tは前記一部と対向した位置においてメモリセルアレイ
MAの端部に配置される。センスアンプ回路13の一端
側からは相補性データ線(2本のデータ線)がメモリセ
ルアレイMA上に延在し、本実施例のDRAMはフォー
ルデッドビットライン方式(2交点方式)で構成される
前記16個に細分化されたメモリセルアレイMAの夫々
の中央側の一端にはロウアドレスデコーダ回路(X D
 E C)14及びワードドライバ回路(図示しない)
が配置される。前記ロウアドレスデコーダ回路14の近
傍にはデータ線プリチャージ回路15、コモンソース切
換スイッチ回路16.ワード線プリチャージ回路17の
夫々が配置される。
前記16個に細分化されたメモリセルアレイMAの夫々
の周辺側の他端にはコモンソース切換スイッチ回路18
が配置される。
これら16個に細分化されたメモリセルアレイMAの周
辺に配置された回路12〜18はDRAMの直接周辺回
路として構成される。
前記DRAMの上辺には上辺周辺口i1%19、下辺に
は下辺周辺回路20が夫々配置される。DRAMの上側
に配置された8分割のうちの4個のメモリセルアレイI
IA〜IIDと下側に配置された4個のメモリセルアレ
イIIE〜IIHとの間には中込周辺回路21が配置さ
れる。これらの周辺回路19〜21はDRAMの間接周
辺回路として構成される。
前記DRAMのメモリセルアレイ11A〜IIHの夫々
は1 [:bitlの情報を保持するメモリセルが行列
状に複数配置される。メモリセルはメモリセル選択用M
ISFETと情報蓄積用容量素子との直列回路で構成さ
れる。前記直接周辺回路12〜18゜間接周辺回路19
〜21の夫々は基本的に相補型MISFETとバイポー
ラトランジスタとを組合せて構成される。
半導体ペレット1に搭載されるDRAMは、アドレスノ
ンマルチ方式を採用するので、同第4図に示すように、
長方形状の各辺に沿った周辺部分において、l/4子形
酸形成複数個の外部端子(ポンディングパッド)BPを
配置する。半導体ペレット1の上側の短辺に沿った領域
にはアドレス信号A、、 A、、 A、、、 A工、p
 All@ A12g A工4tAi!tA、6.基準
電源電圧Vss、動作電源電圧vccの夫々が印加され
る外部端子BPが配置される。下側の短辺に沿った領域
にはリフレッシュ信号RF。
チップイネーブル信号GE、アウトプットイネープル信
号OE、ライトイネーブル信号WE、データ出力信号D
out 、データ入力信号Din、アドレス信号Aよ3
.A□、、A、、の夫々が印加される外部端子BPが配
置される。また、この領域には基準電圧V refが印
加される外部端子BPが配置される。左側の長辺に沿っ
た領域にはA。、A工、A2゜A1、動作電源電圧Vc
cの夫々が印加される外部端子BPが配置される。右側
の長辺に沿った領域にはA4. A、、 A、、 A7
、基準電源電圧Vssの夫々が印加される外部端子BP
が配置される。
このDRAMが搭載された半導体ペレット1は例えば5
.3 X L 2.4[mm” ]のチップサイズで構
成される。
前記半導体ペレット1の外部端子BPは、前記第1図に
示すように、樹脂封止部5内に引き回されたインナーリ
ード3Aの先端側に電気的に接続される。この接続はボ
ンディングワイヤ4で行われる。ボンディングワイヤ4
は例えばAuワイヤを使用する。ボンディングワイヤ4
はこれに限定されないがボール・ボンディング法でボン
ディングされる。ボール・ボンディング法は、ボンディ
ングワイヤ4の一端側に金属ボールを形成し、この金属
ボールを熱圧着に超音波振動を併用して外部端子BPに
ボンディングする方式である。ボンディングワイヤ4の
他端側は同様に熱圧着に超音波振動を併用してインナー
リード3Aの表面にボンディングされる。また、前記ボ
ンディングワイヤ4としてはCuワイヤやAJワイヤを
使用してもよい。
前記インナーリード3Aの先端側の表面つまりボンディ
ング領域にはAgメツキ層3aが設けられる。Agメツ
キ層3aはインナーリード3Aの表面とボンディングワ
イヤ4との接続に際してボンダビリティを高める目的で
形成される。
前記インナーリード3Aと半導体ペレット1との間に設
けられた絶縁フィルム2は、主に両者間を電気的に分離
し、かつ両者間を接着する目的で形成される。絶縁フィ
ルム2は例えば熱硬化性樹脂であるポリイミド系樹脂フ
ィルムで形成される。
このポリイミド系樹脂フィルムは例えば100〜300
[μm]程度の厚さで形成される。また、必要に応じて
、絶縁フィルム2の表面には接着剤層を設ける。絶縁フ
ィルム2は、半導体ペレット1と実質的に同様の平面長
方形状で形成し、半導体ペレット1の平面サイズに比べ
て若干大きい平面サイズで形成する。
前記樹脂封止部5は例えばフェノール硬化型エポキシ系
樹脂で形成される。このフェノール硬化型エポキシ系樹
脂にはシリコーンゴム及びフィラーが添加される。シリ
コーンゴムは、若干量添加され、フェノール硬化型エポ
キシ系樹脂の弾性率を低下させる作用がある。フィラー
は1球形の酸化珪素粒で形成され、熱膨張率を低下させ
る作用がある。
このZIP構造を採用する樹脂封止型半導体装!10は
400[m1llのサイズで構成される。
このように構成されるZIP構造を採用する樹脂封止型
半導体装置10は前記第1図及び第3図に示すようにタ
ブを廃止した所謂タブレス構造で構成される。タブの廃
止により、半導体ペレット1の裏面に絶縁フィルム2を
介在させてインナーリード3Aを配置し、このインナー
リード3Aは半導体ペレット1を横切れるように構成さ
れる。半導体ペレット1は前述のように各辺に沿って外
部端子BPが配置されるので、樹脂封止部5のアウター
リード3が配列された面と対向しかつ最つども離隔した
半導体ペレット1の辺に沿って配置された外部端子BP
に接続されるインナーリード3Aは半導体ペレット1の
下側を通過する。半導体ペレット1のアウターリード3
Aの配列された面から最つども離隔した辺は、第1図中
上側の辺であり、前記第4図においては左側の長辺に相
当する。半導体ペレット1の下側を通過するインナーリ
ード3Aはアドレス信号A、(11番端子)、八〇(1
2番端子)、A、(17番端子)、A、(18番端子)
の合計4本である。これら4本のインナーリード3Aは
絶縁フィルム2を介在させて半導体ペレット1を支持す
る。このインナーリード3Aの半導体ペレット1を支持
する部分は、その他の部分又は他のインナーリード3A
に比べて若干半導体ペレット1の配置される方向と反対
方向に折り曲げられ(下げられ)でいる、つまり、半導
体ペレット1の外部端子BPの位置とインナーリード3
Aの先端のボンディング領域の位置との差を小さくし、
ボンディングし易いように構成される。
この半導体ペレット1の下側を通過する4本のインナー
リード3Aの絶縁フィルム2が存在する領域の幅寸法は
、それ以外のインナーリード3Aの樹脂封止部5内で引
き回される領域の幅寸法に比べて細く構成される。また
、前記4本のインナーリード3Aの幅寸法は基準電源電
圧Vss、動作電源電圧Vccの夫々が印加されるイン
ナーリード3Aの幅寸法に比べて細く構成される。つま
り。
前記4本のインナーリード3Aは、その幅寸法を細くす
ることにより、絶縁フィルム2を介在させた半導体ペレ
ット1との間に形成される寄生容量を低減するように構
成される。インナーリード3Aの幅寸法を細くすること
は抵抗値の増加につながるが、本実施例は、抵抗値の増
加に比べて、アクセスタイムの高速化に寄生容量が大き
く関与するのでこの寄生容量を積極的に小さくする。
また、半導体ペレット1の絶縁フィルム1を介在させた
下側には基準電源電圧Vssが印加されたインナーリー
ド3A(10番端子)、動作電源電圧Vccが印加され
たインナーリード3A(19番端子)の合計2本が配置
される。この2本のインナーリード3Aの幅寸法は、他
のインナーリード3Aの樹脂封止部5内での引き回され
た領域の幅寸法に比べて太く構成される。基準電源電圧
Vssが印加されたインナーリード3Aは、前記第4図
中、下側の短辺(下辺周辺回路21側)の右部分に配置
される。動作電源電圧Vccが印加されたインナーリー
ド3Aは、第4図中、上側の短辺(上辺周辺回路19側
)の右部分に配置される。つまり、2本のインナーリー
ド3Aは、半導体ペレット1の対向する短辺側の夫々に
配置され、半導体ペレットlの角部の2点を支持する。
前記アドレス信号A。、A、、 A、、 A、の夫々が
印加される4本のインナーリード3Aは積極的に幅寸法
を細くしているので、半導体ペレット1の実質的な支持
は電源が印加された前記2本のインナーリード3Aによ
り行われる。
前記基準電源電圧Vssが印加されたインナーリード3
A、動作電源電圧Vccが印加されたインナーリード3
Aの夫々は半導体ペレット1の短辺側の近傍においてア
ウターリード3Bに即座に一体化される。つまり、2本
の夫々のインナーリード3Aは、樹脂封止部5内での引
き回しの領域が少なく、短い寸法で構成され、インダク
タンスを低減できるように構成される。
また、リフレッシュ信号RFが印加されるインナーリー
ド3A、アドレス信号A9が印加されるインナーリード
3Aの夫々は先端部分において2本に分岐される。イン
ナーリード3Aの先端側の分岐された一方はボンディン
グ領域としてボンディングワイヤ4に接続される。イン
ナーリード3Aの先端側の分岐された他方は半導体ペレ
ット1の下側に絶縁フィルム2を介在させて配置される
この分岐された他方は、前記基準電源電圧Vss、動作
電源電圧Vccの夫々が印加されたインナーリード3A
で支持される2点以外において、半導体ペレット1の他
の2点を支持するように構成される。つまり、リフレッ
シュ信号RFが印加されるインナーリード3Aの先端側
の分岐された他方は、第4図中、下側の短辺(下辺周辺
回路21側)の左部分に配置される。また、アドレス信
号A、が印加されるインナーリード3Aの先端側が分岐
された他方は、第4図中、上側の短辺(上辺周辺回路1
9側)の左部分に配置される。すなわち、基準電源電圧
Vss、動作電源電圧Vcc、リフレッシュ信号RF、
アドレス信号A、の夫々が印加される4本のインナーリ
ード3Aの先端部分は、半導体ペレット1の各角部に配
置され、絶縁フィルム2の長方形状の各角部に接着され
る。つまり、絶縁フィルム2はその各角部において4点
で支持される。
したがって、絶縁フィルム2は適度な張力を持ってイン
ナーリード3Aに支持することができる。
このように、平面長方形状の各辺に沿った素子形成面に
外部端子BPを複数配置する半導体ペレット1が樹脂封
止部5で封止されるZIP構造の樹脂封止型半導体装I
EIOであって、前記半導体ペレット1の素子形成面と
対向する裏面に、絶縁フィルム2を介在させ、前記樹脂
封止部5のアウターリード3Bが配置された面と対向し
かつ最つども離隔した半導体ペレット1の辺に沿って配
置された外部端子BPに電気的に接続される信号用イン
ナーリード(A、、A□、A2、A、)3Aを配置し、
前記半導体ペレット1の裏面に、前記絶縁フィルム2を
介在させ、前記半導体ペレット1を支持する電源用イン
ナーリード(Vss、 Vcc) 3 Aを配置する。
この構成により、前記半導体ペレット1の最つども離隔
した辺に沿って配置された外部端子BPに電気的に接続
される信号用インナーリード3Aを半導体ペレット1の
占有面積内において引き回し、この信号用インナーリー
ド3Aの引き回しに相当する分、樹脂封止部5のサイズ
を縮小することができるので、ZIP構造の樹脂封止型
半導体装置10の小型化を図ることができると共に、前
記電源用インナーリード3Aで半導体ペレット1、絶縁
フィルム2の夫々の支持を補強し、半導体ペレット1を
安定に保持することができるのでZIP構造の樹脂封止
型半導体装110の歩留りを向上することができる。ま
た、前記半導体ペレット1の裏面に配置された信号用イ
ンナーリード3Aの長さは引き回した場合に比べて短縮
され、この信号用インナーリード3Aのインダクタンス
を小さくすることができるので、信号ノイズを低減し、
半導体ペレット1に搭載されたDRAMの誤動作を防止
し、ZIP構造の樹脂封止型半導体装!10の電気的信
頼性を向上することができる。また、ZIP構造の樹脂
封止型半導体装置10は、その小型化により、メモリボ
ード上での実装密度を高めることができる。
また、前記半導体ペレット1の裏面に前記絶縁フィルム
2を介在させて配置された信号用インナーリード3Aの
幅寸法は、それ以外の信号用インナーリード3Aの前記
半導体ペレット1の周囲を引き回す部分の幅寸法に比べ
て細く構成される。
この構成により、前記半導体ペレット1の裏面に配置さ
れた信号用インナーリード3Aと半導体ペレット1どの
間に形成される寄生容量を低減し、信号用インナーリー
ド3Aのアドレス信号の伝達速度を速くすることができ
るので、ZIP構造の樹脂封止型半導体装置10(DR
AM)の動作速度の高速化を図ることができる。
また、前記半導体ペレット1の裏面に前記絶縁フィルム
2を介在させて配置された電源用インナーリード3Aの
幅寸法は、前記半導体ペレットlの裏面に前記絶縁フィ
ルム2を介在させて配置された信号用インナーリード3
Aの幅寸法に比べて太く構成される。この構成により、
前記電源用インナーリード3Aと半導体ペレット1との
間に形成される寄生容量を増加し、前記半導体ペレット
1に搭載されたDRAMで使用される電源のノイズをカ
ップリング作用により低減することができるので、ZI
P構造の樹脂封止型半導体装[10の電気的信頼性を向
上することができる。また、前記電源用インナーリード
3Aのインダクタンスを小さくシ、電源ノイズを低減す
ることができるので、ZIP構造の樹脂封止型半導体装
置10の電気的信頼性を向上することができる。また、
前記電源用インナーリード3A及び前記半導体ペレット
1の裏面に配置された4本の信号用インナーリード3A
は、前記半導体ペレット1に搭載されたDRAMの動作
で発生する熱を前記絶縁フィルム2、前記電源用インナ
ーリード3A及び前記半導体ペレット1の裏面に配置さ
れた4本の信号用インナーリード3Aの夫々を通して樹
脂封止部5の外部に放出することができるので、樹脂封
止型半導体装11110の熱抵抗を低減することができ
る。
なお、前記ZIP構造を採用する樹脂封止型半導体装置
10は、半導体ペレット1の支持に電源用インナーリー
ド3Aを使用したが、ノンコネクション用インナーリー
ド(空ピン)がある場合にはこれを使用してもよい。
(実施例■) 本実施例■は、前記実施例IのZ I PQ造を採用す
る樹脂封止型半導体装置のインナーリードの形状を変え
た、本発明の第2実施例である。
本発明の実施例■であるZIP構造を採用する樹脂封止
型半導体装置の基本的構造を第5図(拡大部分断面外観
図)で示す。
本実施例のZIP構造を採用する樹脂封止型半導体装1
10は、第5図に示すように、基本的には前記実施例I
のものと実質的に同様に構成される。
半導体ペレット1の短辺側の夫々は基準電源電圧Vss
、動作電源電圧Vccの夫々が印加された2本のインナ
ーリード3Aで支持される。つまり、絶縁フィルム2は
2点で支持される。
このように構成されるZIP構造を採用する樹脂封止型
半導体装1110は、前記実施例■と実質的に同様の効
果を奏することができる。
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に
基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々変更可能であることは勿論である。
例えば、本発明は、前記ZIP構造を採用する樹脂封止
型半導体装置10の半導体ペレット1にSRAM、RO
M等他0メモリを搭載してもよい。
また、本発明は、ZIP構造以外のシングルインライン
パッケージ構造を採用する半導体装置に適用することが
できる。
また、本発明は、前記実施例のZIP構造を採用する樹
脂封止型半導体装置において、半導体ペレット1に4C
Mbit]又はそれ以上の大容量のDRAMを搭載して
もよい。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
シングルインラインパッケージ構造を採用する樹脂封止
型半導体装置において、小型化を図ることができる。
また、前記樹脂封止型半導体装置において、前記小型化
を図ると共に歩留りを向上することができる。
また、前記樹脂封止型半導体装置において、電気的信頼
性を向上することができる。
また、前記樹脂封止型半導体装置において、動作速度の
高速化を図ることができる。
また、前記樹脂封止型半導体装置の熱抵抗を低減するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例IであるZIP構造を採用す
る樹脂封止型半導体装置の基本的構造を示す拡大部分断
面外観図、 第2図は、前記ZIP構造を採用する樹脂封止型半導体
装置の外観図、 第3図は、前記ZIP構造を採用する樹脂封止型半導体
装置の要部断面図、 第4図は、前記ZIP構造を採用する樹脂封止型半導体
装置の半導体ペレットのレイアウト図、第5図は、本発
明の実施例■であるZIP構造を採用する樹脂封止型半
導体装置の基本的構造を示す拡大部分断面外観図である
。 図中、1・・・半導体ペレット、2・・・絶縁フィルム
、3A・・・インナーリード、3B・・・アウターリー
ド、4・・・ボンディングワイヤ、5・・・樹脂封止部
、10・・・ZIP構造を採用する樹脂封止型半導体装
置、BP・・・外部端子である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、平面方形状の各辺に沿った素子形成面に外部端子を
    複数配置する半導体ペレットが樹脂封止部で封止される
    シングルラインパッケージ構造の樹脂封止型半導体装置
    であって、前記半導体ペレットの素子形成面と対向する
    裏面に、絶縁材を介在させ、前記樹脂封止部のアウター
    リードが配置された面と対向しかつ最っとも離隔した半
    導体ペレットの辺に沿って配置された外部端子に電気的
    に接続される信号用インナーリードを配置すると共に、
    前記半導体ペレットの裏面に、前記絶縁材を介在させ、
    前記半導体ペレットを支持する電源用インナーリード又
    はノンコネクション用インナーリードを配置したことを
    特徴とする樹脂封止型半導体装置。 2、前記半導体ペレットの裏面に前記絶縁材を介在させ
    て配置された信号用インナーリードの幅寸法は、それ以
    外の信号用インナーリードの前記半導体ペレットの周囲
    を引き回す部分の幅寸法に比べて細く構成されることを
    特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置。 3、前記半導体ペレットの裏面に前記絶縁材を介在させ
    て配置された電源用インナーリード又はノンコネクショ
    ン用インナーリードの幅寸法は、前記半導体ペレットの
    裏面に前記絶縁材を介在させて配置された信号用インナ
    ーリードの幅寸法に比べて太く構成されることを特徴と
    する請求項1又は請求項2に記載の樹脂封止型半導体装
    置。 4、前記樹脂封止型半導体装置はジグザグインラインパ
    ッケージ構造で構成されることを特徴とする請求項1乃
    至請求項3に記載の夫々の樹脂封止型半導体装置。 5、前記半導体ペレットは、バイポーラトランジスタ及
    び相補型MISFETを混在するダイナミック型ランダ
    ムアクセスメモリが搭載されることを特徴とする請求項
    1乃至請求項4に記載の夫々の樹脂封止型半導体装置。
JP1143676A 1987-10-20 1989-06-05 樹脂封止型半導体装置 Expired - Lifetime JP2748940B2 (ja)

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KR1019900007758A KR0154532B1 (ko) 1989-06-05 1990-05-29 수지봉지형 반도체장치
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FR2760289A1 (fr) * 1997-02-28 1998-09-04 Samsung Electronics Co Ltd Boitier de puce de semiconducteur ayant une structure combinee de conducteurs situes sur la puce et de conducteurs normaux standards

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JPS6379361A (ja) * 1986-09-24 1988-04-09 Hitachi Vlsi Eng Corp 立設実装形半導体装置
JPS63244657A (ja) * 1987-03-30 1988-10-12 Toshiba Corp 半導体装置

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