JPH0381279A - β―ラクタムエラスターゼ阻害剤 - Google Patents

β―ラクタムエラスターゼ阻害剤

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JPH0381279A
JPH0381279A JP2145259A JP14525990A JPH0381279A JP H0381279 A JPH0381279 A JP H0381279A JP 2145259 A JP2145259 A JP 2145259A JP 14525990 A JP14525990 A JP 14525990A JP H0381279 A JPH0381279 A JP H0381279A
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ロバート・エイ・フオルクマン
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、強力なエラスターゼ阻害活性を示す新規のβ
−ラクタム化合物に係わる。
ヒト多形核白血球エラスターゼは、肺気腫に見られる肺
組織の破壊の主因とされる酵素である。
ヒト白血球エラスターゼは、気腫の他に、成人呼吸困難
症候群及び関節リューマチのような疾病の病因にも関与
している疑いがある。
プロテアーゼ類は、ペプチド結合切断酵素類の中の重要
な酵素群の1つである。この酵素は、消化、血液凝塊の
形成及び溶解、活性形態ホルモンの形成、外来細胞及び
外来生物に対する免疫反応、並びに例えば肺気腫及び関
節リューマチのような様々な疾患に対する体の反応とい
った種々の正常な生物学的活動にとって不可欠のもので
ある。
プロテアーゼ類の1つであるエラスターゼは、結合組織
の一部分であるエラスチンを加水分解できる酵素である
。この特性は体内に存在する大部分のプロテアーゼに共
通しているというわけではない。エラスターゼは脂肪族
アミノ酸に隣接するタンパク質の非末端結合に作用する
。特に注目すべきは、天然結合組織の基質に対して広範
囲の活性を示す好中球エラスターゼである。特に、顆粒
球エラスターゼは重要である。なぜなら、顆粒球は多く
の主要な炎症の特徴をなす急性炎症及び慢性炎症の急激
な悪化に関与するからである。
顆粒球及びマクロファージに由来するプロテアーゼは、
肺気腫、関節リューマチ、気管支炎、骨関節炎、を椎炎
、狼癒、乾癩及び急性呼吸困難症候群のような炎症疾患
に関連した慢性組織破壊メカニズムに関係があると報告
されている。プロテアーゼは、酵素に強く結合してその
活性部位をブロックする阻害剤によって不活性化するこ
とができる。天然のプロテアーゼ阻害剤は健康の維持に
欠かせない体の防御メカニズムの一部分をなす。
このような自然の防御メカニズムがないと、プロテアー
ゼがこれに接触したタンパク質を総て破壊することにな
る。天然の酵素阻害物質は、酵素に強く結合するのに適
した構造を有することが判明した。従って、プロテアー
ゼを特異的且つ選択的に阻害する物質は、前述のごとき
疾病の治療に有用な強力な抗炎症剤として使用できる極
めて有望な物質と言える。
顆粒球、白血球及びマクロファージに由来するプロテア
ーゼは、炎症疾患の進行過程で生じる3段階の事象に関
与する。第1段階ではプロスタグランジン(PC)とア
ラキドン酸から合成される関連化合物とが急激に産生さ
れる。これは、プロテアーゼ阻害剤がPGの産生を防止
することを示唆するものである。炎症疾患の進行の第2
段階では、血管の浸透性に変化が生じ、その結果体液が
炎症部位に漏洩して水腫が発生する。通常はこの水腫の
程度に基づいて炎症の進行が測定される。このプロセス
は種々の合成プロテアーゼ阻害剤によって阻害すること
ができる。炎症疾患の進行の第3段階は、リンパ球、特
にマクロファージ及び多形核白血球(PMN)の発生及
び/又は存在を特徴とする特マクロファージ及びPHN
がらは種々のプロテアーゼが放出されることが判明した
。従って、プロテアーゼは炎症で重要な役割を果たすと
考えられる。
関節リューマチは、関節の接合スペースを囲む自由面と
滑液組繊により関節軟骨方向に構築された侵食端との両
方で関節軟骨が漸進的に破壊されることを特徴とする変
性炎症疾患である。この破壊プロセスは、ヒト顆粒球中
に存在する中性プロテアーゼであるタンパク質切断酵素
に起因するとされてきた。この結論は、関節リューマチ
では軟骨/バンヌス接合部に顆粒球が蓄積されるという
観察結果と、精製エラスターゼによる攻撃に応答して軟
骨が示す機械的動作についての最近の研究によって裏付
けされている。前記研究では、顆粒球酵素、特にエラス
ターゼがリューマチ性関節炎にかかった軟骨の破壊に直
接関与することが判明した。
幾つかのβ−ラクタム化合物のエラスターゼ阻害特性は
先行技術で既に知られている。米国特許第4,465,
687号にはチェナマイシン(th ienamyc 
in)エステルのN−アシル1秀導体及びこれら誘導体
の抗炎症剤としての使用が開示されている。
米国特許第4,493.839号には、1−力ルバベネ
ム3−カルボン酸エステル誘導体及びこれら誘導体の抗
炎症剤としての使用が開示されている。
米国特許第4,495,197号には、N−カルボキシ
ルチェナマイシンエステル誘導体及びその類似体と、こ
れらの物質の抗炎症剤としての使用とが開示されている
米国特許第4,547,371号には、置換セファロス
ポリンスルフォンと該物質の抗炎症剤及び抗変性剤とし
ての使用とが開示されている。
欧州特許第124,081号には、3−置換−3−セフ
ェム4−カルボキシレート−1,1−ジオキシドと該物
質の抗炎症剤及び抗変性剤としての使用とが開示されて
いる。
殆」レケ搭」L 本発明では、 下記の一紋穴■、 II及びIIIで示さ れるβ ラクタム化合物を提供する: 前記式中、 X及びYは各々が−S−又は CH2−を表し、 但しX及びYの少なくとも一方は−3−であり、あ るいはXが−s〇−又は−3O□−を表し且つYが一〇
1(2−であり、R1は水素、トリ(低級アルキル)シ
リル、C0OR”及び−CONHR’″°から選択され
、但しR”及びR゛°゛は互いに同じか又は異なり得、
各々が低級アルキル及びフェニルく低級アルキル)から
選択され、R3は水素、低級アルキル及び(低級アルキ
ル)オキシから選択され、B及びDのうち一方はく低級
アルキル)オキシカルボニル、(低級アルケニル)オキ
シカルボニル、アリルオキシカルボニル及びフェニル(
低級アルキル)オキシカルボニルから選択され、B及び
Dのうち他方は水素及び低級アルキルから選択される。
本発明は、−紋穴■、II又はIIIの化合物を゛製薬
上許容し得る希釈剤又はキャリヤーと共に含む医薬組成
物にも係わる。
本発明はまた、ヒトの肺気腫及び関節リューマチの治療
に使用するための一紋穴t、U又はHlの化合物にも係
わる。
尚、本明細書で使用するアルキル、アルケニル等の用語
は、指示のない限り直鎖及び分枝鎖の両方を含む。これ
らの用語の前に付した低級という接頭辞は、対応する基
が炭素原子を1〜6個含む、即ちC7〜C6であること
を示す。
(以下余白) 一般式I、■及び■の化合物において R1は好ましく
は水素、(t−ブチル〉ジメチルシリル、t−ブトキシ
カルボニル、ベンジルオキシカルボニルまたはベンジル
アミノカルボニルを示し、R2は好ましくはメチルを示
し、Bは好ましくはt−ブトキシカルボニルを示し、D
は好ましくは水素を示す。
活性が最も大きく、従って最も好ましい化合物は、X及
びYの双方が−3−を示し、その他の置換基が前記に定
義した好ましいグループから選択されている化合物であ
る。
一般式I、■及び■の化合物は本発明によるいくつかの
合成手順で調製される。
例えば、−a式Iにおいて、X及びYの双方がS−を示
し、R1が水素、R2がメチル、Bがt−ブトキシカル
ボニル及びDが水素を示す化合Th<ID)は以下の手
順で調製され得る。
1−iH(SzCCH3)3ン2 + CH3COO(
CH3)3 +  C52+ τ)IF −so”c 式[^の中間体は、リチウムビス(トリメチルシリル)
アミドのごとき強塩基とt−ブチルアセテート、二硫化
炭素及び塩化トリブチルスズとを、テトラヒドロフラン
(T)IF)のごとき非プロトン性溶媒中で不活性雰囲
気下に反応させることによって調製できる。一般にこの
反応は、次の段階に備えるために低温、例えば約−75
℃〜−80℃で行なう。
得られた弐rへの中間体を、3R,4R−4−アセトキ
シ−3−[IR−(ジメチル−1−ブチルシロキシ)エ
チル]−2−アゼチジノン、水素化ナトリウムのごとき
強塩基及びIIIFのごとき非プロトン性溶媒と不活性
雰囲気下に反応させて式IBの中間体を得る。この反応
は一般に約−10℃で行なう。
式IBの中間体とn−クロロスクシンイミド(NCS)
及びジイソプロピルエチルアミンのごとき塩基とをジク
ロロメタンのごとき非プロトン性溶媒中で不活性雰囲気
下に反応させて式ICの中間体を得る。この反応は一般
に温度的0℃〜−20℃で行なう。Bが水素を示しDが
t−ブトキシカルボニルを示す好ましくないほうの異性
体もある程度の量は形成される。好ましい異性体ICに
対する選択性は反応温度が低いほど向上する。
最後に、式ICの中間体を、THF、酢酸及びテトラブ
チルアンモニウムフルオリド(TBAF)のごとき非プ
ロトン性溶媒の存在中で不活性雰囲気下に式IDの化合
物に変換する。
適当な中間体■^を調製し使用することによって、Bが
異なるエステル基を示す以外は10と同じである化合物
を調製し得る。
一般式Iのその他の生成物及び−紋穴■の生成物は、前
記反応によって合成された最終生成物をジメチルアミノ
ピリジンのごとき強塩基の存在下に適当な求電子剤と更
に反応させることによって以下のごとく得られる。
IJ (1) + (エエ) 得られた式I及び式■の化合物はシリカゲルクロマトグ
ラフィーによって分離し得る。
生成される式Iの化合物は添付の表1に示すように求電
子剤の種類に依存する。
B及びDの1つが水素でなく低級アルキルを示す一紋穴
■及び■の化合物は、七−ブチルアセテート以外の適当
なt−ブチルエステルを使用し前記合成手順によって調
製され得る。
Xが−CH2−を示し、Yが−3−を示し、R1が水素
、R2がメチル、Bがt−ブトキシカルボニル及びDが
水素を示す化合物(IF>は以下の手順で調製され得る
THF J、Anセ1bioti、cs、 36.1034(1
983) (IVC) 中間体■^がら中間体IVBへの変換は、ジメチルホル
ムアミド(DMF)のごとき極性溶媒中でトリフルオロ
酸#!1(TF^)及び発泡H2sのごとき強酸の存在
下に約0℃で行なう シリカゲルクロマトグラフィー後
に化合物ffBをジクロロメタンのごとき非プロトン性
溶媒中で不活性雰囲気下にn−クロロスクシンイミド(
NCS)及び強塩基例えばジイソプロピルエチルアミン
と反応させると、多量の化合物IVCと少量の化合物I
VDとの混合物が生成する。
式■C及びIVDの2種類の化合物は光分解によって可
逆変換可能な立体異性体である。
式IVC及び■Dの化合物を前述と同様にして脱シリル
化し、所望の場合は引き続いて、同じく前述と同様にし
て求電子置換する。
化合物(IC1IH)は、−紋穴■において、XがS−
を示し、Yが−CH2−を示し、RIが水素を示し、R
2がメチルを示し、Bがt−ブトキシカルボニルでDが
水素を示す化合物(IG>、または、BとDとが入れ換
わった化合物(It()であり、以下の反応手順で調製
され得る。
3) H2S (VD) (+L7本」4中)−シ2Lノ〈チζi男〕Cあ祷謳q
’tp訃ト肋) この合成の第1段階では、ハロアリルアセテ−1−によ
るVへのアルキル化及びパラジウム触媒を用いる脱アリ
ル化を順次行なってVBを生成する。
標準的脱I〜リチル化条件(例えばトリフルオロ酢酸銀
とピリジンとを使用し、次いで)I 2Sで処理する)
で化合物VBを化合物VCに変換する。VCをチオラク
トンVDに変換するためには、ジクロロメタンのごとき
非プロトン性溶媒中でジシクロへキシルカルボジイミド
(DCC)で処理する。標準的なWitLigオレフィ
ン化を使用して化合物VE及びVFの立体異性混合物を
生成させる0次にこの立体異性混合物を標準条件下に脱
シリル化し得られた化合mrcとr I+との混合物を
シリカゲルクロマトグラフィーて′分離する。しかしな
がら、シリカゲルクロマトグラフィーでVGとVFとを
まず分離し次いで立体異性体を各々別々に脱シリル化す
るほうが好ましい。
一紋穴■の化合物が適当な3−置換−4−アセトキシ−
アゼチジン−2−オンから慣用の合成手順で調製され得
ることは理解されよう。
また、Xが−5−を示しYが−CH2−を示す式l、■
及び■の本発明の化合物をチア基Xに酸素が付加される
ように処理することによって、その他の重要な化合物が
得られる。
例えば、 本発明によって製造される一紋穴I ■及び■ の代表的な化合物を表2に示す。
表 ψ  ψ  ch     ψ ×1 1/1   の  ω   ω   の1 1 1 11 ′ct! 実」転倒 及遍り烈j2−酢酸[6−ニチリデンー7−オキソー2
.4−ジチア−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト
−3−イリデン1.1.1−ジメチルエチル[R−(E
、E)]の製造窒素雰囲気下で20mgの式; を1.5−の塩化メチレンに溶解した。湿水/アセトン
浴を使用してこの溶液を一5℃に冷却した。16Bの4
−ジメチルアミノピリジンを加え、その後0.0188
−のベンジルクロロホルメートを加えた。
得られた混合物を一5℃で1時間撹拌し、この時点で更
に16Bの4−ジメチルアミノピリジンと0.188−
のベンジルクロロホルメートとを加えた。この手順を2
回繰り返すと、薄層クロマトグラフィーにより出発材料
が検出されなくなった。75−のエチルアセテートと3
5mj!のF120とを加えて反応混合物をクエンチし
た。エチルアセテート層を分離し、8.0で2度洗浄し
、NatSO<で脱水させ、濾過、濃縮して所望の生成
物の混合物を得た。カラムクロマトグラフィー(シリカ
ゲル/9:1のヘキサン:エチルアセテート(EtO^
e))により分離及び精製すると、式: で表される1:1の混合物2〜3mgと、式:9Bとが
得られた。
炙胤透塁−酢酸[6−ニチリデンー7−オキソー2−チ
ア1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト〜3−イリデ
ンコ、−1,1−ジメチルエチルエステル[R−(E、
E)]及び酢酸[7−オキソ−6−[1−(((フェニ
ルメトキシ)カルボニル)オキシ)−エチル]−2−チ
アー1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−3−イリ
デン]、−1.1−ジメチルエチルエステル[5R−[
3R,5,α、、6.α、(R))の製造“J、 of
Antibiotics″(36p、1034−39(
1983))に記載されている方法を使用して式: で表される十分な量の化合物IV^を製造した。
N2雰囲気下で2.53HのIVAを12−の^Idr
ich乾燥DHFと乾燥上HFした。混合物を水浴で0
℃に冷却し、0.45+*I2のTF^を約1分間撹拌
しながら1分かけて加えた。水浴を除去し、H2Sを3
分間通気した。
混合物を5分間撹拌し、150信lのEt20と75−
の1120とで混合物をクエンチした。EtzO層を分
離して、水性層を75mj!の新鮮なEt20で抽出し
た。Et、zO抽出物を合し、H,Oで3度洗浄して濃
縮し、2:1のヘキサン:EtOAcを使用するシリカ
ゲルのクロマトグラフィーにかけると、 0.82gの
淡黄色油(IVB>が得られた。この油はNMRデータ
が所望の11I造と一致していた。
N2雰囲気下で0.125gの式: を20m1のCH,C1,に溶解した。混合物を一20
℃に冷却して、41HのNCSを加え、次いで5ccの
CH2Cl2に溶かした0 、054n1のジイソプロ
ピルエチルアミンを滴下した。添加後出発材料が消費さ
れたことについて混合物を薄層クロマトグラフィーで調
べて確かめた0次いでH,0で3度、ブラインで1度洗
浄し、乾燥、濃縮させて、〈シリカゲル/9:lのヘキ
サン:EtOAc)を使用してクロマトグラフィーにか
げて、5111gの1p異性体と631gのmp異性体
とを得た。HとC13についてのNHRデータは所望の
構造と一致していた。 NOE実験に基づいて主要異性
体に式: で表される構造を付与した。
N2を10〜15分間通気して60−のCCl4を脱気
し、次いで材料を還流冷却器を備えたフラスコ内で9時
間太陽灯で照射した。6:lのヘキサン:EtOAcを
使用するカラムクロマトグラフィーで生成物を単離した
窒素雰囲気下で28.5mgの式: を8−のジクロロメタンに溶解した。この溶液を一5℃
に冷却して、0.122gの4−ジメチルアミノピリジ
ンを加えた。その後0.144−のベンジルクロロホル
メートを加えた。薄層クロマトグラフィー(TLC)に
より監視した反応速度は一5℃では非常に低速であった
0反応物を室温に暖めて、反応速度を増した。更に0.
122gの4−ジメチルアミノピリジンと0.144+
1のベンジルクロロホルメートとを反応混合物に加えた
。この手順を合計4回1時間の間隔を置いて繰り返した
。それぞれ添加する前に1時間撹拌しながら反応物を一
5℃に冷却し、次いで室温に戻し、その後次の添加を行
った。最後に添加した後にTLCで調べると、僅かに痕
跡量の出発材料しか残っていなかった。反応混合物を7
5−のエチルアセテートで希釈し、H−20で6度、1
0I111のIN )ICIで2度、25−のH,0で
4度、ブラインで1度洗浄し、Na2SO4で脱水させ
、濾過して゛濃縮した。カラムクロマトグラフィー(シ
リカゲル/9:lのヘキサン: EtO^C)により生
成物を精製・分離すると、式: で表されるIBのオレフィン混合物と、28.5mgの 式: %式% X凰亘ニー酢酸[6−[1−[[(フェニルメトキシ〉
カルボニル]オキシコニチル]−7−オキソ−2,4−
ジチア−1=アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−3−
イリデン−11,1−ジメチルエチルエステル、[5R
[3E、5.α、、6.α、(R*)]コの調製 N2雰囲気下にアルミニウムホイルに包んで光を遮断し
たフラスコ内で、化合物V^15FjをC■xcL50
−を用いて溶解し、撹拌して溶液にした。これにヘキサ
ン酸エチルナトリウム酢酸エチル(leq)18−を加
え、次いでトリフェニルホスフィン2gとテトラキス(
トリフェニルホスフィン〉パラジウム錯体2gとの混合
物を一度に加えてそのまま放置した。30分後にこの混
合物にTLCを実施すると、出発材料が幾らか残ってい
ることが判った。これにトリフェニルホスフィン及びテ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム錯体を
それぞれ0.4gずつ加えた。この混合物を45分間以
上放置し、EtO^c 150mN及びIN HC15
0mN、pH2,0によって反応を停止させた。有機層
を振盪して分離し、N20で1回洗浄し、乾燥し、濃縮
すると固形物が得られ、これをEt20125個lを用
いて粉砕し、濾過し、EtzOでよく洗浄し、乾燥する
と、NMRが所望の構造と一致した固形物9.2gが得
られた。
N2雰囲気下にアルミニウムホイルで包んで光を遮断し
た装置内で、式(VB)の出発トリチル化合物7.47
gをジクロルメタン75−及びメタノール1.6−中に
溶解した。この混合物にピリジン4.3−を加えた、得
られた溶液を0℃にまで冷却し、CF、CA。
を可溶化するために充分なメタノールを加えた、■ ^gCCF35.85.をジクロルメタン25m1中に
溶解した溶液を滴下して加えた。添加10分後にTLC
を実施すると、出発材料が消失していることが判った。
反応混合物をジクロルメタンで125+mfにまで希釈
し、IN )IC175mlで1回洗浄した。得られた
懸濁液を焼結ガラス漏斗によってP遇すると、灰色固形
物7.3gが得られた。これを、まずジクロルメタンで
、次いでヘキサンでよく洗浄してから空気乾燥した。
N2雰囲気下に上記固形物を新しいCH2C(1217
5mN中に懸濁させ、素早く撹拌しながら5℃にまで冷
却した。この懸濁液にH2Sガスを5分間通し、その後
冷却するのを止め、反応混合物を1時間45分撹拌した
。次いで反応混合物を、それにN2を通すことにより脱
気し、濾過して黒色ゴム状の固形物を除去した。r液を
Na25O,で脱水し、濾過してNa2SO4を除去し
、−30℃にまで冷却し、ジシクロへキシルカルポジミ
ド2.74.をCH2C/!225−中に溶解した溶液
を5分間かけて加えた。加え終わったら冷却するのを止
め、反応混合物を放置して室温にし、1.5時間撹拌し
た。撹拌が終わったら、反応混合物を容積が1/2にな
るまで濃縮し、濾過することによりジシクロヘキシル尿
素を除去し、r液をりロマトグラフイー(シリカゲル/
9:1ヘキサン: Et0八Cへにかけると式(VD): の生成物1.21yが得られた。
化合物VD t、st、、を() !J 7 x ニル
)P = CHCO2C(CH*)il 、88g及び
ベンゼン15−と混合し、静かに還流させながら6時間
加熱した。次いで反応混合物を濃縮し、クロマトグラフ
ィー(シリカゲル/4:1ヘキサン:EtO八〇へにか
けると、化合物VE 0.34gと化合物vFi、ag
とが得られた。次いでN2雰囲気下に化合物VD0.2
8gをテ)ラヒFo7ラン5m/及び酢′r!li0.
44m1中に溶解し、1モルフッ化テトラブチルアンモ
ニウムのテトラヒドロフラン溶液2.1−を加え、反応
混合物を周囲温度で18時間撹拌した1反応混合物を、
酢酸エチルで75−にまで希釈し、N20で3回、ブラ
インで1回、1(20で1回、更にブラインで1回洗浄
し、NazSO<で脱水し、P通し、濃縮し、クロマト
グラフィー(シリカゲル/1:lヘキサン:EtO^C
)にかけると0.18hの生成物:(立体異性体の混合
物〉 が得られた。
実施例2の方法に従って、 式(ID) : の化合物80gを所望の式(I)〔式中、X及びYは両
方とも−3−であり l(+はフェニルメチルオキシカ
ルボニルであり Btはメチルであり、Bはt−ブトキ
シカルボニルであり、 且つDは水素である〕7 の化合物0.11gに変換した。
膨化A遣 N2雰囲気下に、上記形態の式(1)の化合物21Bを
ジクロルメタン1躊l中に溶解した。この溶液を5℃に
まで冷却し、85%3−クロルペルオキシ安息香酸10
Bを加え、反応混合物を70分間撹拌すると、この時点
における薄層クロマトグラフィーは、2つのスルホキシ
ドの存在と出発材料の痕跡とを示した0反応混合物を酢
酸エチル25m/及びN2010o+Nで希釈し、充分
な重亜硫酸ナトリウムを加えて、デンプンヨウ素試験紙
(starch 1odide test paper
)を使用すると過酸化物に対して陰性の結果を示した。
酢酸エチル層を分離し、N20で3回及びブラインで1
回洗浄し、Na25O<で脱水し、濃縮し、クロマトグ
ラフィー(シリカゲル/1:1ヘキサン:EtO^C)
にかけると、極性のより小さい異性体5.6Bと、極性
のより大きい異性体6.8Bとが得られた。
m−酢H[6−(1−ヒFoキシエチル)−7−オキソ
−2,4−ジチア−1−アザビシクロ[3,2,0]へ
ブト3−イリデント、1,1−ジメチルエチルエステル
汀53[3Z、5.C9,6,α、(R*)]コの調製
18 LiN(Si(C1ldz)2120−を窒素雰
囲気下に丸底フラスコに入れ、−78℃にまで冷却した
。酢酸t−ブチル16.2mj!(0,Hmol)を、
温度−70°Cが維持されるような速度で加え、この混
合物を一70℃に10分間放置し、その後CS224−
を加えた。混合物は赤色に変わり、温度は一30℃にま
で上昇した。
次いでこの混合物を冷却して一70°Cに戻し、10分
間撹拌し、そのまま0℃になるまで放置し、最後に一7
0℃にまで冷却し戻した。混合物は増粘した6塩化トリ
ブチルスズ16.25m1(0,06mol>を、温度
が−60℃以下に尊念4維持されるような速度で加えた
。混合物は透明になり、赤色はほとんど消失した0次い
で混合物を20分間放置し、その後、−60℃の過剰の
酢酸のテトラヒドロフラン溶液を用いて反応を停止させ
た。反応混合物をヘキサン1.2ffiに加え、次いで
それに水600+sj!を加えた。それからヘキサン層
を分離し、水600IIIlで5回及びブライン600
i1で1回洗浄し、脱水し、真空下に濃縮すると、明橙
色油状の式(I八): の生成物ZS、S、、が得られた。
上記生成物(約0.061mol)を乾燥テトラヒドロ
フラン150−と窒素雰囲気下に丸底フラスコ内で混合
し、撹拌して溶液にした。この溶液を一10℃にまで冷
却し、50%水素化ナトリウム2.88y(0,06m
ol)を加えた。この混合物を放置して温度を上げた。
気体発生が止んで透明な溶液が得られた後に、3R。
4R−4−アセトキシ−3−[IR−(ジメチル−t−
ブチルシロキシ〉エチル]2−アゼチジノン13.0y
(0,045mol)を加え、12時間撹拌した。IN
 HCl200−及び酢酸エチル500−で反応を停止
した1次いで酢酸エチル層を水200−で4回、ブライ
ン200II+1で1回洗浄し、脱水し、濃縮すると粗
固形物が得られた。この固形物をヘキサン175−を用
いて粉砕し、濾過し、ヘキサン15社で2回洗浄し、空
気乾燥すると、薄黄色固体状の式(IB): の生成物8.891?(47%)が得られた。
(母液をクロマトグラフィーにかけることにより更に追
加分の生成物が得られた。〉 上記生成物9.35g(0,022mol)を塩化メチ
レン225−中に、窒素雰囲気下に丸底フラスコ内で溶
解し、撹拌して溶液にした。この溶液を一20℃にまで
鈴却し、N−クロルスクシンイミド(NCS)2.96
g(0,022m01〉を加えた。次いでこの溶液に、
ジイソプロピルエチルアミン3.89m1(0,022
mol)を含有する塩化メチレン溶液(100−)を5
分間かけて加えた。この溶液を一定速で撹拌しながら一
20℃に維持した。
塩基を加えた15分後に薄層クロマトグラフィーを実施
すると、反応が完了したことが判った。この溶液を塩化
メチレンで750m1に希釈し、水150+*i’で2
回及びブライン100m+1で1回洗浄し、脱水し、濃
縮し、4:tヘキサン:EtO^Cを使用してシリカゲ
ル上でクロマトグラフィーにかけると固形物8.8g(
91%)が得られた。この固形物は、式(IC) :の
[6−[1−[[(1,1−ジメチルエチル)ジメチル
シリル]オキシ]エチル]−7−オキソ−2,4−ジチ
ア−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−3−イリ
デン]−、1.1−ジメチルエチルエステル、[5R−
[3E、5.α、、6.α、(R*)]コー酢酸の二重
結合異性体の19=1混合物であった。
上記生成物8.8g(0,021mol)をテトラヒド
ロフラン155岬中に、窒素雰囲気下に丸底フラスコ内
で混合し、撹拌して溶液にした。酢酸25.5mlを加
え、次いでTBAF(フッ化テトラブチルアンモニウム
)の114 THF溶液61.4+*fを加え、反応混
合物を20分間撹拌すると薄黄色溶液となった。この溶
液を通常の方法、例えば酢酸エチル750−で希釈し、
H2O100m1で3回、ブライン100mj!で1回
、u2o 1oo−で1回、更にブライン100−で1
回洗浄し、Na5O,で脱水し、p通し、濃縮し、イソ
プロピルエーテルを用いて粉砕して生成物(4,64g
)を得た。母液をクロマトグラフィー(50:50ヘキ
サン:酢酸エチル〉にかけることにより更に0.53.
の生成物が得られ、合計5.17y(81%〉の式(I
D) :の酢酸[6−(1−ヒドロキシエチル)−7−
オキソ−2,4−ジチア−1−アザビシクロ[3,2,
0]ヘプト−3−イリデン]−、1.1−ジ、I チル
If−ルmスyル、[5S−[3Z、5.α。
、6.α、(R*)]]が得られた。
及凰透ニー酢酸[7−オキソ−6−[1−[[(1,1
−ジメチルオキシ)カルボニル]オキシ]エチル]−2
−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプト−3−
イリデン−,1,1−ジメチルエチルエステル、[5R
−[3E、5.C16,α。
(R*)]]の調製 実施例4と同様に調製した酢酸[2−[6−(1−ヒド
ロキシエチル)−7−オキソ−2−チア−1−アザビシ
クロ[3,2,0]ヘプト−3−イリデン]−、1.1
−ジメチルエチルエステlし、[5S−[3Z、5.α
、、6.α、(R*)]]15+nをCDC1,1,5
0中に、窒素雰囲気下にフラスコ内で溶解し、氷/アセ
トン混合浴において一5℃にまで冷却した。ジメチルア
ミノピリジン(DMAP)6Bを加え、次いでピバロイ
ルクロリド0,06−を加えて30分間撹拌した。これ
にDHAPi2B及びピバロイルクロリド12−を加え
、30分間撹拌した。TLCは、出発材料が継続して存
在していることを示した。
更にDM^P]、Zmy及びピバロイルクロリド0.1
2m1を加え、30分間撹拌した。 TLCを繰り返す
と、少量の出発材料が継続して存在していることが判っ
た。
試料の一部をNMRで検査すると、生成物の出発材料に
対する比が約4:lであることが判った。更にもう一度
DHAPI2B及びピバロイルクロリド0.012m1
を加えると、TLCから出発材料の痕跡が残存すること
が判った1次いでこの混合物を酢酸エチルで50ccに
希釈し、水10ccで3回洗浄し、真空下に脱水及び濃
縮した。3:lのヘキサン:酢酸エチルを使用するシル
カゲルクロマトグラフィーによって酢酸[7−オキソ−
6−[1−[[(1,1−ジメチルオキシ)カルボニル
]オキシ]エチル]−2−チア−1〜アザビシクロ[3
,2,0]ヘプト−3−イリデン−21,1−ジメチル
エチルエステル、[5R−[3E、5.C5,6,α、
(R*)]]である生戒物16.2my(84%〉が得
られた。
乙且上2工 本発明に従って調製された化合物を、エラスターゼ阻害
剤としての相対効能について評価するために、N−t−
BoC−アラニル−アラニル−プロリルアラニン−p−
ニトロアニリドの加水分解によるヒト多形核白血球エラ
スターゼの阻害についてのプロトコル酵素アッセイを以
下のように実施した。
この試験は試薬二 0.058 TES(N−トリス[ヒドロキシメチルコ
メチル−2−アミノエタンスルホン酸)緩衝液、pH7
,5゜0.02+aM N−t−Boaアラニル−アラ
ニル−プロリル−アラニン−p−ニトロアニリド(Bo
a−^^PAN)を使用した。
まず、固形物(m、w、550)をジメチルスルホキシ
ド(DMSO)10.0−中に溶解することにより基質
を調製した0次いで緩衝液を加えて最終容積100mN
とした。
更にこの試験は、 エラスターゼ活性を含むヒト多形核白血球の粗抽出物、
及び 試験するべき阻害剤(セファロスポリンエステル〉を使
用し、これらを使用直前にDMSO中に溶解した。
試験の一部として実施した分析方法はキュベツト内で、
阻害剤を含むまたは含まないD14S00.01〜0.
1−を0.2nHBoc−^^PAN 1.Omlに加
えることからなる。混合した後、試験化合物の存在に起
因するいかなる自発加水分解も検出するように、410
帥において測定を実施した。これにPMN抽出物0.0
5+*1を加え、Beck+an Model 35分
光光度計を使用して410Bにおける光学密度(Δ00
/分)の変化の速度を測定し記録した。

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記の一般式 I 、II又はIII: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、 X及びYは各々が−S−又は−CH_2−を表し、但し
    X及びYの少なくとも一方は−S−であり、あるいはX
    が−SO−又は−SO_2−を表し且つYが−CH_2
    −であり、R^1は水素、トリ(低級アルキル)シリル
    、−COOR″及び−CONHR′″から選択され、但
    しR″及びR′″は各々が低級アルキル及びフェニル(
    低級アルキル)から選択され、 R^2は低級アルキルであり、 R^3は水素、低級アルキル及び低級アルコキシから選
    択され、 B及びDのうち一方は(低級アルキル)オキシカルボニ
    ル、(低級アルケニル)オキシカルボニル、アリルオキ
    シカルボニル及びフェニル(低級アルキル)オキシカル
    ボニルから選択され、 B及びDのうち他方は水素及び低級アルキルから選択さ
    れる] で示される化合物であって、低級という用語が炭素原子
    数1〜6の直鎖及び分枝鎖の両方を含む化合物。
  2. (2)Dが水素である請求項1に記載の化合物。
  3. (3)R^1が水素、ベンジルアミノカルボニル及びベ
    ンゾキシカルボニルから選択され、Dが低級アルキル及
    び水素から選択される請求項1に記載の式 I の化合物
  4. (4)R^1が水素であり、R^2がメチルであり、B
    がt−ブトキシカルボニルであり、Dが水素である請求
    項3に記載の化合物。
  5. (5)R^1が水素であり、R^2がメチルであり、B
    がベンゾキシカルボニルであり、Dが水素である請求項
    3に記載の化合物。
  6. (6)R^1が水素であり、R^2がメチルであり、B
    がアリルオキシカルボニルであり、Dが水素である請求
    項3に記載の化合物。
  7. (7)R^1が水素であり、R^2がメチルであり、B
    がt−ブトキシカルボニルであり、Dがメチルである請
    求項3に記載の化合物。
  8. (8)X及びYがいずれも−S−である請求項3に記載
    の化合物。
  9. (9)R^2がメチルであり、Dが水素及び低級アルキ
    ルから選択される請求項1に記載の式IIの化合物。
  10. (10)Dが水素である請求項9に記載の化合物。
  11. (11)Bがt−ブトキシカルボニルである請求項10
    に記載の化合物。
  12. (12)X及びYがいずれも−S−である請求項9に記
    載の化合物。
  13. (13)Xが−CH_2−であり、Yが−S−であり、
    Bがt−ブトキシカルボニルであり、Dが水素である請
    求項9に記載の化合物。
  14. (14)R^3が水素であり、Dが低級アルキル及び水
    素から選択される請求項1に記載の式IIIの化合物。
  15. (15)Dが水素である請求項14に記載の化合物。
  16. (16)Bがt−ブトキシカルボニルである請求項15
    に記載の化合物。
  17. (17)Xが−S−であり、Yが−CH_2−である請
    求項14に記載の化合物。
  18. (18)X及びYがいずれも−S−である請求項14に
    記載の化合物。
  19. (19)Xが−CH_2−であり、Yが−S−である請
    求項3に記載の化合物。
  20. (20)Xが−S−であり、Yが−CH_2−である請
    求項3に記載の化合物。
  21. (21)Xが−SO−又は−SO_2−である請求項3
    に記載の化合物。
  22. (22)Xが−SO−又は−SO_2−である請求項9
    に記載の化合物。
  23. (23)下記の一般式 I 、II又はIII: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、 X及びYは各々が−S−又は−CH_2−を表し、但し
    X及びYの少なくとも一方は−S−であり、あるいはX
    が−SO−又は−SO_2−を表し且つYが−CH_2
    −であり、R^1は水素、トリ(低級アルキル)シリル
    、−COOR″及び−CONHR′″から選択され、但
    しR″及びR′″は各々が低級アルキル及びフェニル(
    低級アルキル)から選択され、 R^2は低級アルキルであり、 R^3は水素、低級アルキル及び低級アルコキシから選
    択され、 B及びDのうち一方は(低級アルキル)オキシカルボニ
    ル、(低級アルケニル)オキシカルボニル、アリルオキ
    シカルボニル及びフェニル(低級アルキル)オキシカル
    ボニルから選択され、 B及びDのうち他方は水素及び低級アルキルから選択さ
    れる] で示され、低級という用語が炭素原子数1〜6の直鎖及
    び分枝鎖の両方を表す化合物を有効量含む、成人呼吸困
    難症候群、関連炎症疾患、肺気腫及び関節リューマチを
    治療するための医薬組成物。
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