JPH0374861A - レイアウト設計支援装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、レイアウト設計支援装置、さらにはコンピュ
ータによって支援される回路レイアウト設計装置いわゆ
る対話型のＣＡＤに適用して有効な技術に関するもので
１例えば半導体集積回路装置のレイアウト設計に利用し
て有効な技術に関するものである。

［従来の技術］ 従来のこの種の装置は、第６図に示すように、入力装置
１からの指示に従って複数のパターン要素からなるレイ
アウトパターンＰを記憶装置！２′を使いながら作成す
る画像編集処理、装置３′と、一定ピツチのスケール目
盛をもつル−ラ−パターンＤ′を発生するルーラ−発生
部４′と、上記レイアウトパターンＰを上記ルーラ−パ
ターンＤ′とともにディスプレイ表示する表示装置５と
を備え、第５図に示すように、操作者（設計者）が画面
上にてルーラ−パターンＤ′で距離を計りながらレイア
ウトパターンＰを作成する作業を行なっていた（例えば
、特公昭６１−２８１５２号公報参照）。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上述した技術には、次のような問題のあ
ることが本発明者らによってあきらかとされた。

すなわち、上述した装置では、画面上で距離を計るため
のルーラ−パターンの目盛ピッチが、例えば０．１μｍ
あるいはその１０のベキといったように、一定の長さに
決められていた。このため、例えば３μｍといったよう
な半端な長さを最小寸法ルールｄとする半導体集積回路
装置のレイアウト設計を行なう場合、設計者は、画面上
にて距離を計るたびに面倒な換算の手間を強いられ１作
業能率の低下、パターン間の間隔不足にアミス）などの
問題が生じ易かった。

本発明の目的は、最小寸法ルールが例えば３μｍといっ
たような中途半端な長さであっても、この最小寸法ルー
ルに従ったレイアウト設計を効率良く行なえるようにす
る。という技術を提供することにある。

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては、本明細書の記述および添附図面から明らかに
なる。であろう。

［課題を解決するための手段］ 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。

すなわち、入力装置からの指示に従って複数のパターン
要素からなるレイアウトパターンを作成してディスプレ
イ表示させるとともに、入力装置からの指示に従って任
意の長さのピッチのスケール目盛をもつルーラ−パター
ンを発生して、上記ルーラ−パターンとともにディスプ
レイ表示させるというものである。

［作用］ 上記した手段によれば、ルーラ−パターンの目盛ピッチ
を設計しようとするレイアウトパターンの最小寸法ルー
ルに併せて設定することができるため、設計者はルーラ
−パターンの目盛をそのまま使って最小寸法ルールにし
たがったレイアウト設計を行なうことができる。

これにより、最小寸法ルールが例えば３μｍといったよ
うな中途半端な長さであっても、この最小寸法ルールに
従ったレイアウト設計を効率良く行なえるようにすると
いう目的が遠戚される。

［実施例］ 以下、本発明の好適な実施例を図面に基づいて説明する
。

なお、各図中、同一符号は同一あるいは相当部分を示す
。

第１図は本発明の技術が適用されたレイアウト設計支援
装置の概略構成を示したものであって、１はキーボード
およびマウス（位置入力装置）などからなる入力装置、
２は各種のパターン要素および作成中のレイアウトパタ
ーンなどを格納する記憶装置、３は入力装置からの指示
にしたがって複数のパターン要素からなるレイアウトパ
ターンＰを作成する画像編集処理装置、４は入力装置上
からの指示に従って任意の長さのピッチのスケール目盛
をもつルーラ−パターンＤを発生する可変目盛ルーラ−
発生部、５は上記レイアウトパターンＰを上記ルーラ−
パターンＤとともにディスプレイ表示するＣＲＴ表示装
置である。

画像編集処理装置３は、マイクロ回路化された汎用情報
処理装置いわゆるマイクロコンピュータを用いて構成さ
れる。この画像編集処理装置３には、例えば、各パター
ン要素のレイアウト上の位置をそれぞれ上記ルーラ−パ
ターンＤの最寄りの目盛ピッチの位置に移し換える位置
修正処理部３１がソフトウェア的に組み込まれている。

次に、上述した装置の動作について説明する。

上述した実施例の装置では、ルーラ−パターンＤの目盛
ピッチを、１μｍあるいは１０のベキといったピッチの
ほかに、例えば第２図に示すように、３μｍといったよ
うな中途半端な長さにも任意に設定することができる。

これにより、ルーラ−パターンＤの目盛ピッチを、設計
しようとするレイアウトパターンの最小寸法ルールｄに
合わせることができる。

これによって、設計者は、ルーラ−パターンＤの目盛を
そのまま使って最小寸法ルールｄにしたがったレイアウ
ト設計を行なうことができる。この結果、最小寸法ルー
ルが例えば３μｍといったような中途半端な長さであっ
ても、この最小寸法ルールｄに従ったレイアウト設計を
効率良く行なうことができるようになる。

また、位置修正処理部３１によって、各パターン要素Ｐ
Ｌ、Ｐ２．・・・・のレイアウト上の位置をそれぞれ上
記ルーラ−パターンＤの最寄りの目盛ピッチの位置に移
し換えることにより第３図の（Ａ）と（Ｂ）に示すよう
に、あいまいに配置された各パターン要素ＰＬ、Ｐ２．
・・・・のそれぞれのレイアウト位置を、最小寸法ルー
ルｄにしたがったレイアウト位置に自動修正させること
もできる。これにより、レイアウト作成の効率を一層高
めることができる。

さらに、第４図に示すように、パターン要素Ｐｌの表示
位置をＸＹ力方向ら指示するカーソルＣ５Ｒとして上記
ルーラ−パターンＤを表示させるとともに、このルーラ
−パターンＤによるカーソルＣ３Ｒの移動を、ルーラ−
パターンＤの目盛ピッチで行なわせることにより、パタ
ーン要素ＰＬの位置指定あるいは移動などを最小寸法ル
ールｄに併せて行なう操作が非常に簡略化されるように
なる。

さらにまた、半導体処理装置のレイアウト設計に際して
は、第５図に示すように、回路部分ＰｃＣと半導体基板
上で独立させるための分離領域部分Ｐｉｉとをセットに
したパターン要素Ｐｋを予め用意することにより、分離
領域Ｐｉｉも含めたレイアウト設計を最小寸法ルールに
従って高効率に行なうことができるようになる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

例えば、ルーラ−パターンＤの形態は方眼状のパターン
であってもよい。

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体集積回路装置
のレイアウトの設計支援に適用した場合について説明し
たが、それに限定されるものではなく、例えばプリント
回路基板の部品配置あるいはランドパターンの設計支援
にも適用できる。

［発明の効果］ 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
。

すなわち、最小寸法ルールが例えば３μｍといったよう
な中途半端な長さであっても、この最小寸法ルールに従
ったレイアウト設計を効率良く行なえるようにすること
ができる、という効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例によるレイアウト設計支援装
置の概略構成図。 第２図は同装置によるディスプレイ表示画面の一例を部
分的に示す図、 第３図はレイアウトパターンを最小寸法ルールに従って
自動修正する状態を示す図、 第４図は同装置によって表示されるカーソルの例を示す
図、 第５図はレイアウトパターンの作成に用いられるパター
ン要素の一例を示す図、 第６図は従来の回路レイアウト設計支援装置の概略構成
図、 第７図は前記第６図に示した支援装置を用いてディスプ
レイ表示されたレイアウトパターンとルーラ−パターン
の関係を示す図である。 １・・・・入力装置、２・・・・記憶装置、３・・・・
画面編集処理装置、４・・・・可変目盛ルーラ−発生部
、５・・・・ディスプレイ表示装置、３１・・・・位置
修正処理部、Ｄ・・・・ルーラ−パターン、ＰＬ、Ｐ２
、Ｐｋ・・・・パターン要素、Ｐｃｃ・・・・回路部分
、Ｐｉｉ・・・・分離領域部分。 第 図 第３ 図 （Ａ） （Ｂン 一す、！ニー 第５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、入力装置からの指示に従って複数のパターン要素か
   らなる、レイアウトパターンを作成する画像編集処理手
   段と、入力装置からの指示に従って任意の長さのピッチ
   のスケール目盛をもつルーラーパターンを発生する可変
   目盛ルーラー発生手段と、上記レイアウトパターンを上
   記ルーラーパターンとともにディスプレイ表示する表示
   装置とを備えたレイアウト設計支援装置。 ２、各パターン要素のレイアウト上の位置をそれぞれ上
   記ルーラーパターンの最寄りの目盛ピッチの位置に移し
   換える位置修正処理手段を備えた特許請求の範囲第１項
   記載のレイアウト設計支援装置。 ３、上記ルーラーパターンをカーソルとして表示させる
   とともに、このカーソルの移動をルーラーパターンの目
   盛ピッチで行なわせる特許請求の範囲第１項または第２
   項記載のレイアウト設計支援装置。 ４、レイアウトパターンを構成するパターン要素として
   、回路部分と分離領域部分とをセットにしたパターン要
   素を有する特許請求の範囲第１項から第３項までのいず
   れかに記載のレイアウト設計支援装置。