JPS6026946A - ホトマスクパタ−ンの作成方法 - Google Patents
ホトマスクパタ−ンの作成方法Info
- Publication number
- JPS6026946A JPS6026946A JP58134985A JP13498583A JPS6026946A JP S6026946 A JPS6026946 A JP S6026946A JP 58134985 A JP58134985 A JP 58134985A JP 13498583 A JP13498583 A JP 13498583A JP S6026946 A JPS6026946 A JP S6026946A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- data
- photomask
- regions
- photoreceptor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明け、リードオンリメモリやランダムアクセスメモ
リのような集積回路などの製造にあたって、ホトマスク
のパターンを作成する方法に関する。
リのような集積回路などの製造にあたって、ホトマスク
のパターンを作成する方法に関する。
背景技術
このようなホトマスクパターンを感光体上に形成するに
は、その感光体の上方に光源を設けておき、光源と感光
体との間に透孔を有する遮光部材を介在し、この遮光部
材と感光体とを相対的に移動して、感光体上に選択的に
光を照射し、その後エツチングを行なう。従来では、光
を照射すべき部分をホトマスクの全領域に亘ってコンピ
ュータなどの処理回路に入力し、その処理回路からの出
力に基づいて遮光部材と感光体とを相対的に移動してい
る。したがって処理回路への入力すべきデータが膨大と
なシ、かなりの人・時間が必要となる。
は、その感光体の上方に光源を設けておき、光源と感光
体との間に透孔を有する遮光部材を介在し、この遮光部
材と感光体とを相対的に移動して、感光体上に選択的に
光を照射し、その後エツチングを行なう。従来では、光
を照射すべき部分をホトマスクの全領域に亘ってコンピ
ュータなどの処理回路に入力し、その処理回路からの出
力に基づいて遮光部材と感光体とを相対的に移動してい
る。したがって処理回路への入力すべきデータが膨大と
なシ、かなりの人・時間が必要となる。
目 的
本発明の目的は、ホトマスクパターンｋ ｂ ｆ カの
人・時間で作成することができる方法全提供するこ止で
ある。
人・時間で作成することができる方法全提供するこ止で
ある。
実施例
第１図は本発明の一実施例のブロック図である。
入力手段１からのデータはマイクロコンピュータなどに
よって実現される処理回路２に入力される。
よって実現される処理回路２に入力される。
処理回路２からの出力は、パターンゼネレータ装置３に
与えられる。パターンゼネレータ装置３では、ガラス基
板４上に感光体５が形成されており、その上方に光源６
が配置される。光源６からの光は、遮光部材７に形成さ
れたスリット８から感光体５に至る。こうして感光体５
が感光されホトマスクパターンが形成される。感光体５
に光が照射されてホトマスクパターンが形成された後に
、エツチングを行なう。こうしてリードオンリメモリや
ランダムアクセスメモリの集積回路などのパターンを製
造することができる。
与えられる。パターンゼネレータ装置３では、ガラス基
板４上に感光体５が形成されており、その上方に光源６
が配置される。光源６からの光は、遮光部材７に形成さ
れたスリット８から感光体５に至る。こうして感光体５
が感光されホトマスクパターンが形成される。感光体５
に光が照射されてホトマスクパターンが形成された後に
、エツチングを行なう。こうしてリードオンリメモリや
ランダムアクセスメモリの集積回路などのパターンを製
造することができる。
感光体５に形成されるべきホトマスクパターンの一部に
、第２図（１）に示されるようなパターン１０が含凍れ
ているときには、このパターンｌ０Ｆｉ第２図（２）で
示されるように矩形のパターン部分１０ａ、ｌＯｂ、１
０ｃに分割し、これらのパターン部分１０ａ、１０ｂ、
１０ｃを構成して、ひとつのパターン１０を作成する。
、第２図（１）に示されるようなパターン１０が含凍れ
ているときには、このパターンｌ０Ｆｉ第２図（２）で
示されるように矩形のパターン部分１０ａ、ｌＯｂ、１
０ｃに分割し、これらのパターン部分１０ａ、１０ｂ、
１０ｃを構成して、ひとつのパターン１０を作成する。
第３図を参照して、パターン部分１１け、矩形であり、
Ｘ、Ｙ平而内で角面Ａだけ傾斜しており。
Ｘ、Ｙ平而内で角面Ａだけ傾斜しており。
幅Ｗと高さＨｆｆｉ有し、その図心Ｐの座標は（ｘ ＋
ｙ）で示されている。このときＷ −Ｈであるときもあ
り、Ｗ〜Ｈであるときもある。処理回路２ＶＣＦｉ、入
力手段Ｈから各パターン部分１１の図心Ｐの座標データ
Ｘ＋ Ｙｓ高さＨ１幅Ｗおよび角度Ａが入力される。
ｙ）で示されている。このときＷ −Ｈであるときもあ
り、Ｗ〜Ｈであるときもある。処理回路２ＶＣＦｉ、入
力手段Ｈから各パターン部分１１の図心Ｐの座標データ
Ｘ＋ Ｙｓ高さＨ１幅Ｗおよび角度Ａが入力される。
パターンゼネレータ装置３において、駆動手段１２は感
光体５をＸ、Ｙ平面内においてＸ方向およびＹ方向に移
動する。遮光部材７によって形成されるスリット８の形
状に対応した高さＨおよび幅Ｗけ、駆動手段１３によっ
て変化されることができる。
光体５をＸ、Ｙ平面内においてＸ方向およびＹ方向に移
動する。遮光部材７によって形成されるスリット８の形
状に対応した高さＨおよび幅Ｗけ、駆動手段１３によっ
て変化されることができる。
第４図は、感光体５上に形成されるべきホトマスクパタ
ーンを示す。この感光体５上に形成されるホトマスクパ
ターンは、複数の同一のパターン領域ＣＩ、Ｃ２，・・
・、Ｃｉ、Ｃｊを有している。
ーンを示す。この感光体５上に形成されるホトマスクパ
ターンは、複数の同一のパターン領域ＣＩ、Ｃ２，・・
・、Ｃｉ、Ｃｊを有している。
このパターン領域のＣＩ、Ｃ２，・・・、Ｃｉ、Ｃｊの
ひとつＣ１’（ｒ−基準パターン領域として第５図に示
す。この基準パターン領域Ｃ１け、第５図に示されるよ
うにパターン１０．１４を有する。このパターン１０．
１４は、第６図に示されるように矩形に分けられる。パ
ターン１４は、矩形自体である。パターン１０け、矩形
のパターン部分１０ａ、１０ｂ、１０ｃに分けられる。
ひとつＣ１’（ｒ−基準パターン領域として第５図に示
す。この基準パターン領域Ｃ１け、第５図に示されるよ
うにパターン１０．１４を有する。このパターン１０．
１４は、第６図に示されるように矩形に分けられる。パ
ターン１４は、矩形自体である。パターン１０け、矩形
のパターン部分１０ａ、１０ｂ、１０ｃに分けられる。
基準パターン領域Ｃ１に含まれている矩形のパターン１
４および矩形のパターン部分１０ａ、１０ｂ、１０ｃに
関する第３図に示されたデータＸ。
４および矩形のパターン部分１０ａ、１０ｂ、１０ｃに
関する第３図に示されたデータＸ。
Ｙ、Ｈ，Ｗ、Ａを作成する。こうして得られた基準パタ
ーン領域Ｃ１のデータに基づいて、そのデータを補正し
て残余のパターン領域Ｃ２，・・・、ＣＩ ＋ Ｃ３の
データを処理回路２において作成する。
ーン領域Ｃ１のデータに基づいて、そのデータを補正し
て残余のパターン領域Ｃ２，・・・、ＣＩ ＋ Ｃ３の
データを処理回路２において作成する。
パターン領域Ｃ２け、基準パターン領域Ｃ１のＸ方向に
ずれた位置にあり、したがって基準パターン領域Ｃ１の
データのうち値Ｘを置きかえるだけでよい。またパター
ン領域Ｃｊけ基準パターン領域ＣＩからｘ、Ｙ方向にず
れており、したがってこのパターン領域Ｃｊに関するデ
ータは基準パターン領域Ｃ１のデータの値ｘ ＊ ｙ
ｔおきかえるだけでよい。このようにして感光体５上に
形成されるホトマスクパターンを形成するためにパター
ンゼネレータ装置３に入力すべきデータの作成が簡素化
される。
ずれた位置にあり、したがって基準パターン領域Ｃ１の
データのうち値Ｘを置きかえるだけでよい。またパター
ン領域Ｃｊけ基準パターン領域ＣＩからｘ、Ｙ方向にず
れており、したがってこのパターン領域Ｃｊに関するデ
ータは基準パターン領域Ｃ１のデータの値ｘ ＊ ｙ
ｔおきかえるだけでよい。このようにして感光体５上に
形成されるホトマスクパターンを形成するためにパター
ンゼネレータ装置３に入力すべきデータの作成が簡素化
される。
基準パターン領域Ｃ１，Ｃ２に含まれて（八る矩形のパ
ターン１４及びパターン部分１０ａ、１０１）、１０ｃ
に関するデータ及びこの基準パターン領域Ｃ１と同様な
パターン領域Ｃ２，・・・、Ｃｉ。
ターン１４及びパターン部分１０ａ、１０１）、１０ｃ
に関するデータ及びこの基準パターン領域Ｃ１と同様な
パターン領域Ｃ２，・・・、Ｃｉ。
Ｃｊに関するデータＸ、ｙ＋ Ｈ＋ Ｗ、Ａは、処理回
路２において第７図（１）で示されているように作成さ
れてパターンゼネレータ装置３に与えられる。
路２において第７図（１）で示されているように作成さ
れてパターンゼネレータ装置３に与えられる。
規則的な矩形パターンを複数個作成するに当っては、第
７図ｆｉ＋で示されるデータ量をもつと簡略にすること
ができる。例えば第に番目の矩形パターンのＸｋ、Ｙｋ
＋ Ｈｋ、Ｗｋ、Ａｋのうち次のに＋１番目の矩形パタ
ーンのデータにおいてｙｋ−ｙｋ＋１ ・・・（１） Ｈｋ−Ｈｋ＋１ ・・・（２） Ｗｋ−Ｗｋ＋１ ・・・（３） Ａｋ−Ａｋ＋１ ・・・（４） であって、ｘｋとｘ ｋ ＋１だけが異なるときには。
７図ｆｉ＋で示されるデータ量をもつと簡略にすること
ができる。例えば第に番目の矩形パターンのＸｋ、Ｙｋ
＋ Ｈｋ、Ｗｋ、Ａｋのうち次のに＋１番目の矩形パタ
ーンのデータにおいてｙｋ−ｙｋ＋１ ・・・（１） Ｈｋ−Ｈｋ＋１ ・・・（２） Ｗｋ−Ｗｋ＋１ ・・・（３） Ａｋ−Ａｋ＋１ ・・・（４） であって、ｘｋとｘ ｋ ＋１だけが異なるときには。
第７図（２）で示されるようにに＋１番目のデータとし
てｘ ｋ ＋１ ｋ処理回路２からパターンゼネレータ
装置３に入力する。このようにしてデータｆｉｋ減少す
ることが可能となる。このようなデータ量の減少の手順
は、全てのパターン領域Ｃ１，Ｃ２゜・・・、Ｃｉ、Ｃ
ｊにわたって行なうことができ、あるいけ各パターン領
域ＣＩ、Ｃ２，・・・、Ｃｉ、Ｃｊ内で個別的に行なう
ことができる。
てｘ ｋ ＋１ ｋ処理回路２からパターンゼネレータ
装置３に入力する。このようにしてデータｆｉｋ減少す
ることが可能となる。このようなデータ量の減少の手順
は、全てのパターン領域Ｃ１，Ｃ２゜・・・、Ｃｉ、Ｃ
ｊにわたって行なうことができ、あるいけ各パターン領
域ＣＩ、Ｃ２，・・・、Ｃｉ、Ｃｊ内で個別的に行なう
ことができる。
入力手段１の操作によって処理回路２からバクーンゼネ
レーク３に与えるホトマスクパターンに関するデータを
作成する基準を要約して述べると次のようになる。（１
）感光体５に形成されるべきホトマスクパターンに含ま
れている同一のパターンを有する複数の領域ＣＩ、Ｃ２
，・・・＋ Ｃｒ ＊ Ｃｊを選択する。（２）各パタ
ーン領域ＣＩ、Ｃ２，・・・。
レーク３に与えるホトマスクパターンに関するデータを
作成する基準を要約して述べると次のようになる。（１
）感光体５に形成されるべきホトマスクパターンに含ま
れている同一のパターンを有する複数の領域ＣＩ、Ｃ２
，・・・＋ Ｃｒ ＊ Ｃｊを選択する。（２）各パタ
ーン領域ＣＩ、Ｃ２，・・・。
Ｃｉ、Ｃｊのうちの１つを基準パターン領域Ｃ１と定め
、この基準パターン領域Ｃ１のデータ全作成する。（３
）この基準パターン領域における矩形パターンのデータ
を作成するに当って、出来るだけ規則性を出すようにし
てデータを作成する。（４）基準パターン領域Ｃ１のデ
ータを作成した後には。
、この基準パターン領域Ｃ１のデータ全作成する。（３
）この基準パターン領域における矩形パターンのデータ
を作成するに当って、出来るだけ規則性を出すようにし
てデータを作成する。（４）基準パターン領域Ｃ１のデ
ータを作成した後には。
その残余のパターン領域Ｃ２，・・・、Ｃｉ、Ｃｊのデ
ータを作成する。このような手順は他の同一のパターン
を有する複数のパターン領域に関しても同様に行なわね
る。
ータを作成する。このような手順は他の同一のパターン
を有する複数のパターン領域に関しても同様に行なわね
る。
効果
以上のように本発明によねば、ホトマスクパターンを可
及的に少ない人・時間で作成することができるようにな
り、生産性が向上される。
及的に少ない人・時間で作成することができるようにな
り、生産性が向上される。
第１図は本発明の一実施例を示す図、第２図はパターン
１０の入力手順を示す図、第３図はパターン部分１１に
関するデータを示す図、第４図は感光体５上にホトマス
クパターンを示す図、第５図は基準パターン領域Ｃ１を
示す図、第６図はそノ基準パターン領域ＣＩのデータの
手順を示す図。 第７図はパターンデータを具体的に示す図である。 １・・・入力手段、２・・・処理回路、３・・・パター
ンゼネレータ装置、５・・・感光体、６・・・光源、７
・・・遮光部材、１０．１４・・・パターン、ＣＩ・・
・基準パターン領域、Ｃ２，・・・、 Ｃｉｍ Ｃｊ・
・・パターン領域（＋） （２） 第２図 第３図 第４図 Ｃ１ 第５図 第６図 エ ート。 □ｌ
１０の入力手順を示す図、第３図はパターン部分１１に
関するデータを示す図、第４図は感光体５上にホトマス
クパターンを示す図、第５図は基準パターン領域Ｃ１を
示す図、第６図はそノ基準パターン領域ＣＩのデータの
手順を示す図。 第７図はパターンデータを具体的に示す図である。 １・・・入力手段、２・・・処理回路、３・・・パター
ンゼネレータ装置、５・・・感光体、６・・・光源、７
・・・遮光部材、１０．１４・・・パターン、ＣＩ・・
・基準パターン領域、Ｃ２，・・・、 Ｃｉｍ Ｃｊ・
・・パターン領域（＋） （２） 第２図 第３図 第４図 Ｃ１ 第５図 第６図 エ ート。 □ｌ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ホトマスクの同一のパターンを有する複数の領域を選択
し。 各領域のうちの１つの基準パターンデータを作成し。 この基準パターンデータを補正して各領域毎のパターン
データを作成し。 前記各領域毎のパターンデータに基づいてホトマスクパ
ターンを作成することを特徴とするホトマスクパターン
の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58134985A JPS6026946A (ja) | 1983-07-22 | 1983-07-22 | ホトマスクパタ−ンの作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58134985A JPS6026946A (ja) | 1983-07-22 | 1983-07-22 | ホトマスクパタ−ンの作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6026946A true JPS6026946A (ja) | 1985-02-09 |
Family
ID=15141225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58134985A Pending JPS6026946A (ja) | 1983-07-22 | 1983-07-22 | ホトマスクパタ−ンの作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6026946A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103029627A (zh) * | 2012-12-10 | 2013-04-10 | 芜湖市顺昌汽车配件有限公司 | 多功能汽车后视镜 |
-
1983
- 1983-07-22 JP JP58134985A patent/JPS6026946A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103029627A (zh) * | 2012-12-10 | 2013-04-10 | 芜湖市顺昌汽车配件有限公司 | 多功能汽车后视镜 |
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