JP3057580B2 - 露光装置及びこれを用いたレイアウトデータの作成方法 - Google Patents
露光装置及びこれを用いたレイアウトデータの作成方法Info
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- JP3057580B2 JP3057580B2 JP5651691A JP5651691A JP3057580B2 JP 3057580 B2 JP3057580 B2 JP 3057580B2 JP 5651691 A JP5651691 A JP 5651691A JP 5651691 A JP5651691 A JP 5651691A JP 3057580 B2 JP3057580 B2 JP 3057580B2
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- Japan
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置及びこれを用い
たレイアウトデータの作成方法に関し、特に、大規模集
積回路（ＬＳＩ）のマスク（ＭＡＳＫ）を作成するのに
用いられる露光装置及びこれを用いたレイアウトデータ
の作成方法に関する。
たレイアウトデータの作成方法に関し、特に、大規模集
積回路（ＬＳＩ）のマスク（ＭＡＳＫ）を作成するのに
用いられる露光装置及びこれを用いたレイアウトデータ
の作成方法に関する。
【０００２】従来、露光技術によってウエハ上に多層配
線を行う場合、導通させる配線の交差部にはコンタクト
窓を設けてこれを行っており、両者のコンタクトを確実
にするために、一方の配線パターンに膨出パターンを設
けている。ところが、この配線上への膨出パターンの形
成は手間がかかり、この膨出パターン形成の高速化が望
まれている。
線を行う場合、導通させる配線の交差部にはコンタクト
窓を設けてこれを行っており、両者のコンタクトを確実
にするために、一方の配線パターンに膨出パターンを設
けている。ところが、この配線上への膨出パターンの形
成は手間がかかり、この膨出パターン形成の高速化が望
まれている。
【０００３】
【従来の技術】従来の露光装置では、光源からの照射光
を用いて可変矩形の露光パターンを作り、これを偏向す
ることによって試料（ウエハ）表面上にパターンを形成
している。一方、露光装置を用いて信号の配線パターン
を作成する場合、バルク層およびポリ層とメタル層のコ
ンタクト窓ＮＡと、メタル第１層ＬＡとメタル第２層Ｌ
Ｂ間のコンタクト窓ＮＢの周辺の部分を、ある程度太く
する必要がある。
を用いて可変矩形の露光パターンを作り、これを偏向す
ることによって試料（ウエハ）表面上にパターンを形成
している。一方、露光装置を用いて信号の配線パターン
を作成する場合、バルク層およびポリ層とメタル層のコ
ンタクト窓ＮＡと、メタル第１層ＬＡとメタル第２層Ｌ
Ｂ間のコンタクト窓ＮＢの周辺の部分を、ある程度太く
する必要がある。
【０００４】ところが、図７に示すようにメタル第１層
ＬＡとメタル第２層ＬＢの導通交差部分Ｃにおいて、単
純にメタル第２層ＬＢに矩形の膨出パターンＤを作る
と、導通交差部分が近接していた場合に、パターンＤの
角部同士の間隔ａが一層近接することになり、短絡が発
生する危険性が大きい。そこで、図８に示すように、図
７の矩形の膨出パターンＤの角をとった形状の膨出パタ
ーンＥを、レイアウトデータとして導通交差部のメタル
第２層ＬＢに形成することが行われている。そして、こ
のレイアウトデータに基づいて点光源の動作をコントロ
ールする形で露光を行っていた。
ＬＡとメタル第２層ＬＢの導通交差部分Ｃにおいて、単
純にメタル第２層ＬＢに矩形の膨出パターンＤを作る
と、導通交差部分が近接していた場合に、パターンＤの
角部同士の間隔ａが一層近接することになり、短絡が発
生する危険性が大きい。そこで、図８に示すように、図
７の矩形の膨出パターンＤの角をとった形状の膨出パタ
ーンＥを、レイアウトデータとして導通交差部のメタル
第２層ＬＢに形成することが行われている。そして、こ
のレイアウトデータに基づいて点光源の動作をコントロ
ールする形で露光を行っていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
露光装置には矩形の露光パターンしかないものが多く、
このような露光装置において図８の膨出パターンＥを露
光する場合には、膨出パターンＥの斜めの線を有する部
分を図９に示すように矩形のパターンＦ１〜Ｆ５のよう
に細分化しなければならず、点光源制御用のデータ作成
及び露光に時間がかかるという問題がある。
露光装置には矩形の露光パターンしかないものが多く、
このような露光装置において図８の膨出パターンＥを露
光する場合には、膨出パターンＥの斜めの線を有する部
分を図９に示すように矩形のパターンＦ１〜Ｆ５のよう
に細分化しなければならず、点光源制御用のデータ作成
及び露光に時間がかかるという問題がある。
【０００６】そこで、本発明は、メタル第１層ＬＡとメ
タル第２層ＬＢの導通交差部分Ｃ等に必要な膨出パター
ンを円形のパターンにし、しかもこの円形のパターンを
矩形のパターンで細分化することなく作ることにより、
データ作成時間及び露光時間を短縮することができる露
光装置及びこれを用いたレイアウトデータの作成方法を
提供することを目的とする。
タル第２層ＬＢの導通交差部分Ｃ等に必要な膨出パター
ンを円形のパターンにし、しかもこの円形のパターンを
矩形のパターンで細分化することなく作ることにより、
データ作成時間及び露光時間を短縮することができる露
光装置及びこれを用いたレイアウトデータの作成方法を
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明の露光装置の構成が図１に示される。この図に示すよ
うに、本発明の露光装置は、所定の主光源１からの照射
により、長方形パターンを組み合わせてレイアウトデー
タを作成する露光装置であって、特定サイズの円形パタ
ーンを照射できる少なくとも１個の副光源２と、特殊な
データに対応して、特定サイズの円形パターンを照射可
能な副光源２を選択する副光源選択手段３と、選択され
た副光源２からの照射光を主光源１からの光路に合わせ
る光路制御手段４と、副光源２からの照射光を特殊なデ
ータに含まれる座標に偏向する露光座標制御手段５とが
設けられており、レイアウトデータ中に特殊なデータが
ある場合に、その特殊なデータに対応する副光源２から
の光により、マスクが高速で露光されることを特徴とす
る。
明の露光装置の構成が図１に示される。この図に示すよ
うに、本発明の露光装置は、所定の主光源１からの照射
により、長方形パターンを組み合わせてレイアウトデー
タを作成する露光装置であって、特定サイズの円形パタ
ーンを照射できる少なくとも１個の副光源２と、特殊な
データに対応して、特定サイズの円形パターンを照射可
能な副光源２を選択する副光源選択手段３と、選択され
た副光源２からの照射光を主光源１からの光路に合わせ
る光路制御手段４と、副光源２からの照射光を特殊なデ
ータに含まれる座標に偏向する露光座標制御手段５とが
設けられており、レイアウトデータ中に特殊なデータが
ある場合に、その特殊なデータに対応する副光源２から
の光により、マスクが高速で露光されることを特徴とす
る。
【０００８】また、このような露光装置を用いた本発明
のレイアウトデータの作成方法では、バルク層およびポ
リ層とメタル層のコンタクト窓ＮＡのレイアウトデー
タ、メタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタク
ト窓ＮＢのレイアウトデータ、あるいは、バルク層およ
びポリ層とメタル層のコンタクト窓ＮＡのレイアウトデ
ータと、メタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコン
タクト窓ＮＢのレイアウトデータの一致部分から特殊な
データを作り、この特殊なデータがある場合に、露光装
置の点光源から照射を行なってレイアウトデータを作成
することを特徴としている。
のレイアウトデータの作成方法では、バルク層およびポ
リ層とメタル層のコンタクト窓ＮＡのレイアウトデー
タ、メタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタク
ト窓ＮＢのレイアウトデータ、あるいは、バルク層およ
びポリ層とメタル層のコンタクト窓ＮＡのレイアウトデ
ータと、メタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコン
タクト窓ＮＢのレイアウトデータの一致部分から特殊な
データを作り、この特殊なデータがある場合に、露光装
置の点光源から照射を行なってレイアウトデータを作成
することを特徴としている。
【０００９】
【作用】本発明の露光装置及びこれを用いたレイアウト
データの作成方法によれば、露光データ中に特殊なデー
タがあると、この特殊なデータによって指示される円光
源が動作し、この円光源からの円形照射光が主光源から
の光路に入った後、偏向されてマスク上に至り、円形パ
ターンがレイアウトされる。
データの作成方法によれば、露光データ中に特殊なデー
タがあると、この特殊なデータによって指示される円光
源が動作し、この円光源からの円形照射光が主光源から
の光路に入った後、偏向されてマスク上に至り、円形パ
ターンがレイアウトされる。
【００１０】
【実施例】以下添付図面を用いて本発明の実施例を詳細
に説明する。図２は本発明の露光装置２０の一実施例の
構成を示すものである。この実施例の露光装置２０に
は、主光源２１と第１の円光源２２、及び第２の円光源
２３の３つの光源があり、第１の円光源２２と、第２の
円光源２３からは所定の大きさの円形の光が照射され
る。主光源２１と第１の円光源２２、及び第２の円光源
２３の３つの光源からの光は光源切換器２４に入力さ
れ、中央処理装置（ＣＰＵ）等を含む制御回路２６から
の光源制御上方によって選択されて露光ステージ制御部
２５に入力される。この露光ステージ制御部２５には制
御回路２６からステージ制御情報が入力され、露光ステ
ージ制御部２５から制御回路２６にはステージ位置情報
が出力される。また、制御回路２６には設計データ記憶
部２７が接続されており、設計データに基づいて制御回
路２６は光源切換器２４に光源制御情報を与え、露光ス
テージ制御部２５にステージ制御情報、即ち、露光座標
制御情報を与える。
に説明する。図２は本発明の露光装置２０の一実施例の
構成を示すものである。この実施例の露光装置２０に
は、主光源２１と第１の円光源２２、及び第２の円光源
２３の３つの光源があり、第１の円光源２２と、第２の
円光源２３からは所定の大きさの円形の光が照射され
る。主光源２１と第１の円光源２２、及び第２の円光源
２３の３つの光源からの光は光源切換器２４に入力さ
れ、中央処理装置（ＣＰＵ）等を含む制御回路２６から
の光源制御上方によって選択されて露光ステージ制御部
２５に入力される。この露光ステージ制御部２５には制
御回路２６からステージ制御情報が入力され、露光ステ
ージ制御部２５から制御回路２６にはステージ位置情報
が出力される。また、制御回路２６には設計データ記憶
部２７が接続されており、設計データに基づいて制御回
路２６は光源切換器２４に光源制御情報を与え、露光ス
テージ制御部２５にステージ制御情報、即ち、露光座標
制御情報を与える。
【００１１】図３は図２の装置によるレイアウトデータ
の作成方法の一例を示すフローチャートである。ステッ
プ３０１では、露光装置に対して、必要な特定サイズの
円形光源が設定される。露光装置が備える円形光源が固
定である場合にはこのステップは必要がない。続くステ
ップ３０２では、設定した円形光源に対応する特殊なデ
ータの作成が行われる。この特殊なデータは、例えば、
レイヤ６３のタイプ１のデータに対して図２の第１の円
光源２２で露光し、レイヤ６３のタイプ２のデータに対
して図２の第２の円光源２３で露光するというように定
める。この例では、第１の円光源２２はコンタクトの窓
用、第２の光源２３はコンタクトの窓上のメタル層のレ
チクル作成時に用いられる。
の作成方法の一例を示すフローチャートである。ステッ
プ３０１では、露光装置に対して、必要な特定サイズの
円形光源が設定される。露光装置が備える円形光源が固
定である場合にはこのステップは必要がない。続くステ
ップ３０２では、設定した円形光源に対応する特殊なデ
ータの作成が行われる。この特殊なデータは、例えば、
レイヤ６３のタイプ１のデータに対して図２の第１の円
光源２２で露光し、レイヤ６３のタイプ２のデータに対
して図２の第２の円光源２３で露光するというように定
める。この例では、第１の円光源２２はコンタクトの窓
用、第２の光源２３はコンタクトの窓上のメタル層のレ
チクル作成時に用いられる。
【００１２】ステップ３０３では特殊なデータの露光装
置のメモリ（図２の設計データ記憶部２７）への記憶が
行われ、ステップ３０４では配線パターンが読み込まれ
る。そして、ステップ３０５において読み込んだ配線パ
ターンにコンタクト窓があるか否かが判定され、ある場
合（ＹＥＳ）はステップ３０６に進み、無い場合（Ｎ
Ｏ）はステップ３０７に進む。
置のメモリ（図２の設計データ記憶部２７）への記憶が
行われ、ステップ３０４では配線パターンが読み込まれ
る。そして、ステップ３０５において読み込んだ配線パ
ターンにコンタクト窓があるか否かが判定され、ある場
合（ＹＥＳ）はステップ３０６に進み、無い場合（Ｎ
Ｏ）はステップ３０７に進む。
【００１３】配線パターンにコンタクト窓がある場合に
進むステップ３０６では、配線パターンに応じたコンタ
クト窓用の特殊なデータが作成される。このときの特殊
なデータは、例えばバルク層およびポリ層とメタル層の
コンタクト窓ＮＡのレイアウトデータ、メタル第１層Ｌ
Ａとメタル第２層ＬＢ間のコンタクト窓ＮＢのレイアウ
トデータ、あるいは、バルク層およびポリ層とメタル層
のコンタクト窓ＮＡのレイアウトデータと、メタル第１
層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタクト窓ＮＢのレイ
アウトデータの一致部分から作られる。そして、ステッ
プ３０８では、特殊なデータに応じた円形光源への照射
信号が出力され、ステップ３０９においてレイアウトデ
ータの出力が行われる。
進むステップ３０６では、配線パターンに応じたコンタ
クト窓用の特殊なデータが作成される。このときの特殊
なデータは、例えばバルク層およびポリ層とメタル層の
コンタクト窓ＮＡのレイアウトデータ、メタル第１層Ｌ
Ａとメタル第２層ＬＢ間のコンタクト窓ＮＢのレイアウ
トデータ、あるいは、バルク層およびポリ層とメタル層
のコンタクト窓ＮＡのレイアウトデータと、メタル第１
層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタクト窓ＮＢのレイ
アウトデータの一致部分から作られる。そして、ステッ
プ３０８では、特殊なデータに応じた円形光源への照射
信号が出力され、ステップ３０９においてレイアウトデ
ータの出力が行われる。
【００１４】一方、配線パターンにコンタクト窓が無い
場合に進むステップ３０７では、配線パターンに応じた
長方形パターンの読み出しが行われ、主光源２１からの
光の照射によってステップ３０９においてレイアウトデ
ータの出力が行われる。図４は図２の第１，第２の円形
光源からの円形パターンの例を示すものであり、図５は
メタル第２層ＬＢの太さと、太さに応じて必要となる円
形パターンの大きさを示すものである。円形光源の種類
は必要に応じて２〜３種類程度露光装置側に用意してお
けば良い。
場合に進むステップ３０７では、配線パターンに応じた
長方形パターンの読み出しが行われ、主光源２１からの
光の照射によってステップ３０９においてレイアウトデ
ータの出力が行われる。図４は図２の第１，第２の円形
光源からの円形パターンの例を示すものであり、図５は
メタル第２層ＬＢの太さと、太さに応じて必要となる円
形パターンの大きさを示すものである。円形光源の種類
は必要に応じて２〜３種類程度露光装置側に用意してお
けば良い。
【００１５】以上のように、本発明では、配線パターン
のレイアウトを行う場合、図６のような形で特殊層をい
れたレイアウトを設計側で作成しておく。そして、バル
ク層およびポリ層とメタル層のコンタクト窓ＮＡやメタ
ル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタクト窓ＮＢ
のマスクを作成する場合は、この特殊データに合わせて
形状の少し小さい円形光源を用いて露光を行うようにす
る。また、メタル第１層ＬＡやメタル第２層ＬＢを作る
場合は、長方形データの集まりとして露光を行う。そし
て、バルク層およびポリ層とメタル層のコンタクト窓Ｎ
Ａやメタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタク
ト窓ＮＢの周囲の膨出パターンについては、形状が大き
い方の円形光源を用いて露光する。
のレイアウトを行う場合、図６のような形で特殊層をい
れたレイアウトを設計側で作成しておく。そして、バル
ク層およびポリ層とメタル層のコンタクト窓ＮＡやメタ
ル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタクト窓ＮＢ
のマスクを作成する場合は、この特殊データに合わせて
形状の少し小さい円形光源を用いて露光を行うようにす
る。また、メタル第１層ＬＡやメタル第２層ＬＢを作る
場合は、長方形データの集まりとして露光を行う。そし
て、バルク層およびポリ層とメタル層のコンタクト窓Ｎ
Ａやメタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタク
ト窓ＮＢの周囲の膨出パターンについては、形状が大き
い方の円形光源を用いて露光する。
【００１６】これにより、バルク層およびポリ層とメタ
ル層のコンタクト窓ＮＡとメタル第１層ＬＡとメタル第
２層ＬＢ間のコンタクト窓ＮＢの露光は少し小さい円形
光源を使用するために高速で処理ができ、また、メタル
第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢについても、少し大きい
円形光源を使用するために、高速に露光できる。また、
メタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢの露光用のデータ
作成も、長方形の集合のデータへの変換と、特殊データ
の取り出しだけとなり、微細点データに対する必要が無
く、高速化される。
ル層のコンタクト窓ＮＡとメタル第１層ＬＡとメタル第
２層ＬＢ間のコンタクト窓ＮＢの露光は少し小さい円形
光源を使用するために高速で処理ができ、また、メタル
第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢについても、少し大きい
円形光源を使用するために、高速に露光できる。また、
メタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢの露光用のデータ
作成も、長方形の集合のデータへの変換と、特殊データ
の取り出しだけとなり、微細点データに対する必要が無
く、高速化される。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
データ処理時間、及び、マスク露光時間が短くなるが、
レイアウトデータ作成の手間が変わることがなく、且
つ、バルク層およびポリ層とメタル層のコンタクト窓Ｎ
Ａとメタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタク
ト窓ＮＢの近接に関してプロセス限界まで近接し得る事
になるという効果がある。
データ処理時間、及び、マスク露光時間が短くなるが、
レイアウトデータ作成の手間が変わることがなく、且
つ、バルク層およびポリ層とメタル層のコンタクト窓Ｎ
Ａとメタル第１層ＬＡとメタル第２層ＬＢ間のコンタク
ト窓ＮＢの近接に関してプロセス限界まで近接し得る事
になるという効果がある。
【図１】本発明の露光装置の構成を示す原理構成図であ
る。
る。
【図２】本発明の露光装置の一実施例の構成を示す構成
図である。
図である。
【図３】本発明の露光装置を用いたレイアウトデータの
作成方法を示すフローチャートである。
作成方法を示すフローチャートである。
【図４】図２の円形光源による円形パターンの例を示す
パターン図である。
パターン図である。
【図５】メタル第２層の太さと膨出パターンの関係を示
す説明図である。
す説明図である。
【図６】特殊層を入れたレイアウトデータの例である。
【図７】従来のコンタクト窓部のレイアウトパターンで
ある。
ある。
【図８】図７のレイアウトパターンを改良した従来のレ
イアウトパターンである。
イアウトパターンである。
【図９】図９の膨出パターンの矩形パターンを用いた細
分化パターンである。
分化パターンである。
２０…本発明の露光装置 ２１…主光源 ２２…第１の円光源 ２３…第２の円光源 ２４…光源切換器 ２５…露光ステージ制御部 ２６…制御回路 ２７…設計データ記憶部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−97145（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−30194（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−115169（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−164488（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−59830（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 1/08 - 1/16 H01L 21/027
Claims (7)
- 【請求項１】 所定の主光源(1) からの照射により、長
方形パターンを組み合わせてレイアウトデータを作成す
る露光装置において、特定サイズの円形パターンを照射
できる少なくとも１個の副光源(2) と、特殊なデータに
対応して、特定サイズの円形パターンを照射可能な副光
源(2)を選択する副光源選択手段(3) と、選択された副
光源(2) からの照射光を前記主光源(1) からの光路に合
わせる光路制御手段(4) と、前記副光源(2) からの照射
光を前記特殊なデータに含まれる座標に偏向する露光座
標制御手段(5) とを設け、レイアウトデータ中に前記特
殊なデータがある場合は、その特殊なデータに対応する
前記副光源(2) からの光により、マスクを高速で露光す
ることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記特殊なデータが、バルク層およびポ
リ層とメタル層のコンタクト窓（ＮＡ）のレイアウトデ
ータであることを特徴とする請求項１に記載の露光装
置。 - 【請求項３】 前記特殊なデータが、メタル第１層（Ｌ
Ａ）とメタル第２層（ＬＢ）間のコンタクト窓（ＮＢ）
のレイアウトデータであることを特徴とする請求項１に
記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記特殊なデータが、バルク層およびポ
リ層とメタル層のコンタクト窓（ＮＡ）のレイアウトデ
ータと、メタル第１層（ＬＡ）とメタル第２層（ＬＢ）
間のコンタクト窓（ＮＢ）のレイアウトデータの一致部
分であることを特徴とする露光装置。 - 【請求項５】 バルク層およびポリ層とメタル層のコン
タクト窓（ＮＡ）のレイアウトデータより特殊なデータ
を作り、請求項１に記載の露光装置を用いてメタル層の
マスクを作成するレイアウトデータ作成方法。 - 【請求項６】 メタル第１層（ＬＡ）とメタル第２層
（ＬＢ）間のコンタクト窓（ＮＢ）のレイアウトデータ
より特殊なデータを作り、請求項１に記載の露光装置を
用いてメタル層のマスクを作成するレイアウトデータ作
成方法。 - 【請求項７】 バルク層およびポリ層とメタル層のコン
タクト窓（ＮＡ）のレイアウトデータと、メタル第１層
（ＬＡ）とメタル第２層（ＬＢ）間のコンタクト窓（Ｎ
Ｂ）のレイアウトデータの一致部分より特殊なデータを
作り、請求項１に記載の露光装置を用いてメタル層のマ
スクを作成するレイアウトデータ作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5651691A JP3057580B2 (ja) | 1991-03-20 | 1991-03-20 | 露光装置及びこれを用いたレイアウトデータの作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5651691A JP3057580B2 (ja) | 1991-03-20 | 1991-03-20 | 露光装置及びこれを用いたレイアウトデータの作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04291346A JPH04291346A (ja) | 1992-10-15 |
| JP3057580B2 true JP3057580B2 (ja) | 2000-06-26 |
Family
ID=13029288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5651691A Expired - Fee Related JP3057580B2 (ja) | 1991-03-20 | 1991-03-20 | 露光装置及びこれを用いたレイアウトデータの作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3057580B2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-20 JP JP5651691A patent/JP3057580B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04291346A (ja) | 1992-10-15 |
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