JPH09258429A - ブロック露光におけるブロック搭載方法 - Google Patents
ブロック露光におけるブロック搭載方法Info
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- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
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- H01J37/3026—Patterning strategy
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】パターンをより多くブロックマスクに搭載する
ことにより、ブロック露光をより高速、高精度にするこ
とを目的とする。 【解決手段】ステップ１０１で各抽出ブロックのパター
ン存在領域のＸ方向及びＹ方向の大きさに基づいて組み
合わせることのできる抽出ブロックを選び出す。ステッ
プ１０２で組み合わせる抽出ブロックを搭載ブロックに
展開する。ステップ１０３で部分照射用のブロックのず
らし量を求め、求めたずらし量をステップ１０４でブロ
ックデータに設定することにより全面照射型から部分照
射型への変更を行う。ステップ１０５でブロックマスク
上のブロック搭載可能個数になるまでステップ１０１〜
ステップ１０４を繰り返す。
ことにより、ブロック露光をより高速、高精度にするこ
とを目的とする。 【解決手段】ステップ１０１で各抽出ブロックのパター
ン存在領域のＸ方向及びＹ方向の大きさに基づいて組み
合わせることのできる抽出ブロックを選び出す。ステッ
プ１０２で組み合わせる抽出ブロックを搭載ブロックに
展開する。ステップ１０３で部分照射用のブロックのず
らし量を求め、求めたずらし量をステップ１０４でブロ
ックデータに設定することにより全面照射型から部分照
射型への変更を行う。ステップ１０５でブロックマスク
上のブロック搭載可能個数になるまでステップ１０１〜
ステップ１０４を繰り返す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路の露
光方法の一つとなる、ブロック露光に関するものであ
る。
光方法の一つとなる、ブロック露光に関するものであ
る。
【０００２】近年のＬＳＩは大規模、微細化が進み、露
光するＬＳＩパターンの露光速度や露光精度を向上させ
る露光技術が必要とされており、その１つの露光方法と
してブロック露光法がある。
光するＬＳＩパターンの露光速度や露光精度を向上させ
る露光技術が必要とされており、その１つの露光方法と
してブロック露光法がある。
【０００３】図２７は従来の可変矩形露光装置１０を示
し、ビーム光源１１から照射されるビームを第１アパー
チャ１２に設けた矩形窓１３を介して透過させ、電磁偏
向器１４によって透過ビームを偏向させる。第２アパー
チャ１５に設けた矩形窓１６と偏向されたビームとの重
ね合わせによって矩形窓１６を透過するビームの断面形
状、すなわち、露光パターンを構成する。そして、電磁
偏向器１７によって透過ビームを偏向させ、露光媒体と
しての半導体ウェハ１８の所定の位置を露光する。この
可変矩形露光法では１ショットで１パターンしか露光で
きない。
し、ビーム光源１１から照射されるビームを第１アパー
チャ１２に設けた矩形窓１３を介して透過させ、電磁偏
向器１４によって透過ビームを偏向させる。第２アパー
チャ１５に設けた矩形窓１６と偏向されたビームとの重
ね合わせによって矩形窓１６を透過するビームの断面形
状、すなわち、露光パターンを構成する。そして、電磁
偏向器１７によって透過ビームを偏向させ、露光媒体と
しての半導体ウェハ１８の所定の位置を露光する。この
可変矩形露光法では１ショットで１パターンしか露光で
きない。
【０００４】図２８はブロック露光装置２０を示し、前
記第２アパーチャ１５に代えて、複数パターンよりなる
パターン群を１つの搭載ブロックとして複数の搭載ブロ
ック２２を配置したブロックマスク２１を用いている。
このブロック露光法では、１ショットで複数パターンを
露光することが可能となる。このブロック露光における
ブロックマスク２１に搭載されるパターンは露光速度、
露光精度に影響を及ぼすため、ブロックマスク２１には
多くのパターンを搭載する方法が必要とされている。
記第２アパーチャ１５に代えて、複数パターンよりなる
パターン群を１つの搭載ブロックとして複数の搭載ブロ
ック２２を配置したブロックマスク２１を用いている。
このブロック露光法では、１ショットで複数パターンを
露光することが可能となる。このブロック露光における
ブロックマスク２１に搭載されるパターンは露光速度、
露光精度に影響を及ぼすため、ブロックマスク２１には
多くのパターンを搭載する方法が必要とされている。
【０００５】
【従来の技術】図２９がブロックマスクを製造するため
のブロック露光用データの作成を行うフローである。ス
テップ３０ではデータファイル４１から基データ（マス
クパターンデータ）を入力し、ステップ３１で各種の図
形処理を行う。この図形処理後のデータはデータファイ
ル４２に中間データとして格納される。
のブロック露光用データの作成を行うフローである。ス
テップ３０ではデータファイル４１から基データ（マス
クパターンデータ）を入力し、ステップ３１で各種の図
形処理を行う。この図形処理後のデータはデータファイ
ル４２に中間データとして格納される。
【０００６】ステップ３２ではデータファイル４２から
中間データを入力し、ステップ３３では制御文４３に基
づいて中間データからブロック抽出処理を行い、抽出し
たブロックパターンデータをメモリ４６に格納する。例
えば、図３０に示すように、中間データがメモリセル５
０のパターンである場合には、繰り返しを考慮してブロ
ック５１，５２，５３が抽出される。また、図３１に示
すように、中間データがセルアレイの端の部分や横もし
くは縦に長いパターン５５である場合には、繰り返しを
考慮してブロック５６，５７，５８が抽出される。
中間データを入力し、ステップ３３では制御文４３に基
づいて中間データからブロック抽出処理を行い、抽出し
たブロックパターンデータをメモリ４６に格納する。例
えば、図３０に示すように、中間データがメモリセル５
０のパターンである場合には、繰り返しを考慮してブロ
ック５１，５２，５３が抽出される。また、図３１に示
すように、中間データがセルアレイの端の部分や横もし
くは縦に長いパターン５５である場合には、繰り返しを
考慮してブロック５６，５７，５８が抽出される。
【０００７】ステップ３４でメモリ４６からブロックパ
ターンデータを読み込み、ブロックデータとしてデータ
ファイル４４に出力する。ステップ３５でデータファイ
ル４４に出力したブロック数はブロックマスクへの搭載
可能個数以上かを判定し、ステップ３３〜３５の処理は
搭載可能個数になるまで繰り返される。
ターンデータを読み込み、ブロックデータとしてデータ
ファイル４４に出力する。ステップ３５でデータファイ
ル４４に出力したブロック数はブロックマスクへの搭載
可能個数以上かを判定し、ステップ３３〜３５の処理は
搭載可能個数になるまで繰り返される。
【０００８】ステップ３６ではデータファイル４４から
ブロックデータを読み込み、ブロックマスクを露光する
ためにブロックの図形データを矩形分割し、分割したデ
ータをデータファイル４５に出力する。ステップ３７で
はデータファイル４５から分割されたブロックのデータ
を読み込み、露光データに変換してデータファイル４６
に出力する。
ブロックデータを読み込み、ブロックマスクを露光する
ためにブロックの図形データを矩形分割し、分割したデ
ータをデータファイル４５に出力する。ステップ３７で
はデータファイル４５から分割されたブロックのデータ
を読み込み、露光データに変換してデータファイル４６
に出力する。
【０００９】ステップ３８ではデータファイル４２から
ブロックとして抽出された以外の図形データを矩形分割
し、分割したデータをデータファイル４５に出力する。
ステップ３９ではデータファイル４５からブロック以外
の分割されたデータを読み込み、露光データに変換して
データファイル４６に出力する。
ブロックとして抽出された以外の図形データを矩形分割
し、分割したデータをデータファイル４５に出力する。
ステップ３９ではデータファイル４５からブロック以外
の分割されたデータを読み込み、露光データに変換して
データファイル４６に出力する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来に
おいては半導体集積回路のように繰り返しのできるパタ
ーン群、例えば図３０に示すようにメモリセル５０を搭
載候補としてブロックパターン抽出するのだが、抽出し
たブロック５１〜５３をそのまま搭載ブロックとしてい
る。また、図３１に示すようにセルアレイの端の部分や
横もしくは縦に長いパターン５５をブロックサイズで切
り出した抽出ブロック５６〜５８では、ブロックの端の
部分にしかパターンが存在していなくても１ブロックと
してブロックマスク上に搭載されていた。
おいては半導体集積回路のように繰り返しのできるパタ
ーン群、例えば図３０に示すようにメモリセル５０を搭
載候補としてブロックパターン抽出するのだが、抽出し
たブロック５１〜５３をそのまま搭載ブロックとしてい
る。また、図３１に示すようにセルアレイの端の部分や
横もしくは縦に長いパターン５５をブロックサイズで切
り出した抽出ブロック５６〜５８では、ブロックの端の
部分にしかパターンが存在していなくても１ブロックと
してブロックマスク上に搭載されていた。
【００１１】これにより、ブロックとして搭載できるパ
ターンはブロックマスクの搭載可能個数という制限によ
り、搭載できるパターン数が少なくなる。このため、ブ
ロックマスクに搭載できなかったパターンは、従来の露
光法により露光されるため、露光速度や露光精度の低下
を招く結果となる。
ターンはブロックマスクの搭載可能個数という制限によ
り、搭載できるパターン数が少なくなる。このため、ブ
ロックマスクに搭載できなかったパターンは、従来の露
光法により露光されるため、露光速度や露光精度の低下
を招く結果となる。
【００１２】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、抽出したブロックが有するパターン
をより多くブロックマスクに搭載することにより、ブロ
ック露光をより高速、高精度にすることを目的とする。
れたものであって、抽出したブロックが有するパターン
をより多くブロックマスクに搭載することにより、ブロ
ック露光をより高速、高精度にすることを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、露光パターンから所定のパターンを有す
る複数のブロックを抽出し、各抽出ブロックにおけるパ
ターンの存在領域に基づいて１つの搭載ブロックに納め
ることができるパターンを有する複数の抽出ブロックの
組み合わせを構成する。この後、１つの搭載ブロックに
組み合わせた複数の抽出ブロックのパターンを納めると
ともに、この搭載ブロックを全面照射型から部分照射型
に変更する。
め、本発明は、露光パターンから所定のパターンを有す
る複数のブロックを抽出し、各抽出ブロックにおけるパ
ターンの存在領域に基づいて１つの搭載ブロックに納め
ることができるパターンを有する複数の抽出ブロックの
組み合わせを構成する。この後、１つの搭載ブロックに
組み合わせた複数の抽出ブロックのパターンを納めると
ともに、この搭載ブロックを全面照射型から部分照射型
に変更する。
【００１４】（作用）従って、複数の抽出ブロックのパ
ターンが１つの搭載ブロックに納められるため、ブロッ
クマスク上への抽出ブロックの搭載個数が増加する。よ
って、ブロック露光の利点である高速露光、高精度露光
が向上され、これによる半導体装置の生産性向上、及び
品質向上が可能となる。
ターンが１つの搭載ブロックに納められるため、ブロッ
クマスク上への抽出ブロックの搭載個数が増加する。よ
って、ブロック露光の利点である高速露光、高精度露光
が向上され、これによる半導体装置の生産性向上、及び
品質向上が可能となる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図１
〜図２６に従って説明する。なお、説明の便宜上、図２
８，２９と同一の構成については同一の符号を付してそ
の説明を一部省略する。
〜図２６に従って説明する。なお、説明の便宜上、図２
８，２９と同一の構成については同一の符号を付してそ
の説明を一部省略する。
【００１６】図１は本形態におけるブロックマスクを製
造するための露光用データの作成を行うフローである。
ステップ３０ではデータファイル４１から基データ（マ
スクパターンデータ）を入力し、ステップ３１で各種の
図形処理を行う。この図形処理後のデータはデータファ
イル４２に中間データとして格納される。
造するための露光用データの作成を行うフローである。
ステップ３０ではデータファイル４１から基データ（マ
スクパターンデータ）を入力し、ステップ３１で各種の
図形処理を行う。この図形処理後のデータはデータファ
イル４２に中間データとして格納される。
【００１７】ステップ３２ではデータファイル４２から
中間データを入力し、ステップ３３では制御文４３に基
づいて中間データから繰り返しの効く単位のパターン群
をブロックとして抽出し、抽出したブロックパターンデ
ータをメモリ４６に格納する。ステップ６０ではデータ
ファイル４２の中間データから抽出が全て終わるまでス
テップ３３を繰り返し処理する。
中間データを入力し、ステップ３３では制御文４３に基
づいて中間データから繰り返しの効く単位のパターン群
をブロックとして抽出し、抽出したブロックパターンデ
ータをメモリ４６に格納する。ステップ６０ではデータ
ファイル４２の中間データから抽出が全て終わるまでス
テップ３３を繰り返し処理する。
【００１８】ステップ６１では各抽出ブロックにおける
パターン群の存在領域に基づいて１つの搭載ブロックに
納めることができるパターン群を有する複数の抽出ブロ
ックの組み合わせ処理を行う。また、この際、ブロック
データの照射型を全面照射型から部分照射型に変更す
る。
パターン群の存在領域に基づいて１つの搭載ブロックに
納めることができるパターン群を有する複数の抽出ブロ
ックの組み合わせ処理を行う。また、この際、ブロック
データの照射型を全面照射型から部分照射型に変更す
る。
【００１９】図２は全面照射型と部分照射型の違いを示
す。同図（ａ）に示すように、全面照射型ではブロック
マスク２１における１つの搭載ブロック２２に対してビ
ームの照射範囲２３を合致させる。これに対して、部分
照射型は同図（ｂ）に示すように、ブロックマスク２１
における１つの搭載ブロック２２に対してビームの照射
範囲２３をずらすようにしており、同図（ｃ）に示すよ
うに搭載ブロック２２に対してＸ方向及びＹ方向のずら
し量Δｘ，Δｙを与えるのみで良い。また、同図（ｄ）
はそのデータ構成を示し、全面照射型のデータに対して
ずらし量が設定されたブロックデータが設定されてい
る。
す。同図（ａ）に示すように、全面照射型ではブロック
マスク２１における１つの搭載ブロック２２に対してビ
ームの照射範囲２３を合致させる。これに対して、部分
照射型は同図（ｂ）に示すように、ブロックマスク２１
における１つの搭載ブロック２２に対してビームの照射
範囲２３をずらすようにしており、同図（ｃ）に示すよ
うに搭載ブロック２２に対してＸ方向及びＹ方向のずら
し量Δｘ，Δｙを与えるのみで良い。また、同図（ｄ）
はそのデータ構成を示し、全面照射型のデータに対して
ずらし量が設定されたブロックデータが設定されてい
る。
【００２０】ステップ３４でメモリ４６からブロックパ
ターンデータを読み込み、ブロックデータとしてデータ
ファイル４４に出力する。ステップ３６ではデータファ
イル４４からブロックデータを読み込み、ブロックマス
クを露光するためにブロックの図形データを矩形分割
し、分割したデータをデータファイル４５に出力する。
ステップ３７ではデータファイル４５から分割されたブ
ロックのデータを読み込み、露光データに変換してデー
タファイル４６に出力する。
ターンデータを読み込み、ブロックデータとしてデータ
ファイル４４に出力する。ステップ３６ではデータファ
イル４４からブロックデータを読み込み、ブロックマス
クを露光するためにブロックの図形データを矩形分割
し、分割したデータをデータファイル４５に出力する。
ステップ３７ではデータファイル４５から分割されたブ
ロックのデータを読み込み、露光データに変換してデー
タファイル４６に出力する。
【００２１】ステップ３８ではデータファイル４２から
搭載ブロックとして組み合わされた抽出ブロックの図形
データ以外の図形データを読み込み、その読み込んだ図
形データを矩形分割し、分割したデータをデータファイ
ル４５に出力する。ステップ３９ではデータファイル４
５からブロック以外の分割されたデータを読み込み、露
光データに変換してデータファイル４６に出力する。
搭載ブロックとして組み合わされた抽出ブロックの図形
データ以外の図形データを読み込み、その読み込んだ図
形データを矩形分割し、分割したデータをデータファイ
ル４５に出力する。ステップ３９ではデータファイル４
５からブロック以外の分割されたデータを読み込み、露
光データに変換してデータファイル４６に出力する。
【００２２】図３は本形態における抽出ブロックの組み
合わせ処理の基本動作を表す処理フローである。ステッ
プ１０１で各抽出ブロックのパターン存在領域のＸ方向
及びＹ方向の大きさに基づいて組み合わせることのでき
る抽出ブロックを選び出し、ステップ１０２で組み合わ
せる抽出ブロックを搭載ブロックに展開する。これ以
降、この明細書においては、簡略化のためにパターン存
在領域のＸ方向の大きさ及びＹ方向の大きさを単にそれ
ぞれパターン存在領域というものとする。
合わせ処理の基本動作を表す処理フローである。ステッ
プ１０１で各抽出ブロックのパターン存在領域のＸ方向
及びＹ方向の大きさに基づいて組み合わせることのでき
る抽出ブロックを選び出し、ステップ１０２で組み合わ
せる抽出ブロックを搭載ブロックに展開する。これ以
降、この明細書においては、簡略化のためにパターン存
在領域のＸ方向の大きさ及びＹ方向の大きさを単にそれ
ぞれパターン存在領域というものとする。
【００２３】また、これ以降、本明細書においては、搭
載ブロック及び抽出ブロックのＸ方向の大きさ及びＹ方
向の大きさをそれぞれＸ方向サイズ及びＹ方向サイズと
いうものとし、Ｘ方向サイズ及びＹ方向サイズをそれぞ
れＸ０，Ｙ０とする。また、ブロックのＸ方向サイズＸ
０からパターン存在領域Ａｘ，Ｂｘ，Ｃｘ，Ｄｘを引い
た値を、Ａｘｚ，Ｂｘｚ，Ｃｘｚ，Ｄｘｚで表すものと
する。
載ブロック及び抽出ブロックのＸ方向の大きさ及びＹ方
向の大きさをそれぞれＸ方向サイズ及びＹ方向サイズと
いうものとし、Ｘ方向サイズ及びＹ方向サイズをそれぞ
れＸ０，Ｙ０とする。また、ブロックのＸ方向サイズＸ
０からパターン存在領域Ａｘ，Ｂｘ，Ｃｘ，Ｄｘを引い
た値を、Ａｘｚ，Ｂｘｚ，Ｃｘｚ，Ｄｘｚで表すものと
する。
【００２４】ステップ１０３で部分照射用のブロックの
ずらし量を求め、求めたずらし量をステップ１０４でブ
ロックデータに設定することにより全面照射型から部分
照射型への変更を行う。
ずらし量を求め、求めたずらし量をステップ１０４でブ
ロックデータに設定することにより全面照射型から部分
照射型への変更を行う。
【００２５】ステップ１０５でブロックマスク上のブロ
ック搭載可能個数になるまでステップ１０１〜ステップ
１０４を繰り返す。図４が本発明の基本的な説明図であ
る。まずステップ１０１により抽出されたブロックのブ
ロックＡ〜Ｄ（同図（ａ））が取り出され、各々のパタ
ーン存在領域Ａｘ，Ａｙ，Ｂｘ，Ｂｙ，Ｃｘ，Ｃｙ，Ｄ
ｘ，Ｄｙが求められ、組み合わせが考察される。
ック搭載可能個数になるまでステップ１０１〜ステップ
１０４を繰り返す。図４が本発明の基本的な説明図であ
る。まずステップ１０１により抽出されたブロックのブ
ロックＡ〜Ｄ（同図（ａ））が取り出され、各々のパタ
ーン存在領域Ａｘ，Ａｙ，Ｂｘ，Ｂｙ，Ｃｘ，Ｃｙ，Ｄ
ｘ，Ｄｙが求められ、組み合わせが考察される。
【００２６】組み合わされたものが同図（ｂ）となり、
図中、点線の枠はビーム照射を行う位置である。ステッ
プ１０２において、各ブロックのパターン存在領域を基
に搭載ブロックＣＢ１に、ブロックＡ〜Ｄのブロックパ
ターンが展開される。展開されたパターンは同図（ｃ）
の搭載ブロックＣＢ１のブロックパターンに格納され
る。
図中、点線の枠はビーム照射を行う位置である。ステッ
プ１０２において、各ブロックのパターン存在領域を基
に搭載ブロックＣＢ１に、ブロックＡ〜Ｄのブロックパ
ターンが展開される。展開されたパターンは同図（ｃ）
の搭載ブロックＣＢ１のブロックパターンに格納され
る。
【００２７】ステップ１０３では、搭載ブロックＣＢ１
へのブロックの展開位置により、搭載ブロックの左下か
らのブロックＡ〜Ｄを実際に照射するためのずらし量Δ
Ａｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ ΔＣｘ，ΔＣｙ ΔＤ
ｘ，ΔＤｙが各々求められる。ステップ１０４で求めた
ずらし量は、同図（ｃ）のブロックデータに示すよう
に、基となるブロック番号ＣＢ１と共に格納される。
へのブロックの展開位置により、搭載ブロックの左下か
らのブロックＡ〜Ｄを実際に照射するためのずらし量Δ
Ａｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ ΔＣｘ，ΔＣｙ ΔＤ
ｘ，ΔＤｙが各々求められる。ステップ１０４で求めた
ずらし量は、同図（ｃ）のブロックデータに示すよう
に、基となるブロック番号ＣＢ１と共に格納される。
【００２８】図５は２つのブロックを組み合わせて搭載
ブロックを構成するブロックデータ組み合わせ処理のフ
ローである。まず、ステップ１１１で基本となるブロッ
クＡを取り出し、そのブロックのパターン存在領域Ａ
ｘ，Ａｙを求める。
ブロックを構成するブロックデータ組み合わせ処理のフ
ローである。まず、ステップ１１１で基本となるブロッ
クＡを取り出し、そのブロックのパターン存在領域Ａ
ｘ，Ａｙを求める。
【００２９】ステップ１１２でブロックＡ以外のブロッ
クＢを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂ
ｙを求める。ブロックＡのパターン存在領域Ａｘとブロ
ックＢのパターン存在領域Ｂｘの和がブロックのＸ方向
サイズＸ０以下であれば、ブロックとしてＸ方向に並べ
て搭載することができるため、ステップ１１３でその判
定を行う。
クＢを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂ
ｙを求める。ブロックＡのパターン存在領域Ａｘとブロ
ックＢのパターン存在領域Ｂｘの和がブロックのＸ方向
サイズＸ０以下であれば、ブロックとしてＸ方向に並べ
て搭載することができるため、ステップ１１３でその判
定を行う。
【００３０】ステップ１１４には組み合わせが可能とさ
れたブロック２つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まずステップ１１４ではブロックＡ
のパターンを搭載ブロックの左端に寄せて展開する。次
にブロックＢのパターンを、ブロックＡを展開した領域
の右側に展開する。
れたブロック２つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まずステップ１１４ではブロックＡ
のパターンを搭載ブロックの左端に寄せて展開する。次
にブロックＢのパターンを、ブロックＡを展開した領域
の右側に展開する。
【００３１】ステップ１１５では搭載ブロックに対して
どの位置にビームを照射すれば良いかのずらし量を求め
る。搭載ブロックの原点は搭載ブロックの左下隅角を
（０，０）としている。ステップ１１６で全面照射型で
持っていたブロックＡ、ブロックＢに対し、部分照射型
としてのずらし量ΔＢｘ，ΔＢｙを設定し、搭載ブロッ
クのブロック番号を指定する。ステップ１１７で作成し
た搭載ブロックの個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０になったか
どうかを判定する。搭載可能個数Ｎ０に満たなければス
テップ１１１〜ステップ１１６を繰り返す。
どの位置にビームを照射すれば良いかのずらし量を求め
る。搭載ブロックの原点は搭載ブロックの左下隅角を
（０，０）としている。ステップ１１６で全面照射型で
持っていたブロックＡ、ブロックＢに対し、部分照射型
としてのずらし量ΔＢｘ，ΔＢｙを設定し、搭載ブロッ
クのブロック番号を指定する。ステップ１１７で作成し
た搭載ブロックの個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０になったか
どうかを判定する。搭載可能個数Ｎ０に満たなければス
テップ１１１〜ステップ１１６を繰り返す。
【００３２】図６が２つのブロックを組み合わせる場合
の説明図である。まず、ステップ１１１においてブロッ
クＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求め
られる。ステップ１１２でブロックＢが取り出され、同
じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。ス
テップ１１３でパターン存在領域Ａｘ及びＢｘの和がブ
ロックのＸ方向サイズＸ０以下であるため、組み合わせ
可能としてステップ１１４へ行く。
の説明図である。まず、ステップ１１１においてブロッ
クＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求め
られる。ステップ１１２でブロックＢが取り出され、同
じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。ス
テップ１１３でパターン存在領域Ａｘ及びＢｘの和がブ
ロックのＸ方向サイズＸ０以下であるため、組み合わせ
可能としてステップ１１４へ行く。
【００３３】ステップ１１４でブロックＡのパターンを
搭載ブロックＣＢ２のブロックの左下に合わせて展開す
る。次にブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ２に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最大ｘ座標、
最小ｙ座標に左下を合わせて展開する。
搭載ブロックＣＢ２のブロックの左下に合わせて展開す
る。次にブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ２に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最大ｘ座標、
最小ｙ座標に左下を合わせて展開する。
【００３４】組み合わされた結果、同図（ｂ）となり、
パターンデータは同図（ｃ）のブロックパターンに格納
される。ステップ１１５で同図（ｂ）で示すように、搭
載ブロックＣＢ２の左下隅角を（０，０）とした場合の
ずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙが各々求めら
れる。ステップ１１６で同図（ｃ）に示すように、ブロ
ックデータにブロック番号ＣＢ２とずらし量が格納され
る。
パターンデータは同図（ｃ）のブロックパターンに格納
される。ステップ１１５で同図（ｂ）で示すように、搭
載ブロックＣＢ２の左下隅角を（０，０）とした場合の
ずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙが各々求めら
れる。ステップ１１６で同図（ｃ）に示すように、ブロ
ックデータにブロック番号ＣＢ２とずらし量が格納され
る。
【００３５】図７は２つのブロックを組み合わせて搭載
ブロックを構成する別のブロックデータ組み合わせ処理
のフローである。まず、ステップ１２１で基本となるブ
ロックＡを取り出し、そのブロックのパターン存在領域
Ａｘ，Ａｙを求める。ステップ１２２でブロックＡ以外
のブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在領域
Ｂｘ，Ｂｙを求める。
ブロックを構成する別のブロックデータ組み合わせ処理
のフローである。まず、ステップ１２１で基本となるブ
ロックＡを取り出し、そのブロックのパターン存在領域
Ａｘ，Ａｙを求める。ステップ１２２でブロックＡ以外
のブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在領域
Ｂｘ，Ｂｙを求める。
【００３６】ブロックＡのパターン存在領域Ａｙとブロ
ックＢの存在領域Ｂｙとの和がブロックのＹ方向サイズ
Ｙ０以下であれば、ブロックとしてＹ方向に並べて搭載
することができるため、ステップ１２３でその判定を行
う。ステップ１２４には組み合わせが可能とされたブロ
ック２つが入力され、搭載ブロックへのパターン展開が
行われる。
ックＢの存在領域Ｂｙとの和がブロックのＹ方向サイズ
Ｙ０以下であれば、ブロックとしてＹ方向に並べて搭載
することができるため、ステップ１２３でその判定を行
う。ステップ１２４には組み合わせが可能とされたブロ
ック２つが入力され、搭載ブロックへのパターン展開が
行われる。
【００３７】まずステップ１２４ではブロックＡのパタ
ーンを搭載ブロックの左端に寄せて展開する。次にブロ
ックＢのパターンを、ブロックＡを展開した領域の上側
に展開する。ステップ１２５，ステップ１２６でブロッ
クＡ，Ｂのずらし量を求め、設定する。ステップ１２７
で、作成した搭載ブロックの個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０
に満たなければステップ１２１〜ステップ１２６を繰り
返す。
ーンを搭載ブロックの左端に寄せて展開する。次にブロ
ックＢのパターンを、ブロックＡを展開した領域の上側
に展開する。ステップ１２５，ステップ１２６でブロッ
クＡ，Ｂのずらし量を求め、設定する。ステップ１２７
で、作成した搭載ブロックの個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０
に満たなければステップ１２１〜ステップ１２６を繰り
返す。
【００３８】図８が２つのブロックを組み合わせる場合
の説明図である。まず、ステップ１２１においてブロッ
クＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求め
られる。ステップ１２２でブロックＢが取り出され、同
じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。ス
テップ１２３でパターン存在領域Ａｙ及びＢｙの和がブ
ロックのＹ方向サイズＹ０以下であるため、組み合わせ
可能としてステップ１２４へ行く。
の説明図である。まず、ステップ１２１においてブロッ
クＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求め
られる。ステップ１２２でブロックＢが取り出され、同
じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。ス
テップ１２３でパターン存在領域Ａｙ及びＢｙの和がブ
ロックのＹ方向サイズＹ０以下であるため、組み合わせ
可能としてステップ１２４へ行く。
【００３９】ステップ１２４でブロックＡのパターンを
搭載ブロックＣＢ３の左下隅角に合わせて展開する。次
に搭載ブロックＣＢ３に展開したブロックＡのパターン
存在領域の最小ｘ座標、最大ｙ座標にブロックＢのパタ
ーン存在領域の左下隅角を合わせてブロックＢのパター
ンを展開する。
搭載ブロックＣＢ３の左下隅角に合わせて展開する。次
に搭載ブロックＣＢ３に展開したブロックＡのパターン
存在領域の最小ｘ座標、最大ｙ座標にブロックＢのパタ
ーン存在領域の左下隅角を合わせてブロックＢのパター
ンを展開する。
【００４０】組み合わされた結果、同図（ｂ）となり、
パターンデータは同図（ｃ）のブロックパターンに格納
される。ステップ１２５で同図（ｂ）で示すように、搭
載ブロックＣＢ３の左下隅角を（０，０）とした場合の
ずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙが各々求めら
れる。ステップ１２６で同図（ｃ）に示すように、ブロ
ックデータにブロック番号ＣＢ３とずらし量が格納され
る。
パターンデータは同図（ｃ）のブロックパターンに格納
される。ステップ１２５で同図（ｂ）で示すように、搭
載ブロックＣＢ３の左下隅角を（０，０）とした場合の
ずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙが各々求めら
れる。ステップ１２６で同図（ｃ）に示すように、ブロ
ックデータにブロック番号ＣＢ３とずらし量が格納され
る。
【００４１】図９は３つのブロックを組み合わせて搭載
ブロックを構成するブロックデータ組み合わせ処理のフ
ローである。ステップ１３１で基本となるブロックＡを
取り出し、そのブロックパターンの存在領域Ａｘ，Ａｙ
を求める。ステップ１３２でブロックＡ以外のブロック
Ｂを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙ
を求める。
ブロックを構成するブロックデータ組み合わせ処理のフ
ローである。ステップ１３１で基本となるブロックＡを
取り出し、そのブロックパターンの存在領域Ａｘ，Ａｙ
を求める。ステップ１３２でブロックＡ以外のブロック
Ｂを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙ
を求める。
【００４２】ステップ１３３でブロックＡのパターン存
在領域ＡｙとブロックＢのパターン存在領域Ｂｙとの和
がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であればステップ１
３４へ行く。
在領域ＡｙとブロックＢのパターン存在領域Ｂｙとの和
がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であればステップ１
３４へ行く。
【００４３】ステップ１３４ではブロックＡとブロック
ＢをＹ方向に並べ合わせた時のＸ方向のパターン存在領
域ｍｘを求める。ステップ１３５でブロックＡ，Ｂ以外
のブロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域
Ｃｘ，Ｃｙを求める。
ＢをＹ方向に並べ合わせた時のＸ方向のパターン存在領
域ｍｘを求める。ステップ１３５でブロックＡ，Ｂ以外
のブロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域
Ｃｘ，Ｃｙを求める。
【００４４】ブロックＡ，Ｂのパターン存在領域を合わ
せたパターン存在領域ｍｘとブロックＣのパターン存在
領域Ｃｘとの和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であ
れば、ブロックとして組み合わせて搭載することができ
るため、ステップ１３６でその判定を行う。
せたパターン存在領域ｍｘとブロックＣのパターン存在
領域Ｃｘとの和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であ
れば、ブロックとして組み合わせて搭載することができ
るため、ステップ１３６でその判定を行う。
【００４５】ステップ１３７には組み合わせが可能とさ
れたブロック３つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まずステップ１３７ではブロックＡ
のパターンを搭載ブロックの左端に寄せて展開する。ブ
ロックＢのパターンをブロックＡを展開した領域の上側
に展開する。更にブロックＡ，Ｂを展開した領域の右側
へブロックＣを展開する。
れたブロック３つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まずステップ１３７ではブロックＡ
のパターンを搭載ブロックの左端に寄せて展開する。ブ
ロックＢのパターンをブロックＡを展開した領域の上側
に展開する。更にブロックＡ，Ｂを展開した領域の右側
へブロックＣを展開する。
【００４６】ステップ１３８でブロックＡ，Ｂ，Ｃのず
らし量を求め、このずらし量をステップ１３９で設定す
る。ステップ１４０で作成した搭載ブロックの個数Ｎが
搭載可能個数Ｎ０に満たなければステップ１３１〜ステ
ップ１３９を繰り返す。
らし量を求め、このずらし量をステップ１３９で設定す
る。ステップ１４０で作成した搭載ブロックの個数Ｎが
搭載可能個数Ｎ０に満たなければステップ１３１〜ステ
ップ１３９を繰り返す。
【００４７】図１０が３つのブロックを組み合わせる場
合の説明図である。まず、ステップ１３１においてブロ
ックＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求
められる。ステップ１３２でブロックＢが取り出され、
同じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。
ステップ１３３でパターン存在領域Ａｙ及びＢｙの和が
ブロックのＹ方向サイズＹ０以下であるため、組み合わ
せ候補としてステップ１３４へ行く。
合の説明図である。まず、ステップ１３１においてブロ
ックＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求
められる。ステップ１３２でブロックＢが取り出され、
同じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。
ステップ１３３でパターン存在領域Ａｙ及びＢｙの和が
ブロックのＹ方向サイズＹ０以下であるため、組み合わ
せ候補としてステップ１３４へ行く。
【００４８】ステップ１３４ではブロックＡとブロック
ＢをＹ方向に並べた時のパターン存在領域ｍｘを求め
る。この例では、この場合ブロックＢのパターン存在領
域が採用される。次にステップ１３５でブロックＣが取
り出され、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。
ステップ１３６で上のステップ１３５で求められたパタ
ーン存在領域ｍｘ及びＣｘの和が、ブロックのＸ方向サ
イズＸ０以下であるため、組み合わせ可能としてステッ
プ１３７へ行く。
ＢをＹ方向に並べた時のパターン存在領域ｍｘを求め
る。この例では、この場合ブロックＢのパターン存在領
域が採用される。次にステップ１３５でブロックＣが取
り出され、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。
ステップ１３６で上のステップ１３５で求められたパタ
ーン存在領域ｍｘ及びＣｘの和が、ブロックのＸ方向サ
イズＸ０以下であるため、組み合わせ可能としてステッ
プ１３７へ行く。
【００４９】ステップ１３７でブロックＡのパターンを
搭載ブロックＣＢ４のブロックの左下隅角に合わせて展
開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ４に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最小ｘ座標、
最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらにブロ
ックＣのパターンを搭載ブロックＣＢ４に展開したブロ
ックＡ＋ブロックＢのパターン存在領域の最大ｘ座標、
ブロックＡのパターン存在領域の最小ｙ座標に左下隅角
を合わせて展開する。
搭載ブロックＣＢ４のブロックの左下隅角に合わせて展
開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ４に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最小ｘ座標、
最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらにブロ
ックＣのパターンを搭載ブロックＣＢ４に展開したブロ
ックＡ＋ブロックＢのパターン存在領域の最大ｘ座標、
ブロックＡのパターン存在領域の最小ｙ座標に左下隅角
を合わせて展開する。
【００５０】組み合わされた結果、同図（ｂ）となり、
パターンデータは同図（ｃ）のブロックパターンに格納
される。ステップ１３８で同図（ｂ）で示すように、搭
載ブロックＣＢ４の左下隅角を（０，０）とした場合の
ずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，ΔＣｘ，Δ
Ｃｙが各々求められる。ステップ１３９で同図（ｃ）に
示すように、ブロックデータにブロック番号ＣＢ４とず
らし量が格納される。
パターンデータは同図（ｃ）のブロックパターンに格納
される。ステップ１３８で同図（ｂ）で示すように、搭
載ブロックＣＢ４の左下隅角を（０，０）とした場合の
ずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，ΔＣｘ，Δ
Ｃｙが各々求められる。ステップ１３９で同図（ｃ）に
示すように、ブロックデータにブロック番号ＣＢ４とず
らし量が格納される。
【００５１】図１１は３つのブロックを組み合わせて搭
載ブロックを構成する別のブロックデータ組み合わせ処
理のフローである。ステップ１５１で基本となるブロッ
クＡを取り出し、そのブロックパターンの存在領域Ａ
ｘ，Ａｙを求める。ステップ１５２でブロックＡ以外の
ブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｂ
ｘ，Ｂｙを求める。
載ブロックを構成する別のブロックデータ組み合わせ処
理のフローである。ステップ１５１で基本となるブロッ
クＡを取り出し、そのブロックパターンの存在領域Ａ
ｘ，Ａｙを求める。ステップ１５２でブロックＡ以外の
ブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｂ
ｘ，Ｂｙを求める。
【００５２】ステップ１５３でブロックＡのパターン存
在領域ＡｘとブロックＢのパターン存在領域Ｂｘとの和
がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であればステップ１
５４へ行く。ステップ１５４ではブロックＡとブロック
ＢをＸ方向に並べ合わせた時のＹ方向のパターン存在領
域ｍｙを求める。
在領域ＡｘとブロックＢのパターン存在領域Ｂｘとの和
がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であればステップ１
５４へ行く。ステップ１５４ではブロックＡとブロック
ＢをＸ方向に並べ合わせた時のＹ方向のパターン存在領
域ｍｙを求める。
【００５３】ステップ１５５でブロックＡ，Ｂ以外のブ
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。ブロックＡ，Ｂを合わせたパターン
存在領域ｍｙとブロックＣのパターン存在領域Ｃｙとの
和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であれば、ブロッ
クとして組み合わせて搭載することができるため、ステ
ップ１５６でその判定を行う。
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。ブロックＡ，Ｂを合わせたパターン
存在領域ｍｙとブロックＣのパターン存在領域Ｃｙとの
和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であれば、ブロッ
クとして組み合わせて搭載することができるため、ステ
ップ１５６でその判定を行う。
【００５４】ステップ１５７には組み合わせが可能とさ
れたブロック３つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まずブロックＡのパターンを搭載ブ
ロックの左端に寄せて展開する。次にブロックＢのパタ
ーンをブロックＡを展開した領域の右側に展開する。更
にブロックＡ，Ｂを展開した領域の上側へブロックＣを
展開する。
れたブロック３つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まずブロックＡのパターンを搭載ブ
ロックの左端に寄せて展開する。次にブロックＢのパタ
ーンをブロックＡを展開した領域の右側に展開する。更
にブロックＡ，Ｂを展開した領域の上側へブロックＣを
展開する。
【００５５】ステップ１５８でブロックＡ，Ｂ，Ｃのず
らし量を求め、求めたずらし量をステップ１５９で設定
する。ステップ１６０で、作成した搭載ブロックの個数
Ｎが搭載可能個数Ｎ０に満たなければステップ１５１〜
ステップ１５９を繰り返す。
らし量を求め、求めたずらし量をステップ１５９で設定
する。ステップ１６０で、作成した搭載ブロックの個数
Ｎが搭載可能個数Ｎ０に満たなければステップ１５１〜
ステップ１５９を繰り返す。
【００５６】図１２が３つのブロックを組み合わせる場
合の説明図である。まず、ステップ１５１においてブロ
ックＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求
められる。ステップ１５２でブロックＢが取り出され、
同じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。
ステップ１５３でパターン存在領域Ａｘ及びＢｘの和が
ブロックサイズのＸ方向以下であるため、組み合わせ候
補としてステップ１５４へ行く。
合の説明図である。まず、ステップ１５１においてブロ
ックＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求
められる。ステップ１５２でブロックＢが取り出され、
同じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。
ステップ１５３でパターン存在領域Ａｘ及びＢｘの和が
ブロックサイズのＸ方向以下であるため、組み合わせ候
補としてステップ１５４へ行く。
【００５７】ステップ１５４ではブロックＡとブロック
ＢをＸ方向に並べた時のブロックのパターン存在領域ｍ
ｙを求める。この例では、この場合ブロックＡのパター
ン存在領域が採用される。次にステップ１５５でブロッ
クＣが取り出され、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求め
られる。ステップ１５６で上のステップ１５５で求めら
れたパターン存在領域ｍｙ及びＣｙの和が、ブロックの
Ｙ方向サイズＹ０以下であるため、組み合わせ可能とし
てステップ１５７へ行く。
ＢをＸ方向に並べた時のブロックのパターン存在領域ｍ
ｙを求める。この例では、この場合ブロックＡのパター
ン存在領域が採用される。次にステップ１５５でブロッ
クＣが取り出され、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求め
られる。ステップ１５６で上のステップ１５５で求めら
れたパターン存在領域ｍｙ及びＣｙの和が、ブロックの
Ｙ方向サイズＹ０以下であるため、組み合わせ可能とし
てステップ１５７へ行く。
【００５８】ステップ１５７でブロックＡのパターンを
搭載ブロックＣＢ５のブロックの左下隅角に合わせて展
開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ５に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最大ｘ座標、
最小ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらにブロ
ックＣのパターンを搭載ブロックＣＢ５に展開したブロ
ックＡのパターン存在領域の最小ｘ座標、ブロックＡ＋
ブロックＢのパターン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角
を合わせて展開する。
搭載ブロックＣＢ５のブロックの左下隅角に合わせて展
開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ５に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最大ｘ座標、
最小ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらにブロ
ックＣのパターンを搭載ブロックＣＢ５に展開したブロ
ックＡのパターン存在領域の最小ｘ座標、ブロックＡ＋
ブロックＢのパターン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角
を合わせて展開する。
【００５９】組み合わされた結果、同図（ｂ）となり、
パターンデータは同図（ｃ）のブロックパターンに格納
される。ステップ１５８で同図（ｂ）で示すように、搭
載ブロックＣＢ５の左下隅角を（０，０）とした場合の
ずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，ΔＣｘ，Δ
Ｃｙが各々求められる。ステップ１５９で同図（ｃ）に
示すように、ブロックデータにブロック番号ＣＢ５とず
らし量が格納される。
パターンデータは同図（ｃ）のブロックパターンに格納
される。ステップ１５８で同図（ｂ）で示すように、搭
載ブロックＣＢ５の左下隅角を（０，０）とした場合の
ずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，ΔＣｘ，Δ
Ｃｙが各々求められる。ステップ１５９で同図（ｃ）に
示すように、ブロックデータにブロック番号ＣＢ５とず
らし量が格納される。
【００６０】図１３，図１４は３つのブロックを組み合
わせて搭載ブロックを構成する別のブロックデータ組み
合わせ処理のフローである。ステップ１７１で基本とな
るブロックＡを取り出し、そのブロックパターンの存在
領域Ａｘ，Ａｙを求める。ステップ１７２でブロックＡ
以外のブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在
領域Ｂｘ，Ｂｙを求める。
わせて搭載ブロックを構成する別のブロックデータ組み
合わせ処理のフローである。ステップ１７１で基本とな
るブロックＡを取り出し、そのブロックパターンの存在
領域Ａｘ，Ａｙを求める。ステップ１７２でブロックＡ
以外のブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在
領域Ｂｘ，Ｂｙを求める。
【００６１】ステップ１７３でブロックＡのパターン存
在領域ＡｙとブロックＢのパターン存在領域Ｂｙとの和
がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であればステップ１
７４へ行く。ステップ１７４でブロックＡ，Ｂ以外のブ
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。
在領域ＡｙとブロックＢのパターン存在領域Ｂｙとの和
がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であればステップ１
７４へ行く。ステップ１７４でブロックＡ，Ｂ以外のブ
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。
【００６２】この時ステップ１７５でブロックＡのパタ
ーン存在領域ＡｘとブロックＣのパターン存在領域Ｃｘ
との和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であり、且つ
ブロックＣのパターン存在領域ＣｙがブロックＡのパタ
ーン存在領域Ａｙ以下である時には、ブロックＣと組み
合わせるブロックがブロックＡであることを記憶してス
テップ１７７へ行く。そうでなければステップ１７６へ
行く。
ーン存在領域ＡｘとブロックＣのパターン存在領域Ｃｘ
との和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であり、且つ
ブロックＣのパターン存在領域ＣｙがブロックＡのパタ
ーン存在領域Ａｙ以下である時には、ブロックＣと組み
合わせるブロックがブロックＡであることを記憶してス
テップ１７７へ行く。そうでなければステップ１７６へ
行く。
【００６３】ステップ１７６ではブロックＢのパターン
存在領域ＢｘとブロックＣのパターン存在領域Ｃｘとの
和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であり、且つブロ
ックＣのパターン存在領域ＣｙがブロックＢのパターン
存在領域Ｂｙ以下である時には、ブロックＣと組み合わ
せるブロックがブロックＢであることを記憶してステッ
プ１７７へ行く。そうでなければステップ１７４へ行
く。
存在領域ＢｘとブロックＣのパターン存在領域Ｃｘとの
和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であり、且つブロ
ックＣのパターン存在領域ＣｙがブロックＢのパターン
存在領域Ｂｙ以下である時には、ブロックＣと組み合わ
せるブロックがブロックＢであることを記憶してステッ
プ１７７へ行く。そうでなければステップ１７４へ行
く。
【００６４】ステップ１７７には組み合わせが可能とさ
れたブロック３つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まず、ブロックＡのパターンを搭載
ブロックの左端に寄せて展開する。ブロックＢのパター
ンをブロックＡを展開した領域の上側に展開する。
れたブロック３つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まず、ブロックＡのパターンを搭載
ブロックの左端に寄せて展開する。ブロックＢのパター
ンをブロックＡを展開した領域の上側に展開する。
【００６５】ステップ１７８において、先程ブロックＣ
と組み合わせ可能と判断したブロックが何であったかを
判定する。ブロックＡであればステップ１７９へ行き、
ブロックＢであればステップ１８１へ行く。
と組み合わせ可能と判断したブロックが何であったかを
判定する。ブロックＡであればステップ１７９へ行き、
ブロックＢであればステップ１８１へ行く。
【００６６】ステップ１７９でブロックＡを展開した領
域の右側へブロックＣを展開する。ステップ１８０でブ
ロックＡ，Ｂ，Ｃのずらし量を求める。ステップ１８１
においてはブロックＢを展開した領域の右側へブロック
Ｃを展開する。ステップ１８２でブロックＡ，Ｂ，Ｃの
ずらし量を求める。ステップ１８３で、ステップ１８０
又は１８２で求めたずらし量を設定する。ステップ１８
４で作成した搭載ブロックの個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０
に満たなければステップ１７１〜ステップ１８３を繰り
返す。
域の右側へブロックＣを展開する。ステップ１８０でブ
ロックＡ，Ｂ，Ｃのずらし量を求める。ステップ１８１
においてはブロックＢを展開した領域の右側へブロック
Ｃを展開する。ステップ１８２でブロックＡ，Ｂ，Ｃの
ずらし量を求める。ステップ１８３で、ステップ１８０
又は１８２で求めたずらし量を設定する。ステップ１８
４で作成した搭載ブロックの個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０
に満たなければステップ１７１〜ステップ１８３を繰り
返す。
【００６７】図１５，図１６が図１３，図１４の処理フ
ローに対応して３つのブロックを組み合わせる場合の説
明図である。図１５ではステップ１７１においてブロッ
クＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求め
られる。ステップ１７２でブロックＢが取り出され、同
じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。ス
テップ１７３でパターン存在領域Ａｙ及びＢｙの和がブ
ロックのＹ方向サイズＹ０以下であるため、組み合わせ
候補としてステップ１７４へ行く。
ローに対応して３つのブロックを組み合わせる場合の説
明図である。図１５ではステップ１７１においてブロッ
クＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求め
られる。ステップ１７２でブロックＢが取り出され、同
じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。ス
テップ１７３でパターン存在領域Ａｙ及びＢｙの和がブ
ロックのＹ方向サイズＹ０以下であるため、組み合わせ
候補としてステップ１７４へ行く。
【００６８】ステップ１７４でブロックＣが取り出さ
れ、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。ステッ
プ１７５ではパターン存在領域Ａｘ及びＣｘの和がブロ
ックのＸ方向サイズＸ０以下であり、且つパターン存在
領域Ｃｙがパターン存在領域Ａｙ以下であるためブロッ
クＡとブロックＣが組み合わせ可能としてステップ１７
７へ行く。
れ、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。ステッ
プ１７５ではパターン存在領域Ａｘ及びＣｘの和がブロ
ックのＸ方向サイズＸ０以下であり、且つパターン存在
領域Ｃｙがパターン存在領域Ａｙ以下であるためブロッ
クＡとブロックＣが組み合わせ可能としてステップ１７
７へ行く。
【００６９】ステップ１７７でブロックＡのパターンを
搭載ブロックＣＢ６のブロックの左下隅角に合わせて展
開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ６に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最小ｘ座標、
最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。
搭載ブロックＣＢ６のブロックの左下隅角に合わせて展
開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ６に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最小ｘ座標、
最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。
【００７０】ステップ１７８で先程ブロックＣと組み合
わせが可能と判断されたのがブロックＡであったので、
ステップ１７９へ行く。ステップ１７９では、ブロック
Ｃのパターンを搭載ブロックＣＢ６に展開したブロック
Ａのパターン存在領域の最大ｘ座標、最小ｙ座標に左下
隅角を合わせて展開する。
わせが可能と判断されたのがブロックＡであったので、
ステップ１７９へ行く。ステップ１７９では、ブロック
Ｃのパターンを搭載ブロックＣＢ６に展開したブロック
Ａのパターン存在領域の最大ｘ座標、最小ｙ座標に左下
隅角を合わせて展開する。
【００７１】組み合わされた結果、図１５（ｂ）とな
り、パターンデータは図１５（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ１８２で図１５（ｂ）で示すよ
うに、搭載ブロックＣＢ６の左下隅角を（０，０）とし
た場合のずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，Δ
Ｃｘ，ΔＣｙが各々求められる。ステップ１８３で図１
５（ｃ）に示すように、ブロックデータにブロック番号
ＣＢ６とずらし量が格納される。
り、パターンデータは図１５（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ１８２で図１５（ｂ）で示すよ
うに、搭載ブロックＣＢ６の左下隅角を（０，０）とし
た場合のずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，Δ
Ｃｘ，ΔＣｙが各々求められる。ステップ１８３で図１
５（ｃ）に示すように、ブロックデータにブロック番号
ＣＢ６とずらし量が格納される。
【００７２】また、図１６（ａ）のような抽出ブロック
の場合においては、ステップ１７５の判定はＮＯとなる
ため、ステップ１７６へ行く。ステップ１７６ではパタ
ーン存在領域Ｂｘ及びＣｘの和がブロックのＸ方向サイ
ズＸ０以下であり、且つパターン存在領域Ｃｙがパター
ン存在領域Ｂｙ以下であるためブロックＢとブロックＣ
が組み合わせ可能としてステップ１７７へ行き、同様に
ブロックＡ，Ｂのパターン展開が行われる。
の場合においては、ステップ１７５の判定はＮＯとなる
ため、ステップ１７６へ行く。ステップ１７６ではパタ
ーン存在領域Ｂｘ及びＣｘの和がブロックのＸ方向サイ
ズＸ０以下であり、且つパターン存在領域Ｃｙがパター
ン存在領域Ｂｙ以下であるためブロックＢとブロックＣ
が組み合わせ可能としてステップ１７７へ行き、同様に
ブロックＡ，Ｂのパターン展開が行われる。
【００７３】ステップ１７８ではブロックＣと組み合わ
せが可能と判断されたのがブロックＢであったので、ス
テップ１８１へ行く。ステップ１８１では、ブロックＣ
のパターンを搭載ブロックＣＢ７に展開したブロックＢ
のパターン存在領域の最大ｘ座標、ブロックＡのパター
ン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開す
る。
せが可能と判断されたのがブロックＢであったので、ス
テップ１８１へ行く。ステップ１８１では、ブロックＣ
のパターンを搭載ブロックＣＢ７に展開したブロックＢ
のパターン存在領域の最大ｘ座標、ブロックＡのパター
ン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開す
る。
【００７４】組み合わされた結果、図１６（ｂ）とな
り、パターンデータは図１６（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ１８２で同様にブロックＡ，
Ｂ，Ｃのずらし量が求められ、ステップ１８３で図１６
（ｃ）に示すようにブロックデータが格納される。
り、パターンデータは図１６（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ１８２で同様にブロックＡ，
Ｂ，Ｃのずらし量が求められ、ステップ１８３で図１６
（ｃ）に示すようにブロックデータが格納される。
【００７５】図１７，図１８は３つのブロックを組み合
わせて搭載ブロックを構成するためのさらに別のブロッ
クデータ組み合わせ処理のフローである。ステップ１９
１で基本となるブロックＡを取り出し、そのブロックの
パターン存在領域Ａｘ，Ａｙを求める。ステップ１９２
でブロックＡ以外のブロックＢを取り出し、同じように
パターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙを求める。
わせて搭載ブロックを構成するためのさらに別のブロッ
クデータ組み合わせ処理のフローである。ステップ１９
１で基本となるブロックＡを取り出し、そのブロックの
パターン存在領域Ａｘ，Ａｙを求める。ステップ１９２
でブロックＡ以外のブロックＢを取り出し、同じように
パターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙを求める。
【００７６】ステップ１９３でブロックＡのパターン存
在領域ＡｘとブロックＢのパターン存在領域Ｂｘとの和
がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であればステップ１
９４へ行く。ステップ１９４でブロックＡ，Ｂ以外のブ
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。
在領域ＡｘとブロックＢのパターン存在領域Ｂｘとの和
がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であればステップ１
９４へ行く。ステップ１９４でブロックＡ，Ｂ以外のブ
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。
【００７７】この時ステップ１９５でブロックＡのパタ
ーン存在領域ＡｙとブロックＣのパターン存在領域Ｃｙ
との和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であり、且つ
ブロックＣのパターン存在領域ＣｘがブロックＡのパタ
ーン存在領域Ａｘ以下である時には、ブロックＣと組み
合わせるブロックがブロックＡであることを記憶してス
テップ１９７へ行く。そうでなければステップ１９６へ
行く。
ーン存在領域ＡｙとブロックＣのパターン存在領域Ｃｙ
との和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であり、且つ
ブロックＣのパターン存在領域ＣｘがブロックＡのパタ
ーン存在領域Ａｘ以下である時には、ブロックＣと組み
合わせるブロックがブロックＡであることを記憶してス
テップ１９７へ行く。そうでなければステップ１９６へ
行く。
【００７８】ステップ１９６ではブロックＢのパターン
存在領域ＢｙとブロックＣのパターン存在領域Ｃｙとの
和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であり、且つブロ
ックＣのパターン存在領域ＣｘがブロックＢのパターン
存在領域Ｂｘ以下である時には、ブロックＣと組み合わ
せるブロックがブロックＢであることを記憶してステッ
プ１９７へ行く。そうでなければステップ１９４へ行
く。
存在領域ＢｙとブロックＣのパターン存在領域Ｃｙとの
和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であり、且つブロ
ックＣのパターン存在領域ＣｘがブロックＢのパターン
存在領域Ｂｘ以下である時には、ブロックＣと組み合わ
せるブロックがブロックＢであることを記憶してステッ
プ１９７へ行く。そうでなければステップ１９４へ行
く。
【００７９】ステップ１９７には組み合わせが可能とさ
れたブロック３つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まずブロックＡのパターンを搭載ブ
ロックの左端に寄せて展開する。次にブロックＢのパタ
ーンをブロックＡを展開した領域の右側に展開する。
れたブロック３つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まずブロックＡのパターンを搭載ブ
ロックの左端に寄せて展開する。次にブロックＢのパタ
ーンをブロックＡを展開した領域の右側に展開する。
【００８０】ステップ１９８において、先程ブロックＣ
と組み合わせ可能と判断したブロックが何であったかを
判定する。ブロックＡであればステップ１９９へ行き、
ブロックＢであればステップ２０１へ行く。
と組み合わせ可能と判断したブロックが何であったかを
判定する。ブロックＡであればステップ１９９へ行き、
ブロックＢであればステップ２０１へ行く。
【００８１】ステップ１９９でブロックＡを展開した領
域の上側へブロックＣを展開する。ステップ２００でブ
ロックＡ，Ｂ，Ｃのずらし量を求め、求めたずらし量を
ステップ２０３で設定する。
域の上側へブロックＣを展開する。ステップ２００でブ
ロックＡ，Ｂ，Ｃのずらし量を求め、求めたずらし量を
ステップ２０３で設定する。
【００８２】ステップ２０１においてはブロックＢを展
開した領域の上側へブロックＣを展開する。ステップ２
０２でブロックＡ，Ｂ，Ｃのずらし量を求め、求めたず
らし量をステップ２０３で設定する。ステップ２０４
で、作成した搭載ブロックの個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０
に満たなければステップ１９１〜ステップ２０３を繰り
返す。
開した領域の上側へブロックＣを展開する。ステップ２
０２でブロックＡ，Ｂ，Ｃのずらし量を求め、求めたず
らし量をステップ２０３で設定する。ステップ２０４
で、作成した搭載ブロックの個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０
に満たなければステップ１９１〜ステップ２０３を繰り
返す。
【００８３】図１９，図２０が図１７，図１８の処理フ
ローに対応して３つのブロックを組み合わせる場合の説
明図である。図１９ではステップ１９１においてブロッ
クＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求め
られる。ステップ１９２でブロックＢが取り出され、同
じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。ス
テップ１９３でパターン存在領域Ａｘ及びＢｘの和がブ
ロックのＸ方向サイズＸ０以下であるため、組み合わせ
候補としてステップ１９４へ行く。
ローに対応して３つのブロックを組み合わせる場合の説
明図である。図１９ではステップ１９１においてブロッ
クＡが取り出され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求め
られる。ステップ１９２でブロックＢが取り出され、同
じようにパターン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。ス
テップ１９３でパターン存在領域Ａｘ及びＢｘの和がブ
ロックのＸ方向サイズＸ０以下であるため、組み合わせ
候補としてステップ１９４へ行く。
【００８４】ステップ１９４でブロックＣが取り出さ
れ、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。ステッ
プ１９５ではパターン存在領域Ａｙ及びＣｙの和がブロ
ックのＹ方向サイズＹ０以下であり、且つパターン存在
領域Ｃｘがパターン存在領域Ａｘ以下であるためブロッ
クＡとブロックＣが組み合わせ可能としてステップ１９
７へ行く。
れ、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。ステッ
プ１９５ではパターン存在領域Ａｙ及びＣｙの和がブロ
ックのＹ方向サイズＹ０以下であり、且つパターン存在
領域Ｃｘがパターン存在領域Ａｘ以下であるためブロッ
クＡとブロックＣが組み合わせ可能としてステップ１９
７へ行く。
【００８５】ステップ１９７でブロックＡのパターンを
搭載ブロックＣＢ８のブロックの左下隅角に合わせて展
開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ８に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最大ｘ座標、
最小ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらにステ
ップ１９８で先程ブロックＣと組み合わせが可能と判断
されたのがブロックＡであったので、ステップ１９９へ
行く。ステップ１９９では、ブロックＣのパターンを搭
載ブロックＣＢ８に展開したブロックＡのパターン存在
領域の最小ｘ座標、最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展
開する。
搭載ブロックＣＢ８のブロックの左下隅角に合わせて展
開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ８に
展開したブロックＡのパターン存在領域の最大ｘ座標、
最小ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらにステ
ップ１９８で先程ブロックＣと組み合わせが可能と判断
されたのがブロックＡであったので、ステップ１９９へ
行く。ステップ１９９では、ブロックＣのパターンを搭
載ブロックＣＢ８に展開したブロックＡのパターン存在
領域の最小ｘ座標、最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展
開する。
【００８６】組み合わされた結果、図１９（ｂ）とな
り、パターンデータは図１９（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ２００で図１９（ｂ）で示すよ
うに、搭載ブロックＣＢ８の左下隅角を（０，０）とし
た場合のずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，Δ
Ｃｘ，ΔＣｙが各々求められる。ステップ２０３で図１
９（ｃ）に示すように、ブロックデータにブロック番号
ＣＢ８とずらし量が格納される。
り、パターンデータは図１９（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ２００で図１９（ｂ）で示すよ
うに、搭載ブロックＣＢ８の左下隅角を（０，０）とし
た場合のずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，Δ
Ｃｘ，ΔＣｙが各々求められる。ステップ２０３で図１
９（ｃ）に示すように、ブロックデータにブロック番号
ＣＢ８とずらし量が格納される。
【００８７】また、図２０（ａ）のような抽出ブロック
の場合においては、ステップ１９５の判定はＮＯとなる
ため、ステップ１９６へ行く。ステップ１９６ではパタ
ーン存在領域Ｂｙ及びＣｙの和がブロックのＹ方向サイ
ズＹ０以下であり、且つパターン存在領域Ｃｘがパター
ン存在領域Ｂｘ以下であるためブロックＢとブロックＣ
が組み合わせ可能としてステップ１９７へ行き、同様に
ブロックＡ，Ｂのパターン展開が行われる。
の場合においては、ステップ１９５の判定はＮＯとなる
ため、ステップ１９６へ行く。ステップ１９６ではパタ
ーン存在領域Ｂｙ及びＣｙの和がブロックのＹ方向サイ
ズＹ０以下であり、且つパターン存在領域Ｃｘがパター
ン存在領域Ｂｘ以下であるためブロックＢとブロックＣ
が組み合わせ可能としてステップ１９７へ行き、同様に
ブロックＡ，Ｂのパターン展開が行われる。
【００８８】ステップ１９８ではブロックＣと組み合わ
せが可能と判断されたのがブロックＢであったので、ス
テップ２０１へ行く。ステップ２０１では、ブロックＣ
のパターンを搭載ブロックＣＢ９に展開したブロックＡ
のパターン存在領域の最大ｘ座標、ブロックＢのパター
ン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開す
る。
せが可能と判断されたのがブロックＢであったので、ス
テップ２０１へ行く。ステップ２０１では、ブロックＣ
のパターンを搭載ブロックＣＢ９に展開したブロックＡ
のパターン存在領域の最大ｘ座標、ブロックＢのパター
ン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開す
る。
【００８９】組み合わされた結果、図２０（ｂ）とな
り、パターンデータは図２０（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ２０２で同様にブロックＡ，
Ｂ，Ｃのずらし量が求められ、ステップ２０３で図２０
（ｃ）に示すようにブロックデータが格納される。
り、パターンデータは図２０（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ２０２で同様にブロックＡ，
Ｂ，Ｃのずらし量が求められ、ステップ２０３で図２０
（ｃ）に示すようにブロックデータが格納される。
【００９０】図２１，２２は４つのブロックを組み合わ
せて搭載ブロックを構成するブロックデータ組み合わせ
処理のフローである。ステップ２１１で基本となるブロ
ックＡを取り出し、そのブロックのパターン存在領域Ａ
ｘ，Ａｙを求める。ステップ２１２でブロックＡ以外の
ブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｂ
ｘ，Ｂｙを求める。
せて搭載ブロックを構成するブロックデータ組み合わせ
処理のフローである。ステップ２１１で基本となるブロ
ックＡを取り出し、そのブロックのパターン存在領域Ａ
ｘ，Ａｙを求める。ステップ２１２でブロックＡ以外の
ブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｂ
ｘ，Ｂｙを求める。
【００９１】ステップ２１３でブロックＡのパターン存
在領域ＡｙとブロックＢのパターン存在領域Ｂｙとの和
がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であればステップ２
１４へ行く。ステップ２１４ではブロックＡとブロック
ＢをＹ方向に並べ合わせた時のＸ方向のパターン存在領
域ｍｘを求める。
在領域ＡｙとブロックＢのパターン存在領域Ｂｙとの和
がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であればステップ２
１４へ行く。ステップ２１４ではブロックＡとブロック
ＢをＹ方向に並べ合わせた時のＸ方向のパターン存在領
域ｍｘを求める。
【００９２】ステップ２１５でブロックＡ，Ｂ以外のブ
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。ステップ２１６でブロックＡ，Ｂ，
Ｃ以外のブロックＤを取り出し、同じようにパターン存
在領域Ｄｘ，Ｄｙを求める。
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。ステップ２１６でブロックＡ，Ｂ，
Ｃ以外のブロックＤを取り出し、同じようにパターン存
在領域Ｄｘ，Ｄｙを求める。
【００９３】ステップ２１７でブロックＣのパターン存
在領域ＣｙとブロックＤのパターン存在領域Ｄｙとの和
がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であればステップ２
１８へ行く。ステップ２１８ではブロックＣとブロック
ＤをＹ方向に並べ合わせた時のＸ方向のパターン存在領
域ｎｘを求める。
在領域ＣｙとブロックＤのパターン存在領域Ｄｙとの和
がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であればステップ２
１８へ行く。ステップ２１８ではブロックＣとブロック
ＤをＹ方向に並べ合わせた時のＸ方向のパターン存在領
域ｎｘを求める。
【００９４】ブロックＡ，Ｂを合わせたパターン存在領
域ｍｘとブロックＣ，Ｄを合わせたパターン存在領域ｎ
ｘとの和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であれば、
ブロックとして組み合わせて搭載することができるた
め、ステップ２１９でその判定を行う。
域ｍｘとブロックＣ，Ｄを合わせたパターン存在領域ｎ
ｘとの和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であれば、
ブロックとして組み合わせて搭載することができるた
め、ステップ２１９でその判定を行う。
【００９５】ステップ２２０には組み合わせが可能とさ
れたブロック４つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まず、ブロックＡのパターンを搭載
ブロックの左端に寄せて展開する。次にブロックＢのパ
ターンをブロックＡを展開した領域の上側に展開する。
更にブロックＡ，Ｂを展開した領域の右下側へブロック
Ｃを展開し、ブロックＡ，Ｂを展開した領域の右側でか
つブロックＣの上側へブロックＤを展開する。
れたブロック４つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まず、ブロックＡのパターンを搭載
ブロックの左端に寄せて展開する。次にブロックＢのパ
ターンをブロックＡを展開した領域の上側に展開する。
更にブロックＡ，Ｂを展開した領域の右下側へブロック
Ｃを展開し、ブロックＡ，Ｂを展開した領域の右側でか
つブロックＣの上側へブロックＤを展開する。
【００９６】ステップ２２１でブロックＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
のずらし量を求め、求めたずらし量をステップ２２２で
設定する。ステップ２２３で、作成した搭載ブロックの
個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０に満たなければステップ２１
１〜ステップ２２２を繰り返す。
のずらし量を求め、求めたずらし量をステップ２２２で
設定する。ステップ２２３で、作成した搭載ブロックの
個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０に満たなければステップ２１
１〜ステップ２２２を繰り返す。
【００９７】図２３が図２１，図２２の処理フローに対
応して４つのブロックを組み合わせる場合の説明図であ
る。まず、ステップ２１１においてブロックＡが取り出
され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求められる。ステ
ップ２１２でブロックＢが取り出され、同じようにパタ
ーン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。
応して４つのブロックを組み合わせる場合の説明図であ
る。まず、ステップ２１１においてブロックＡが取り出
され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求められる。ステ
ップ２１２でブロックＢが取り出され、同じようにパタ
ーン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。
【００９８】ステップ２１３でパターン存在領域Ａｙ及
びＢｙの和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であるた
め、組み合わせ候補としてステップ２１４へ行く。ステ
ップ２１４ではブロックＡとブロックＢをＹ方向に並べ
た時のブロックのパターン存在領域ｍｘを求める。
びＢｙの和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であるた
め、組み合わせ候補としてステップ２１４へ行く。ステ
ップ２１４ではブロックＡとブロックＢをＹ方向に並べ
た時のブロックのパターン存在領域ｍｘを求める。
【００９９】次にステップ２１５でブロックＣが取り出
され、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。ステ
ップ２１６でブロックＤが取り出され、同じようにパタ
ーン存在領域Ｄｘ，Ｄｙが求められる。
され、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。ステ
ップ２１６でブロックＤが取り出され、同じようにパタ
ーン存在領域Ｄｘ，Ｄｙが求められる。
【０１００】ステップ２１７でパターン存在領域Ｃｙ及
びＤｙの和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であるた
め、組み合わせ候補としてステップ２１８へ行く。ステ
ップ２１８ではブロックＣとブロックＤをＹ方向に並べ
た時のブロックのパターン存在領域ｎｘを求める。
びＤｙの和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であるた
め、組み合わせ候補としてステップ２１８へ行く。ステ
ップ２１８ではブロックＣとブロックＤをＹ方向に並べ
た時のブロックのパターン存在領域ｎｘを求める。
【０１０１】ステップ２１９で上のステップで求められ
たパターン存在領域ｍｘ及びｎｘの和が、ブロックのＸ
方向サイズＸ０以下であるため、組み合わせ可能として
ステップ２２０へ行く。
たパターン存在領域ｍｘ及びｎｘの和が、ブロックのＸ
方向サイズＸ０以下であるため、組み合わせ可能として
ステップ２２０へ行く。
【０１０２】ステップ２２０でブロックＡのパターンを
搭載ブロックＣＢ１０のブロックの左下隅角に合わせて
展開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ１
０に展開したブロックＡのパターン存在領域の最小ｘ座
標、最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらに
ブロックＣのパターンを搭載ブロックＣＢ１０に展開し
たブロックＡ＋ブロックＢのパターン存在領域の最大ｘ
座標、ブロックＡのパターン存在領域の最小ｙ座標に左
下隅角を合わせて展開する。ブロックＤのパターンを、
搭載ブロックＣＢ１０に展開したブロックＡ＋ブロック
Ｂのパターン存在領域の最大ｘ座標、ブロックＣのパタ
ーン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開す
る。
搭載ブロックＣＢ１０のブロックの左下隅角に合わせて
展開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ１
０に展開したブロックＡのパターン存在領域の最小ｘ座
標、最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらに
ブロックＣのパターンを搭載ブロックＣＢ１０に展開し
たブロックＡ＋ブロックＢのパターン存在領域の最大ｘ
座標、ブロックＡのパターン存在領域の最小ｙ座標に左
下隅角を合わせて展開する。ブロックＤのパターンを、
搭載ブロックＣＢ１０に展開したブロックＡ＋ブロック
Ｂのパターン存在領域の最大ｘ座標、ブロックＣのパタ
ーン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展開す
る。
【０１０３】組み合わされた結果、図２３（ｂ）とな
り、パターンデータは図２３（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ２２１で図２３（ｂ）で示すよ
うに、搭載ブロックＣＢ１０の左下隅角を（０，０）と
した場合のずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，
ΔＣｘ，ΔＣｙ，ΔＤｘ，ΔＤｙが各々求められる。ス
テップ２２２で、図２３（ｃ）に示すように、ブロック
データにブロック番号ＣＢ１０とずらし量が格納され
る。
り、パターンデータは図２３（ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ２２１で図２３（ｂ）で示すよ
うに、搭載ブロックＣＢ１０の左下隅角を（０，０）と
した場合のずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢｙ，
ΔＣｘ，ΔＣｙ，ΔＤｘ，ΔＤｙが各々求められる。ス
テップ２２２で、図２３（ｃ）に示すように、ブロック
データにブロック番号ＣＢ１０とずらし量が格納され
る。
【０１０４】図２４，図２５は４つのブロックを組み合
わせて搭載ブロックを構成する別のブロックデータ組み
合わせ処理のフローである。ステップ２３１で基本とな
るブロックＡを取り出し、そのブロックのパターン存在
領域Ａｘ，Ａｙを求める。ステップ２３２でブロックＡ
以外のブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在
領域Ｂｘ，Ｂｙを求める。
わせて搭載ブロックを構成する別のブロックデータ組み
合わせ処理のフローである。ステップ２３１で基本とな
るブロックＡを取り出し、そのブロックのパターン存在
領域Ａｘ，Ａｙを求める。ステップ２３２でブロックＡ
以外のブロックＢを取り出し、同じようにパターン存在
領域Ｂｘ，Ｂｙを求める。
【０１０５】ステップ２３３でブロックＡのパターン存
在領域ＡｘとブロックＢのパターン存在領域Ｂｘとの和
がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であればステップ２
３４へ行く。ステップ２３４ではブロックＡとブロック
ＢをＸ方向に並べ合わせた時のＹ方向のパターン存在領
域ｍｙを求める。
在領域ＡｘとブロックＢのパターン存在領域Ｂｘとの和
がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であればステップ２
３４へ行く。ステップ２３４ではブロックＡとブロック
ＢをＸ方向に並べ合わせた時のＹ方向のパターン存在領
域ｍｙを求める。
【０１０６】ステップ２３５でブロックＡ，Ｂ以外のブ
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。ステップ２３６でブロックＡ，Ｂ，
Ｃ以外のブロックＤを取り出し、同じようにパターン存
在領域Ｄｘ，Ｄｙを求める。
ロックＣを取り出し、同じようにパターン存在領域Ｃ
ｘ，Ｃｙを求める。ステップ２３６でブロックＡ，Ｂ，
Ｃ以外のブロックＤを取り出し、同じようにパターン存
在領域Ｄｘ，Ｄｙを求める。
【０１０７】ステップ２３７でブロックＣのパターン存
在領域ＣｘとブロックＤのパターン存在領域Ｄｘとの和
がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であればステップ２
３８へ行く。ステップ２３８ではブロックＣとブロック
ＤをＸ方向に並べ合わせた時のＹ方向のパターン存在領
域ｎｙを求める。
在領域ＣｘとブロックＤのパターン存在領域Ｄｘとの和
がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であればステップ２
３８へ行く。ステップ２３８ではブロックＣとブロック
ＤをＸ方向に並べ合わせた時のＹ方向のパターン存在領
域ｎｙを求める。
【０１０８】ブロックＡ，Ｂを合わせたパターン存在領
域ｍｙとブロックＣ，Ｄを合わせたパターン存在領域ｎ
ｙとの和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であれば、
ブロックとして組み合わせて搭載することができるた
め、ステップ２３９でその判定を行う。
域ｍｙとブロックＣ，Ｄを合わせたパターン存在領域ｎ
ｙとの和がブロックのＹ方向サイズＹ０以下であれば、
ブロックとして組み合わせて搭載することができるた
め、ステップ２３９でその判定を行う。
【０１０９】ステップ２４０には組み合わせが可能とさ
れたブロック４つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まず、ブロックＡのパターンを搭載
ブロックの左端に寄せて展開する。次にブロックＢのパ
ターンをブロックＡを展開した領域の右側に展開する。
更にブロックＡ，Ｂを展開した領域の左上側へブロック
Ｃを展開し、ブロックＡ，Ｂを展開した領域の上側でか
つブロックＣの右側へブロックＤを展開する。
れたブロック４つが入力され、搭載ブロックへのパター
ン展開が行われる。まず、ブロックＡのパターンを搭載
ブロックの左端に寄せて展開する。次にブロックＢのパ
ターンをブロックＡを展開した領域の右側に展開する。
更にブロックＡ，Ｂを展開した領域の左上側へブロック
Ｃを展開し、ブロックＡ，Ｂを展開した領域の上側でか
つブロックＣの右側へブロックＤを展開する。
【０１１０】ステップ２４１でブロックＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
のずらし量を求め、求めたずらし量をステップ２４２で
設定する。ステップ２４３で、作成した搭載ブロックの
個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０に満たなければステップ２３
１〜ステップ２４２を繰り返す。
のずらし量を求め、求めたずらし量をステップ２４２で
設定する。ステップ２４３で、作成した搭載ブロックの
個数Ｎが搭載可能個数Ｎ０に満たなければステップ２３
１〜ステップ２４２を繰り返す。
【０１１１】図２６が図２４，図２５の処理フローに対
応して４つのブロックを組み合わせる場合の説明図であ
る。まず、ステップ２３１においてブロックＡが取り出
され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求められる。ステ
ップ２３２でブロックＢが取り出され、同じようにパタ
ーン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。
応して４つのブロックを組み合わせる場合の説明図であ
る。まず、ステップ２３１においてブロックＡが取り出
され、パターン存在領域Ａｘ，Ａｙが求められる。ステ
ップ２３２でブロックＢが取り出され、同じようにパタ
ーン存在領域Ｂｘ，Ｂｙが求められる。
【０１１２】ステップ２３３でパターン存在領域Ａｘ及
びＢｘの和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であるた
め、組み合わせ候補としてステップ２３４へ行く。ステ
ップ２３４ではブロックＡとブロックＢをＸ方向に並べ
た時のブロックのパターン存在領域ｍｙを求める。
びＢｘの和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であるた
め、組み合わせ候補としてステップ２３４へ行く。ステ
ップ２３４ではブロックＡとブロックＢをＸ方向に並べ
た時のブロックのパターン存在領域ｍｙを求める。
【０１１３】次にステップ２３５でブロックＣが取り出
され、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。ステ
ップ２３６でブロックＤが取り出され、同じようにパタ
ーン存在領域Ｄｘ，Ｄｙが求められる。
され、パターン存在領域Ｃｘ，Ｃｙが求められる。ステ
ップ２３６でブロックＤが取り出され、同じようにパタ
ーン存在領域Ｄｘ，Ｄｙが求められる。
【０１１４】ステップ２３７でパターン存在領域Ｃｘ及
びＤｘの和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であるた
め、組み合わせ候補としてステップ２３８へ行く。ステ
ップ２３８ではブロックＣとブロックＤをＸ方向に並べ
た時のブロックのパターン存在領域ｎｙを求める。
びＤｘの和がブロックのＸ方向サイズＸ０以下であるた
め、組み合わせ候補としてステップ２３８へ行く。ステ
ップ２３８ではブロックＣとブロックＤをＸ方向に並べ
た時のブロックのパターン存在領域ｎｙを求める。
【０１１５】ステップ２３９で上のステップで求められ
たパターン存在領域ｍｙ及びｎｙの和が、ブロックのＹ
方向サイズＹ０以下であるため、組み合わせ可能として
ステップ２４０へ行く。
たパターン存在領域ｍｙ及びｎｙの和が、ブロックのＹ
方向サイズＹ０以下であるため、組み合わせ可能として
ステップ２４０へ行く。
【０１１６】ステップ２４０でブロックＡのパターンを
搭載ブロックＣＢ１１のブロックの左下隅角に合わせて
展開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ１
１に展開したブロックＡのパターン存在領域の最大ｘ座
標、最小ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらに
ブロックＣのパターンを搭載ブロックＣＢ１１に展開し
たブロックＡの最小ｘ座標、ブロックＡ＋ブロックＢの
パターン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展
開する。ブロックＤのパターンを搭載ブロックＣＢ１１
に展開したブロックＣのパターン存在領域の最大ｘ座
標、ブロックＡ＋ブロックＢのパターン存在領域の最大
ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。
搭載ブロックＣＢ１１のブロックの左下隅角に合わせて
展開する。ブロックＢのパターンを搭載ブロックＣＢ１
１に展開したブロックＡのパターン存在領域の最大ｘ座
標、最小ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。さらに
ブロックＣのパターンを搭載ブロックＣＢ１１に展開し
たブロックＡの最小ｘ座標、ブロックＡ＋ブロックＢの
パターン存在領域の最大ｙ座標に左下隅角を合わせて展
開する。ブロックＤのパターンを搭載ブロックＣＢ１１
に展開したブロックＣのパターン存在領域の最大ｘ座
標、ブロックＡ＋ブロックＢのパターン存在領域の最大
ｙ座標に左下隅角を合わせて展開する。
【０１１７】組み合わされた結果、図２６（ｂ）とな
り、パターンデータは図２６（Ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ２４１４で図２６（ｂ）で示す
ように、搭載ブロックＣＢ１１の左下隅角を（０，０）
とした場合のずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢ
ｙ，ΔＣｘ，ΔＣｙ，ΔＤｘ，ΔＤｙが各々求められ
る。ステップ２４２で図２６（ｃ）に示すように、ブロ
ックデータにブロック番号ＣＢ１１とずらし量が格納さ
れる。
り、パターンデータは図２６（Ｃ）のブロックパターン
に格納される。ステップ２４１４で図２６（ｂ）で示す
ように、搭載ブロックＣＢ１１の左下隅角を（０，０）
とした場合のずらし量ΔＡｘ，ΔＡｙ，ΔＢｘ，ΔＢ
ｙ，ΔＣｘ，ΔＣｙ，ΔＤｘ，ΔＤｙが各々求められ
る。ステップ２４２で図２６（ｃ）に示すように、ブロ
ックデータにブロック番号ＣＢ１１とずらし量が格納さ
れる。
【０１１８】さて、本実施の形態は、複数の抽出ブロッ
クのパターン群を一つの搭載ブロックに納めることがで
きるため、ブロックマスク上への抽出ブロックの搭載個
数を増加させることができ、よって、ブロック露光の利
点である高速露光、高精度露光を向上させることがで
き、これによる半導体装置の生産性向上、及び品質向上
を図ることができる。
クのパターン群を一つの搭載ブロックに納めることがで
きるため、ブロックマスク上への抽出ブロックの搭載個
数を増加させることができ、よって、ブロック露光の利
点である高速露光、高精度露光を向上させることがで
き、これによる半導体装置の生産性向上、及び品質向上
を図ることができる。
【０１１９】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば複
数の抽出ブロックのパターンを１つの搭載ブロックに納
めることができるため、ブロックマスク上への抽出ブロ
ックの搭載個数を増加させることができ、よって、ブロ
ック露光の利点である高速露光、高精度露光を向上させ
ることができ、これによる半導体装置の生産性向上、及
び品質向上を図ることができる。
数の抽出ブロックのパターンを１つの搭載ブロックに納
めることができるため、ブロックマスク上への抽出ブロ
ックの搭載個数を増加させることができ、よって、ブロ
ック露光の利点である高速露光、高精度露光を向上させ
ることができ、これによる半導体装置の生産性向上、及
び品質向上を図ることができる。
【図１】本発明のブロック露光用データの作成処理フロ
ー図
ー図
【図２】全面照射型と部分照射型の違いを示す説明図
【図３】抽出ブロックの組み合わせ処理の基本動作を表
す処理フロー図
す処理フロー図
【図４】抽出ブロックの組み合わせの基本的な説明図
【図５】２つの抽出ブロックの組み合わせを行う処理フ
ロー図
ロー図
【図６】２つの抽出ブロックの組み合わせの説明図
【図７】２つの抽出ブロックの別の組み合わせを行う処
理フロー図
理フロー図
【図８】２つの抽出ブロックの別の組み合わせの説明図
【図９】３つの抽出ブロックの組み合わせを行う処理フ
ロー図
ロー図
【図１０】３つの抽出ブロックの組み合わせの説明図
【図１１】３つの抽出ブロックの別の組み合わせを行う
処理フロー図
処理フロー図
【図１２】３つの抽出ブロックの別の組み合わせの説明
図
図
【図１３】３つの抽出ブロックの別の組み合わせを行う
処理フロー図
処理フロー図
【図１４】３つの抽出ブロックの別の組み合わせを行う
処理フロー図
処理フロー図
【図１５】３つの抽出ブロックの別の組み合わせの説明
図
図
【図１６】３つの抽出ブロックの別の組み合わせの説明
図
図
【図１７】３つの抽出ブロックの別の組み合わせを行う
処理フロー図
処理フロー図
【図１８】３つの抽出ブロックの別の組み合わせを行う
処理フロー図
処理フロー図
【図１９】３つの抽出ブロックの別の組み合わせの説明
図
図
【図２０】３つの抽出ブロックの別の組み合わせの説明
図
図
【図２１】４つの抽出ブロックの組み合わせを行う処理
フロー図
フロー図
【図２２】４つの抽出ブロックの組み合わせを行う処理
フロー図
フロー図
【図２３】４つの抽出ブロックの組み合わせの説明図
【図２４】４つの抽出ブロックの別の組み合わせを行う
処理フロー図
処理フロー図
【図２５】４つの抽出ブロックの別の組み合わせを行う
処理フロー図
処理フロー図
【図２６】４つの抽出ブロックの別の組み合わせの説明
図
図
【図２７】可変矩形露光法の簡単な装置概略図
【図２８】ブロック露光法の簡単な装置概略図
【図２９】従来のブロック露光用データの作成処理フロ
ー図
ー図
【図３０】従来の抽出ブロックを示す説明図
【図３１】従来の抽出ブロックを示す説明図
１８ 半導体ウェハ ２１ ブロックマスク ２２ 搭載ブロック Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ 抽出ブロック ＣＢ１〜ＣＢ１１ 搭載ブロック
Claims (9)
- 【請求項１】 半導体ウェハに対しブロック露光を行う
際に使用され、かつ、パターンを有する複数の搭載ブロ
ックを備えたブロックマスクへのブロック搭載方法であ
って、 露光パターンから所定のパターンを有する複数のブロッ
クを抽出し、 各抽出ブロックにおけるパターンの存在領域に基づいて
１つの搭載ブロックに納めることができるパターンを有
する複数の抽出ブロックの組み合わせを構成し、 １つの搭載ブロックに前記組み合わせた複数の抽出ブロ
ックのパターンを納めるとともに、この搭載ブロックを
全面照射型から部分照射型に変更するようにしたブロッ
ク露光におけるブロック搭載方法。 - 【請求項２】 請求項１において、搭載しようとする第
１及び第２の抽出ブロックのパターン存在領域のＸ方向
の大きさの和が、搭載ブロックのＸ方向の大きさ以下の
場合において、第１及び第２の抽出ブロックの照射型を
共に全面型から部分型に変更し、その２つの抽出ブロッ
クをＸ方向に並べて第１及び第２の抽出ブロックのパタ
ーンを１つの搭載ブロックに納めるようにしたブロック
露光におけるブロック搭載方法。 - 【請求項３】 請求項１において、搭載しようとする第
１及び第２の抽出ブロックのパターン存在領域のＹ方向
の大きさの和が、搭載ブロックのＹ方向の大きさ以下の
場合において、第１及び第２の抽出ブロックの照射型を
共に全面型から部分型に変更し、その２つの抽出ブロッ
クをＹ方向に並べて第１及び第２の抽出ブロックのパタ
ーンを１つの搭載ブロックに納めるようにしたブロック
露光におけるブロック搭載方法。 - 【請求項４】 請求項１において、搭載しようとする第
１〜第３の抽出ブロックの内の第１及び第２の抽出ブロ
ックのパターン存在領域のＹ方向の大きさの和が、搭載
ブロックのＹ方向の大きさ以下であり、かつ、第１及び
第２の抽出ブロックをＹ方向に並べた合わせた状態での
第１及び第２の抽出ブロックのパターン存在領域のＸ方
向の大きさと、第３の抽出ブロックのパターン存在領域
のＸ方向の大きさとの和が、搭載ブロックのＸ方向の大
きさ以下の場合において、第１〜第３の抽出ブロックの
照射型を共に全面型から部分型に変更し、第１及び第２
の抽出ブロックをＹ方向に並べ、更に第３の抽出ブロッ
クをＸ方向に並べて第１〜第３の抽出ブロックのパター
ンを１つの搭載ブロックに納めるようにしたブロック露
光におけるブロック搭載方法。 - 【請求項５】 請求項１において、搭載しようとする第
１〜第３の抽出ブロックの内の第１及び第２の抽出ブロ
ックのパターン存在領域のＸ方向の大きさの和が、搭載
ブロックのＸ方向の大きさ以下であり、かつ、第１及び
第２の抽出ブロックをＸ方向に並べた合わせた状態での
第１及び第２の抽出ブロックのパターン存在領域のＹ方
向の大きさと、第３の抽出ブロックのパターン存在領域
のＹ方向の大きさとの和が、搭載ブロックのＹ方向の大
きさ以下の場合において、第１〜第３の抽出ブロックの
照射型を共に全面型から部分型に変更し、第１及び第２
の抽出ブロックをＸ方向に並べ、更に第３の抽出ブロッ
クをＹ方向に並べて第１〜第３の抽出ブロックのパター
ンを１つの搭載ブロックに納めるようにしたブロック露
光におけるブロック搭載方法。 - 【請求項６】 請求項１において、搭載しようとする第
１〜第３の抽出ブロック３つの内の第１及び第２の抽出
ブロックのパターン存在領域のＹ方向の大きさの和が、
搭載ブロックのＹ方向の大きさ以下であり、かつ、第１
及び第２の抽出ブロックのどちらかのパターン存在領域
のＸ方向の大きさと、第３の抽出ブロックのパターン存
在領域のＸ方向の大きさとの和が搭載ブロックのＸ方向
の大きさ以下であり、第３の抽出ブロックのパターン存
在領域のＹ方向の大きさが第１及び第２の抽出ブロック
のうち採用した抽出ブロックのパターン存在領域のＹ方
向の大きさ以下の場合において、第１〜第３の抽出ブロ
ックの照射型を共に全面型から部分型に変更し、第１及
び第２の抽出ブロックをＹ方向に並べ、更に第３の抽出
ブロックを、前記採用した抽出ブロックのＸ方向に並べ
て第１〜第３の抽出ブロックのパターンを１つの搭載ブ
ロックに納めるようにしたブロック露光におけるブロッ
ク搭載方法。 - 【請求項７】 請求項１において、搭載しようとする第
１〜第３の抽出ブロック３つの内の第１及び第２の抽出
ブロックのパターン存在領域のＸ方向の大きさの和が、
搭載ブロックのＸ方向の大きさ以下であり、かつ、第１
及び第２の抽出ブロックのどちらかのパターン存在領域
のＹ方向の大きさと、第３の抽出ブロックのパターン存
在領域のＹ方向の大きさとの和が搭載ブロックのＹ方向
の大きさ以下であり、第３の抽出ブロックのパターン存
在領域のＸ方向の大きさが第１及び第２の抽出ブロック
のうち採用した抽出ブロックのパターン存在領域のＸ方
向の大きさ以下の場合において、第１〜第３の抽出ブロ
ックの照射型を共に全面型から部分型に変更し、第１及
び第２の抽出ブロックをＸ方向に並べ、更に第３の抽出
ブロックを、前記採用した抽出ブロックのＹ方向に並べ
て第１〜第３の抽出ブロックのパターンを１つの搭載ブ
ロックに納めるようにしたブロック露光におけるブロッ
ク搭載方法。 - 【請求項８】 請求項１において、搭載しようとする第
１〜第４の抽出ブロックの内の第１及び第２の抽出ブロ
ックのパターン存在領域のＹ方向の大きさの和が、搭載
ブロックのＹ方向の大きさ以下で、第３及び第４の抽出
ブロックのパターン存在領域のＹ方向の大きさの和が搭
載ブロックのＹ方向の大きさ以下である場合に、第１及
び第２の抽出ブロックをＹ方向に並べた合わせた時のブ
ロックのパターン存在領域のＸ方向の大きさと、第３及
び第４の抽出ブロックをＹ方向に並べ合わせた時のブロ
ックのパターン存在領域のＸ方向の大きさとの和が搭載
ブロックのＸ方向の大きさ以下である場合において、第
１〜第４の抽出ブロックの照射型を共に全面型から部分
型に変更し、第１及び第２の抽出ブロックをＹ方向に並
べたものと第３及び第４の抽出ブロックをＹ方向に並べ
たものをＸ方向に並べて、第１〜第４の抽出ブロックの
パターンを１つの搭載ブロックに納めるようにしたブロ
ック露光におけるブロック搭載方法。 - 【請求項９】 請求項１において、搭載しようとする第
１〜第４の抽出ブロックの内の第１及び第２の抽出ブロ
ックのパターン存在領域のＸ方向の大きさの和が、搭載
ブロックのＸ方向の大きさ以下で、第３及び第４の抽出
ブロックのパターン存在領域のＸ方向の大きさの和が搭
載ブロックのＸ方向の大きさ以下である場合に、第１及
び第２の抽出ブロックをＸ方向に並べた合わせた時のブ
ロックのパターン存在領域のＹ方向の大きさと、第３及
び第４の抽出ブロックをＸ方向に並べ合わせた時のブロ
ックのパターン存在領域のＹ方向の大きさとの和が搭載
ブロックのＹ方向の大きさ以下である場合において、第
１〜第４の抽出ブロックの照射型を共に全面型から部分
型に変更し、第１及び第２の抽出ブロックをＸ方向に並
べたものと第３及び第４の抽出ブロックをＸ方向に並べ
たものをＹ方向に並べて、第１〜第４の抽出ブロックの
パターンを１つの搭載ブロックに納めるようにしたブロ
ック露光におけるブロック搭載方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6309696A JPH09258429A (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | ブロック露光におけるブロック搭載方法 |
| US08/816,685 US5984505A (en) | 1996-03-19 | 1997-03-13 | Block exposure of semiconductor wafer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6309696A JPH09258429A (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | ブロック露光におけるブロック搭載方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09258429A true JPH09258429A (ja) | 1997-10-03 |
Family
ID=13219438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6309696A Pending JPH09258429A (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | ブロック露光におけるブロック搭載方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5984505A (ja) |
| JP (1) | JPH09258429A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010051381A (ko) * | 1999-11-02 | 2001-06-25 | 히로시 오우라 | 부분 일괄 전사 노광용 마스크 데이터 작성 방법, 및 노광방법 |
| US6718532B2 (en) | 2001-02-23 | 2004-04-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged particle beam exposure system using aperture mask in semiconductor manufacture |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001125252A (ja) * | 1999-10-25 | 2001-05-11 | Fujitsu Ltd | 半導体集積回路の露光方法及び露光装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5854648A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-03-31 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 位置合わせ装置 |
| JPS6229135A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-07 | Advantest Corp | 荷電粒子ビ−ム露光方法及びこの方法を用いた荷電粒子ビ−ム露光装置 |
| EP0416157A1 (de) * | 1989-09-07 | 1991-03-13 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Polarisator |
-
1996
- 1996-03-19 JP JP6309696A patent/JPH09258429A/ja active Pending
-
1997
- 1997-03-13 US US08/816,685 patent/US5984505A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010051381A (ko) * | 1999-11-02 | 2001-06-25 | 히로시 오우라 | 부분 일괄 전사 노광용 마스크 데이터 작성 방법, 및 노광방법 |
| US6718532B2 (en) | 2001-02-23 | 2004-04-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged particle beam exposure system using aperture mask in semiconductor manufacture |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5984505A (en) | 1999-11-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040803 |