JPH036572B2

JPH036572B2 -

Info

Publication number: JPH036572B2
Application number: JP56129447A
Authority: JP
Inventors: Juichi Kubota; Akira Ootsuki; Ryozo Konno; Makio Sugai; Nobumori Sugano; Takashi Mihoya; Kazuyuki Tanaka; Masaharu Nishimatsu; Yukihiro Isobe; Osamu Shinora; Hiroshi Kawahara
Original assignee: TDK Corp; Toyo Ink Mfg Co Ltd
Current assignee: TDK Corp; Artience Co Ltd
Priority date: 1981-08-20
Filing date: 1981-08-20
Publication date: 1991-01-30
Also published as: JPS5832231A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、二層塗布型磁気記録媒体に関するも
のであり、特には放射線により硬化または重合さ
れるバインダーを使用する第一磁性層と、該第一
磁性層上に設けられそして熱可塑性または熱硬化
性バインダーを使用する第二磁性層とを具備する
磁気記録媒体に関するものである。近年、オーデイオ用カセツトテープにおいて
は、高周波特性のより良好なものが要求されてき
ている。また、低速走行、例えば半速デツキやマ
イクロカセツト等においても、高周波特性のより
良好なものが要求される。一般に、高周波特性を
良好にする為には保磁力の高い磁性粉が必要であ
るが、保磁力が高いだけでは低周波特性が低下す
るため、高周波及び低周波特性を分担する上下二
層を有する二層塗布磁気記録媒体が開発されてい
る。従来からの二層塗布テープは、上層及び下層い
ずれもそれぞれの分担周波数に応じた範囲の保磁
力を有する磁性粉を熱可塑性或いは熱硬化性樹脂
バインダーに分散した磁性塗料を使用するもので
ある。このような熱硬化性バインダーを第一層に
用いると、１〜3KHzの低域周波数での出力変動
等の品質上の問題点や生産工程の合理化及び自動
化への制約といつた生産管理上の問題点等が認識
され、高品質の製品を低コストで製造するという
目標に向けて不断の怒力が為されつつある中で大
きな限界乃至障害を呈している。具体的な問題を列記すると次のような事項があ
る： (イ) イソシアネート等の反応性の高い化合物を用
いる為、磁性塗料のポツトライフの問題が生じ
る。ポツトライフが長くなると磁性塗料の反応
が進行し、その事実が特に１〜3KHzの低域周
波数での出力変動に大きく影響することが判明
した。磁性層コーテイング以降の表面処理その
他の工程も磁性層中に三次元網目構造化ができ
るだけ進まぬうちに実施せねばならないという
制約が生じる。 (ロ) 磁気記録媒体の基材として広く用いられるポ
リエステルフイルムの熱変形による寸法安定性
の低下、不均一部分の磁性層間転移等を防止
し、また磁性塗膜中の成分の浸み出しによるブ
ロツキング等を防止する為、硬化炉温度や熱源
とする熱風、赤外線、遠赤外線源の温度に上限
が有り、かつ硬化剤等の低分子量成分の使用量
にも限度が有つた。 (ハ) 硬化反応の推進を熱エネルギーとして加える
為エネルギー効率が悪く、またバインダーがラ
イン速度その他より第一層ロール塗布時粘着等
の防止の為高分子量ポリマーを主体としたもの
となる為溶剤使用量が多く、従つてエネルギー
コスト及び溶剤コストが高くついた。 (ニ) 高記録密度化に進む程磁性層表面の平滑化が
重要な問題となるが、磁性塗膜形成工程におい
て、ロール周囲への巻取り状態中使用するベー
ス基材の裏面と磁性層表面との密着によるベー
ス基材裏面の表面粗度の磁性層への転移が起る
こと及び溶剤使用量が多い事により乾燥時表面
が不均一になる等の理由で表面が粗化した。 (ホ) 熱硬化処理時に第一層磁性層での巻きしまり
による表面粗化の影響が避けられず、また熱硬
化開始時ベース面と磁性層表面とが密着状態で
あるため塗膜が弱いうちに磁性層が欠落する事
態が生じた。更に、従来の二層塗布テープは第一の磁性層と
第二の磁性層との保磁力の差が大きいため、低域
及び高域の周波数特性は良好であるが、中域の周
波数特性が歪んでしまい、所謂中だるみ現象が生
じるという欠点があつた。このため、一般の音薬
の主成分が位置する中域において原音の再生が忠
実に行なわれず、歪の多い音になつてしまうとい
う欠点があつた。また、第二磁性層の塗布厚みが
比較的薄いため出力変動が大きくなるという欠点
もあつた。本発明は、このような従来からの二層塗布磁気
記録媒体の欠点を克服することを目的とする。本発明者は、二層塗布型磁気記録媒体の第一層
即ちベース面に塗布される磁性層においてそのバ
インダーとして電子線による放射線（以下すべて
同義で用いる）により硬化又は重合しうるものを
使用し、放射線照射により発熱を伴わずに瞬時に
バインダーを硬化させる放射線硬化技術を利用す
ることにより、そして第一及び第二磁性層の厚み
並びにそこに含まれる磁性材料の保磁力等を制御
することにより上記問題点が一挙に改善されるこ
とを知見した。放射線硬化技術により可能とされる改善点を挙
げると次の通りである。 (A) 磁性塗料及びコーテイング後の磁性塗膜の化
学的、物理的安定性が高く、放射線照射を行う
までは塗料状態でのポツトライフ及び塗膜の表
面処理加工等の工程における制約を受けない。
そのため、従来のように塗料のポツトライフが
進行することにより、第一層の表面性が悪くな
り、表面処理が不充分となつて低域（１〜3K
Hz）での出力変動への影響が回避される。 (B) 放射線照射硬化が瞬時に行われる為、工程上
必要な処理をほどこした後放射線を照射する工
程を組む事により生産工程の合理化、自動化、
品質安定性の確保に極めて有利となる。 (C) 本発明によるバインダーの架橋及び重合乾燥
は、放射線照射によりバインダー中にラジカル
を発生せしめ、これらが瞬時に架橋重合する事
により磁性塗膜の硬化、乾燥が行なわれる。従
つてラジカルを発生せしめる為にのみ最大
20Mrad程度の放射線を瞬時照射する程度であ
り、その際基材として広く用いられるポリエス
テルフイルムの熱変形等を生ずる事は無く、し
かもシート状オンラインにて照射を行なう為ロ
ール状で捲取後熱硬化する際の磁性層不均一層
の層間転移による歩留りの低下や捲締り、ベー
ス基材裏面の表面粗度の転移による短波長領域
でのＳ／Ｎの低下等を防止する点で有利とな
る。 (D) (C)にてすでに述べた様に反応がラジカル反応
であり、従来の熱硬化化学反応の様に反応促進
の為長時間加熱等を必要とせずかつ架橋度、重
合による乾燥度を放射線の照射線量にて簡単に
制御可能となる為、磁性層中の低分子量成分の
浸み出しによる粘着等のトラブルは防止可能と
なる。硬化工程に要するエネルギーの節約とな
り、省エネルギー対策としても有利である。本発明に従えば、二層塗布型磁気記録媒体の第
一層におけるバインダーは前述の通り放射線照射
により架橋及び重合しうるものとされるが、ラジ
カル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリ
ル酸、メタクリル酸あるいはそれらのエステル化
合物のようなアクリル系二重結合、マレイン酸、
マレイン酸誘導体等のマレイン酸系二重結合、ジ
アリルフタレートのようなアリル系二重結合等の
放射線感応性不飽和二重結合を有する放射線感応
変性樹脂に、上記二重結合を有する放射線感応性
軟質樹脂或いはそのプレポリマー、オリゴマー乃
至テロマーを混合して可塑化させたものである。放射線感応変性樹脂と放射線感応性軟質樹脂乃
至そのプレポリマー、オリゴマー乃至テロマーと
の混合比率は、下記に示す性質を満足させる為に
も、前者対後者の比率が８対２〜２対８の範囲と
することが好ましい。ここで言う放射線感応変性樹脂とは、放射線感
応変性前の状態で100Hzでの動的弾性率が20〜60
℃の温度範囲で1.0×1.0⁹dyn／cm²以上を示すもの
が望ましい。他方、放射線感応性軟質樹脂乃至そ
のプレポリマー、オリゴマー乃至テロマーは、合
成ゴムとしてのゴム弾性、柔軟性、ポリエステル
ベース面との接着性に優れた性質を有するもの
で、100Hzでの動的弾性率が20〜60℃の範囲で1.0
×10⁹dyn／cm²未満の力学的性質を示すものであ
りまた溶剤可溶性のものである。これら放射線感応変性樹脂及び放射線感応性軟
質樹脂乃至そのプレポリマー、オリゴマー、テロ
マーは、放射線によりラジカルを生じ架橋構造を
生ぜしめるべく放射線感応変性が施される。放射
線感応変性後の樹脂成分と軟質樹脂乃至そのプレ
ポリマー、オリゴマー、テロマーは、磁性微粒子
粉末の分散を良くするとの見地から相溶性が良い
事が望まれる。このような放射線感応変性を施された樹脂成分
と軟質樹脂乃至そのプレポリマー、オリゴマー、
テロマーを組合せ、放射線照射により三次元網状
構造を形成せしめたバインダーを活用することに
より、前述した従来バインダーのポツトライフに
起因する低域（１〜3KHz程度）での出力変動の
改善が計れる。また、このバインダーは、オーデ
イオ用、ビデオ用、メモリー、計測用等各種用途
に活用される磁気記録媒体の電磁変換特性はもと
より、磁性塗膜に要求される各種物性たとえば硬
さ、柔軟性、耐摩耗性、適度の摩擦係数とステイ
ツクスリツプ現象が無い事、表面成型性、ベース
との接着性、弾性率、以上の各種物性の低温度か
ら高温度、低湿度から高湿度に渡る種々の環境条
件下での安定性を保持する上で極めて効果的であ
る。第一磁性層に使用する放射線感応変性に有効な
熱可塑性樹脂としては下記のような塗料用合成樹
脂を挙げることが出来る：（）塩化ビニル系共重合体ａ塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール−
プロピオン酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−末端OH側鎖アルキル基共
重合体。たとえばUCC社VROH、VYNC、
VYEG−Ｘ等またUCC社VERR等が挙げら
れる。特に放射線感応変性塩化ビニル系共重合体
を20Mrad以下の低線量で使用するときは、
その反応機構は明確ではないがアクリル系二
重結合等の放射線官能基より生ずるラジカル
反応以外に放射線照射による何らかの反応に
よりラジカルを発生し、架橋構造を形成し磁
気記録媒体用バインダーとして有効である事
を確認した。ｂ上記共重合体に後に述べる手法により、ア
クリル系二重結合、マレイン酸系二重結合、
アリル系二重結合を導入し放射線感応変性を
行なう。（）飽和ポリエステル樹脂ａフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
コハク酸、アジピン酸、セバジン酸の様な飽
和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロール
プロパン、１，２−プロピレングリコール、
１，３−ブタンジオール、ジプロピレングリ
コール、１，４−ブタンジオール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリスリツト、ソ
ルビトール、グリセリン、ネスペンチルグリ
コール、１，４−シクロヘキサンジメタノー
ルの様な多価アルコールとのエステル結合に
より得られる飽和ポリエステル樹脂又はこれ
らのポリエステル樹脂をSO₃Na等で変性し
た磁性粒子との親和性を向上させた樹脂（バ
イロン53s）。ｂ後に述べる手法により放射線感応変性を行
なう。（）不飽和ポリエステル樹脂分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有
するポリエステル化合物、例えば第（）項の熱
可塑性樹脂として記載の多塩基酸と多価アルコー
ルのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化
性不飽和二重結合を含有する不飽和ポリエステル
樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げることが
できる。飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価ア
ルコール成分は第１項に記載した各化合物を挙げ
ることができ、放射線硬化性不飽和二重結合とし
てはマレイン酸、フマル酸等を挙げることができ
る。放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は
多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種
以上にマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すな
わち触媒存在下180〜200℃窒素雰囲気下脱水ある
いは脱アルコール反応の後、240〜280℃まで昇温
し、0.5〜１mmHgの減圧下縮合反応によりポリエ
ステル樹脂を得ることができる。マレイン酸やフ
マル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線硬化
性等から酸成分中１〜40モル％で好ましくは10〜
30モル％である。（）ポリビニルアルコール系樹脂ａポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、
アセタール樹脂、ホルマール樹脂及びこれら
の成分の共重合体等が挙げられ、これらは磁
性粉との親和性も良好である。ｂこれら樹脂中に含まれる水酸基を後に述べ
る手法により放射線感応変性を行なう。（）エポキシ樹脂、フエノキシ樹脂ａビスフエノールＡとエピクロルヒドリン、
メチルエピクロルヒドリンの反応によるエポ
キシ樹脂。シエル化学製（エピコート152，
154，828，1001，1007）ダウケミカル製
（DEN431、DER732、DER511、DER331）
大日本インキ製（エピクロン400、エピクロ
ン800）。更に上記エポキシの高重合度樹脂で
あるUCC社製フエノキシ樹脂（PKHA、
PKHC、PKHH）、臭素化ビスフエノールＡ
とエピクロルヒドリンとの共重合体大日本
インキ製（エピクロン145，152，153，1120）
等も有効である。（）繊維素誘導体 (a) 各種分子量の繊維素系誘導体もまた本発明
の熱可塑性樹脂成分として効果的である。そ
の中でも特に効果的なものは硝化綿、セルロ
−ズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等で
ある。ｂ樹脂中の水酸基を活用して後に述べる手法
により放射線感応変性を行なう。（）ポリエーテル樹脂その例としては水酸基を１個以上含有する化合
物としてアデカポリエーテルＰ−700、アデカポ
リエーテルＰ−1000、アデカポリエーテルＧ−
1500（以上旭電化社製）、ポリメグ1000、ポリメグ
650（以上クオーカーコーツ社製）等の低官能性ポ
リエーテル類がある。（）ポリカプロラクトンその例としてはポリカプロラクトンPCP−
2000、ポリカプロラクトンPCP−0240、ポリカ
プロラクトンPCP−0300（以上チツソ社製）等の
多官能性ポリエステル類がある。（）ａその他熱可塑性樹脂としては、熱可
塑性硬質ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエ
ステル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び
誘導体（PVPオレフイン共重合体）ポリア
ミド樹脂、ポリイミド樹脂、フエノール樹
脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含有す
るアクリルエステル及びメタクリルエステル
を少くとも一種以上重合成分として含むアク
リル系樹脂等も本発明の目的に対して有効で
ある。ｂ放射線感応変性により更にその効果を発揮
させる事が出来る。他方、上述したような熱可塑性樹脂と組合せる
べき熱可塑性軟質樹脂、乃至そのプレポリマー、
オリゴマー、テロマーの例を示すと下記の通りで
ある。（）ポリウレタン樹脂及びプレポリマー及び
テロマーこの様なウレタン化合物の例としては、イソ
シアネートとして、２，４−トルエンジイソシ
アネート、２，６−トルエンジイソシアネー
ト、１，３−キシレンジイソシアネート、１，
４−キシレンジイソシアネート、１，５−ナフ
タレンジイソシアネート、ｍ−フエニレンジイ
ソシアネート、ｐ−フエニレンジイソシアネー
ト、３，3′−ジメチル−４，4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネート、４，4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネート、３，3′−ジメチルビフ
エニレンジイソシアネート、４，4′−ビフエニ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、イソフオロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デ
スモジユールＬ、デスモジユールＮ等の各種多
価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル
（エチレングリコール、ジエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、１，４
−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリスリツト、ソルビトール、ネオ
ペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサン
ジメタノールの様な多価アルコールと、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、
アジピン酸、セバシン酸の様な飽和多塩基酸と
の縮重合によるもの）、線状飽和ポリエーテル
（ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール、ポリテトラメチレングリコール）や
カプロラクタム、ヒドロキシ含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシ含有メタアクリル酸エステ
ル等の各種ポリエステル類の縮重合物より成る
ポリウレタン樹脂、プレポリマー、テロマーが
有効である。更に上記ウレタン樹脂の末端のイソシアネー
ト基又は水酸基と反応するアクリル系二重結
合、アリル系二重結合を有する単量体と反応さ
せる事により放射線感応性に変性する。（）アクリルニトリル−ブタジエン共重合エ
ラストマーシンクレアペトロケミカル社製ポリBDリク
イソドレジンとして市販されている末端水酸基
のあるアクリルニトリル−ブタジエン共重合体
プレポリマー、あるいは日本ゼオン社製ハイカ
ー1432J等は、特にブタジエン中の二重結合が
放射線によりラジカルを生じ架橋及び重合させ
る軟質樹脂成分として適する。又末端水酸基を
有するものはジイソシアネート等を介してアク
リル系不飽和二重結合を付加する事により放射
線感応性を更に高める上で有効である。（）ポリブタジエンエラストマーシンクレアペトロケミカル社製ポリBDリクイ
ツドレジンＲ−15等の低分子量末端水酸基を有す
るプレポリマーが特に熱可塑性樹脂との相溶性、
磁性粉との親和性の上で好適である。Ｒ−15プレ
ポリマーにおいては分子末端が水酸基となつてい
る為分子末端をアクリル系不飽和二重結合を付加
する事により放射線感応性を高める事が可能であ
りバインダーとして更に有利となる。またポリブタジエンの環化物日本合成ゴム製
CBR−M901も熱可塑性樹脂との組合せによりす
ぐれた性能を発揮する。特に環化されたポリブタ
ジエンは、ポリブタジエン本来の有する不飽和結
合のラジカルによる放射線による架橋重合の効率
が良く、バインダーとして優れた性質を有してい
る。その他熱可塑性軟質樹脂及びそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、塩化ゴム、アクリル
ゴム、イソプレンゴム及びその環化物（日本合成
ゴム製CIR701）、エポキシ変性ゴム、内部可塑化
飽和線状ポリエステル（東洋紡バイロン＃300）
等軟質樹脂も下記に述べる放射線感応変性処理を
ほどこすことにより本発明に対して有効である。放射線感応変性は、具体的には、ラジカル重合
性を有する不飽和二重結合を有するアクリル酸、
メタクリル酸あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレート
の様なアリル型二重結合、マレイン酸、マレイン
酸誘導体等の不飽和結合等の放射線照射による架
橋あるいは重合乾燥する基を分子中に導入する事
である。その他放射線照射により架橋重合する不飽和二
重結合であれば用いる事が出来る。更に具体的な放射線感応変性の手法としては次
のようにして行われる：分子中に水酸基を１個以上有する上記の熱可
塑性樹脂又は熱可塑性軟質樹脂、プレポリマー
１分子中に１分子以上のポリイソシアネート化
合物のイソシアネート基を反応させ、次にイソ
シアネート基と反応する基及び放射線硬化性を
有する不飽和二重結合を有する単量体１分子以
上との反応物、例えば、ケン化された酸酢ビ共
重合体（UCC製VAGH）の水酸基１個当りに
トルエンジイソシアネート１分子を反応させ、
その後１分子の２−ヒドロキシエチルメタクリ
ートを反応させて得た、塩酢ビ系共重合樹脂に
アクリル系二重結合をペンダ状に有する樹脂を
挙げることができる。また、こゝで使用されるポリイソシアネート化
合物としては、２，４−トルエンジイソシアネー
ト、２，６−トルエンジイソシアネート、１，３
−キシレンジイソシアネート、１，４−キシレン
ジイソシアネート、ｍ−フエニレンジイソシアネ
ート、ｐ−フエニレンジイソシアネート、ヘキサ
メチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネートやデスモジユールＬ、デスモジユール
IL（西ドイツバイエル社製）等がある。イソシアネート基と反応する基および放射線硬
化性不飽和二重結合を有する単量体としては、ア
クリル酸あるいはメクタリル酸の２−ヒドロキシ
エチルエステル、２−ヒドロキシプロピルエステ
ル、２−ヒドロキシオクチルエステル等水酸基を
有するエステル類；アクリルアマイド、メタクリ
ルアマイド、Ｎ−メチロールアクリルアマイド等
のイソシアネート基と反応する活性水素を持ちか
つアクリル系二重結合を含有する単量体；更に、
アリルアルコール、マレイン酸多価アルコールエ
ステル化合物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪
酸のモノあるいはジグリセリド等イソシアネート
基と反応する活性水素を持ちかつ放射線硬化性を
有する不飽和二重結合を含有する単量体も含まれ
る。分子中にエポキシ基を１個以上含む化合物１
分子と、エポキシ基と反応する基および放射線
硬化性不飽和二重結合を有する単量体１分子以
上との反応物、例えばグリシジルメタクリルレ
ートをラジカル重合させて得たエポキシ基を含
有する熱可塑性樹脂にアクリル酸を反応させ、
カルボキシル基とエポキシ基との開環反応によ
り、分子中にアクリル系二重結合をペンダント
させた樹脂、プレポリマーもしくはオリゴマ
ー、また、マレイン酸を反応させたカルボキシ
ル基と、エポキシ基との開環反応により分子骨
格中に放射線硬化性不飽和二重結合を有する樹
脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げることが
できる。ここで分子中にエポキシ基を１個以上含む化合
物としては、グリシジルアクリレート、グリシジ
ルメタクリレートの如きエポキシ基を含むアクリ
ルエステルあるいはメクタリルエステルのホモポ
リマーあるいは他の重合性モノマーとの共重合体
として先の熱可塑性樹脂（）項で述べた、エピ
コート828、エピコート1001、エピコート1007、
エピコート1009（以上シエル化学社製）等その他
種々のタイプのエポキシ樹脂がある。エポキシ基と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体としては、アクリル
酸、メタクリル酸等のカルボキシル基を含有する
アクリル系単量体、メチルアミノエチルアクリレ
ート、メチルアミノメタクリレート等の第１級も
しくは第２級アミノ基を有するアクリル単量体に
加えマレイン酸、フマル酸やクロトン酸、ウンデ
シレン酸等放射線硬化性不飽和二重結合を有する
多塩基酸単量体も使用できる。分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合
物１分子とカルボキシル基と反応する基および
放射線硬化性不飽和二重結合を有する単量体１
分子以上との反応物、例えばメタクリル酸を溶
液重合させて得たカルボキシル基を含有する熱
可塑性樹脂にグリシジルメタクリレートを反応
させ、第項と同様にカルボキシル基とエポキ
シ基の開環反応により分子中にアクリル系二重
結合を導入させた樹脂、プレポリマー、オリゴ
マーを挙げることができる。分子中にカルボキシル基を１個以上含む化合物
としては、分子鎖中または分子末端にカルボキシ
ル基を含む先に述べた樹脂中のポリエステル類；
アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フ
マル酸等のラジカル重合性を持ちかつカルボキシ
ル基を有する単量体のホモポリマーあるいは他の
重合性モノマーとの共重合体等である。カルボキシル基と反応する基および放射線硬化
性不飽和二重結合を有する単量体としては、グリ
シジルアクリレート、グリシジルメクタリレート
等がある。本発明の第一磁性層の架橋及び重合に使用する
活性エネルギー線としては、電子線加速器を線源
とした電子線が下記に述べる理由で特に有利であ
る。照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程
ラインへの導入の為の電離放射線の自己遮蔽、工
程ライン諸設備とのシーケンス制御との接続のし
易さ等の点で電子線加速器の利用が有利である。
電子線加速器としては、従来から、コツククロフ
ト型、パンデグラフ型、共振変圧器型、鉄心絶縁
変圧器型、リンアアクセレレーター型等主として
高電圧を得る方式の差により各種の加速器が実用
化されている。しかし、磁気記録媒体は汎用用途においては10
ミクロン厚以下の薄い磁性膜厚のものがほとんど
であり、従つて上記加速器で通常的に使用される
1000KV以上の高加速電圧は不必要であり、
300KV以下の低加速電圧の電子線加速器で十分
である。このような低加速電圧加速器は、システ
ム自体のコストが低下する点だけでなく、その上
に電離放射線の遮蔽設備の点でも特に有利とな
る。遮蔽設備を鉛製とするかコンクリート製とす
るかまたその遮蔽厚については次表のような基準
が報告されている（放射線利用研究会報告８頁、
1979年８月、日本原子力会議）。

【表】上表に示されるように、300KV以上の電子線
加速電圧においては、遮蔽材として最大３cmの鉛
板を用いて電子線被照射部を含む加速管全体を覆
うことで漏洩Ｘ線を十分遮断することができる。
この為、高額の電子線照射室を別に設ける必要が
なく、照射システム自体も磁気記録媒体製造ライ
ンの１システムとして組込むことが可能となり、
従つて磁気記録媒体の電子線による乾燥・硬化工
程をオンライン化することが可能となる。このような具体的システムとしては、米国エナ
ージーサイエンス社により製造されている低線量
タイプの電子線加速器（エレクトロカーテンシス
テム）や西独国ホリマーフイジツクス社の自己遮
閉型スキヤニング型低線量タイプ電子線加速器が
好適例である。また、放射線架橋に際しては、N₂ガス、Heガ
ス、CO₂ガス等の不活性ガス気流中で放射線を記
録媒体に照射することが重要であり、磁性塗膜の
様に非常に磁性顔料充填度の高い塗膜は非常に多
孔質となつている為に、空気中で放射線を照射す
ることは、バインダー成分の架橋に際し放射線照
射により生じたO₃等の影響でポリマー中に生じ
たラジカルが有効に架橋反応に働く事を阻害す
る。その影響は、磁性層表面は当然として多孔質
の為塗膜内部までバインダー架橋阻害の影響を受
ける。従つて、活性エネルギー線を照射する部分の雰
囲気は、特に酸素濃度が最大で１％のN₂、He、
CO₂等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要とな
る。電子線による塗膜の重合、架橋密度が10Mrad
迄で効果的であるが、適当な柔軟性と剛直性のバ
ランスを有する為に0.5〜5Mradがのぞましい。コーテイングに使用する基体としては、現在磁
気記録媒体用基材として広く活用されているポリ
エチレンテレフタレート系フイルム及び更に耐熱
性を要求される用途としては、ポリイミドフイル
ム、ポリアミドイミドフイルム等が活用され、特
にポリエステル系フイルムにおいては薄物ベース
では１軸延伸、２軸延伸処理をほどこして利用す
るケースも多い。本発明に活用される磁性体微粉末はγ−
Fe₂O₃、Fe₃O₄、Coドーブγ−Fe₂O₃、Coドーブ
γ−Fe₂O₃−Fe₃O₄固溶体、CrO₂、Co系化合物被
着型γ−Fe₂O₃、Co系化合物被着型Fe₃O₄（γ−
Fe₂O₃との中間酸化状態も含む。又こゝで言うCo
系化合物とは、酸化コバルト、水酸化コバルト、
コバルトフエライト、コバルトイオン吸着物等コ
バルトの磁気異方性を保磁力向上に活用する場合
を示す。）この放射線硬化型磁気記録媒体用バインダーに
関しても、当該用途にて通常使用される各種帯電
防止剤、分散剤、塗膜強度補強添加剤を用途に合
わせて適宜活用することが有効である。この第一層バインダーにおいては、溶剤を使用
しない無溶剤型の樹脂であつても短時間で硬化す
ることができるので用いることは可能であるが、
一般には溶剤が使用される。本発明は溶剤を使用
する場合には、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
類、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ブタノール等のイソシアネート熱硬化では使
用出来なかつたアルコール類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル結合を有するものジ
メチルフオルムアミド、ビニルピロリドン等の溶
剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素の希
釈剤ないしは溶剤が用いられる。上記の放射線感応変性樹脂と放射線感応性軟質
樹脂あるいはそのプレポリマー等との組合せにお
いて、弾性率の高い樹脂成分を放射線感応変性す
ることは、バインダーの架橋密度を高め、磁性塗
膜の硬度を高め且つ剛直とし、塗膜がもろくな
り、耐摩耗性、ヘツドタツチ等を低下させる。磁
気テープ用に好適な熱可塑性樹脂が要求される適
度の柔軟性を付与する点で効果的であるので、上
記の組合せに、熱可塑性樹脂を混合し、使用する
事により、適度な重合、架橋密度となり、柔軟性
と剛直性のバランスを有するものとなる。一方、
熱可塑性樹脂が適度な柔軟性があるので、これ
と、放射線感応性軟質樹脂を組み合わせても、も
ちろんよい。この場合、両者の混合比率は上記の事を満足さ
せる為にも、熱可塑性樹脂と放射線感応性樹脂が
８対２〜２対８の比率が特に望ましい。以上説明したように、本発明の第一層において
は、磁性粉末が、必要なら適宜の添加剤と共に、
放射線照射により架橋及び重合するバインダーと
混合されて磁性塗料が調製される。磁性塗料の調
製に当つてこれら成分は、ボールミル、サンドグ
ラインドミル、ロールミル、高速インペラー分散
機、ホモジナイザー、超音波分散機等各種の装置
が使用されうる。斯うして調製された磁性塗料は従来態様に従つ
て基体上に塗布され、磁性粒子の配子、溶剤乾燥
及び表面平滑化処理後、後述するように第一磁性
層の厚みが2.1〜2.8μmになるように放射線照射さ
れる。このようにして、第一層が形成された後、従来
態様に従つてその上に第二層が形成される。第二
層用に使用される樹脂としては、ポリエステル樹
脂（ポリエステル化反応、アルキド樹脂、オイル
フリーアルキド、不飽和ポリエステル）、アミノ
樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリ
ル樹脂、塩化ビニル樹脂、反応性塩化ビニル樹
脂、塩化ビニル共重合体、ふつ素樹脂、シリコン
樹脂、繊維素樹脂、フエノール樹脂、キシレン樹
脂、トルエン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロ
ピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリシクロペ
ンタジエン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の
樹脂を、熱可塑性又は、熱硬化系としてトリレン
ジイソシアネート、４，4′−ジフエニルメタンジ
イソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
メタキシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、
イソホリンジイソシアネート、トリメチルヘキサ
メチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシ
アネートが共に用いられる。これら樹脂バインダ
ーが、指定された範囲の磁性材料を前記と同様に
分散せしめた後、第一層上に塗布される。第二層
において熱硬化性樹脂を使用することは、生産管
理上の不利益は、第一層程でなく、工業上充分に
許容されうる。本発明においては、前述したように形成された
第一及び第二磁性層についてその厚み及び保磁力
範囲並びに第一磁性層の磁性粉含量が、第一層の
放射線硬化による長所と併せて低域での出力変動
が少なくしかも中域での歪のない二層塗布磁気記
録媒体を提供するべく制御される。本発明においては、放射線硬化される第一磁性
層は保磁力が350〜630Oeでありそして厚みが2.1
〜2.8μmであるようにされ、加えて磁性粉含有量
は81.8％以上とされるのが好ましい。第二磁性層
はその厚さを2.1μm以上としそして保磁力範囲は
510〜800Oeとされるのが好ましい。第一磁性層上の第二磁性層をある程度厚く塗布
することにより、第一磁性層における表面凹凸の
影響が低減し、高域周波数において出力変動の少
ない二層塗布磁気記録媒体が得られることが、従
来からの二層塗布磁気記録媒体について本件出願
人により確認されている。本件出願人は更に、(1)
第二磁性層厚が8KHzの低周波数では、1.5μm以
上でそして16KHzの高域周波数では2.1μm以上で
出力変動が0.5dB以下となるため、第二磁性層厚
は2.1μm以上に選定することが望ましいこと、(2)
第一磁性層の磁性粉の含有率は81.8％以上であ
ればその厚さが2.1〜2.8μmの範囲で充分良好な低
域周波数特性が得られ、2.8μm以上になると全体
の保磁力が低下し、そして低域周波数特性は向上
するが中域が歪んでしまうという欠点が出てくる
ため2.1〜2.8μmとすることが望ましいことを既に
確認している。本発明においても、上記提唱に従
うのがよいことが知見された。加えて、本発明においては、第一磁性層におけ
るバインダーが放射線により硬化または重合され
るため、従来保磁力が590Oeまでしか使用できな
かつたものが630Oeまで使用できことが判明し
た。従つて、第一磁性層の保磁力の使用範囲が従
来より広がり、このため低域での歪みの一層少な
い磁気記録媒体が得られる。これは、放射線照射
により重合するバインダーにおける網目構造が従
来のものと差があることに帰因するものと思われ
る。このように、本発明は、放射線硬化しうるバイ
ンダーを第一磁性層に使用すること及び第一及び
第二磁性層の塗厚、保磁力等を制御することの組
合せの下で、従来よりも出力変動の少ないそして
中域での中だるみのない磁気記録媒体を合理化さ
れた生産工程の下で製造することを可能とする。
これは、従来のイソシアネート系化合物を使用し
て加熱による架橋反応を行なわしめたテープは、
塗料に硬化剤としてのイソシアネート化合物が混
合された後は、バインダー中の水酸基等との反応
が始まり、塗布、乾燥後はバインダー中での架橋
反応が急速に進み、塗料のポツトライフ経過時間
と共に架橋反応進行による塗膜硬化が進み、表面
成型性が低下することによる出力変動が生じるの
に対し、放射線感応樹脂を使用するものにおいて
は表面成型加工後電子線照射により発生したラジ
カルによる架橋が進行するため磁性塗料のポツト
ライフによる表面成型性の低下による出力変動劣
化を生ぜず、更には塗布後の放置時間による表面
成型性の低下による面の悪さからの出力変動の制
約も取除くことができたことによる。第一の磁性
層の保磁力の上限が放射線感応樹脂を用いること
により630Oeまで拡大され、これにより中域での
中だるみが解消される。また、使用磁気記録媒体が前記した第一層及び
第二層の保磁力範囲の中で更に特定された範囲の
組合せを選定するのが有利である。その場合、第
一層及び第二層の各々の保磁力範囲を使用磁気テ
ープ保磁力に応じて比例的に低くなるように第一
層及び第二層が形成される。例えば、350Oe以上
の録音装置に用いるものでは次のような範囲の組
合せがとられる。第一層第二層 (1) 400〜630Oe 590〜800Oe (2) 380〜600Oe 560〜760Oe (3) 350〜550Oe 510〜700Oe 以下、本発明の実施例を示すが、最初に放射線
感応性バインダーの合成例を呈示しておく。ａ塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のア
クリル変性体の合成（放射線感応変性樹脂）ビニライトVAGH750部とトルエン1250部シ
クロヘキサノン500部を５４つ口フラスコに
仕込み加熱溶解し80℃昇温後トリレンジイソシ
アネートの２−ヒドロキシエチルメタアクリレ
ートアダクト（製法は下記註参照）を61.4部加
え、更にオクチル酸スズ0.012部、ハイドロキ
ノン0.012部加え80℃でN₂気流中NCO反応率が
90％以上となるまで反応せしめる。反応終了後冷却しメチルエチルケトン1250部
を加え稀釈する。（註：トリレンジイソシアネート（TDI）の２−
ヒドロキシエチルメタアクリレート（2HEMA）アダクトの製法：トリレジンジイソシアネート384部をN₂気
流中１の４つ口フラスコ内で80℃に加熱
後、２−ヘキサエチレンメタアクリレート
260部、オクチル酸スズ0.07部、ハイドロキ
ノン0.05部を反応缶内の温度が80〜85℃とな
る様に冷却コントロールしながら滴下終了後
80℃で３時間撹拌し反応を完結させる。反応
終了後取り出して冷却後白色ペースト状の
TDIの2HEMAを得た。）ｂブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂）ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をト
ルエン191.2部シクロヘキサノン71.4部を５
４つ口フラスコに仕込み加熱溶解し80℃昇温後
前記トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキ
シエチルメタアクリレートアダクトを7.4部加
え更にオクチル酸スズ0.015部、ハイドロキノ
ン0.015部を加え、80℃でN₂気流中NCO反応率
が90％以上となるまで反応せしめる。反応終了後冷却メチルエチルケトンにて稀釈
する。ｃ飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成
（放射線感応変性樹脂）東洋紡製バイロンRV−200 100部をトルエ
ン116部、メチルエチルケトン116部に加熱溶解
し80℃昇温後前記TDIの2HEMAアダクトを
3.55部加えオクチル酸スズ0.007部、ハイドロ
キノン0.007部を添加しN₂気流中80℃でNCO反
応率90％以上となるまで反応せしめる。ｄエポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線
感応変性樹脂）シエル化学製エピコート1007 400部をトルエ
ン50部MEK50部に加熱溶解後NN−ジメチル
ベンジルアミン0.006部、ハイドロキノン0.003
部を添加し80℃としアクリル酸69部を滴下し80
℃で酸化５以下となるまで反応せしめる。ｅウレタンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線感応エラストマー）末端イソシアネートのジフエニルメタンジイソ
シアネート（MDI）系ウレタンプレポリマー
（日本ポリウレタン製ニツポラン4040）250部、
2HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチ
ル酸スズ0.009部を反応缶に入れ80℃に加熱溶解
後TDI43.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となる
様に冷却しながら滴下し、滴下終了後80℃で
NCO反応率95％以上となるまで反応せしめる。ｆポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマ
ーアクリル変性体の合成（放射線感応エラスト
マー）日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−
500 250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン
0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入
れ80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内の温
度が80〜90℃となる様に冷却しながら滴下し、
滴下終了後80℃でNCO反応率95％以上となる
まで反応せしめる。ｇポリブタジエンエラストマーアクリル変性体
の合成（放射線感応エラストマー）シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端
水酸基ポリブタジエンポリBDリクイツトレジ
ンＲ−15 250部、2HEMA32.5部、ハイドロキ
ノン0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶
に入れ80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内
の温度が80〜90℃となる様に冷却しながら滴下
し、滴下終了後80℃でNCO反応率95％以上と
なるまで反応せしめる。ｈアリル基導入EBC性樹脂合成例（TDI−アリルアルコールアダクトリ体） TDI 348部をN₂気流中80℃に加熱後、アリ
ルアルコール116部、オクチル酸スズ0.07部、
ハイドロキノン0.02部を反応缶内の温度が80〜
85℃となるように冷却コントロールしながら滴
下し、滴下終了後80℃で３時間撹拌反応させ
る。（樹脂合成例）ニ−ロヒドロキシエチルアクリレート
（2HEA）15部、ブチルメタクリレート35部、
トルエン37.5部、MEK37.5部を反応缶に入れ
80℃に加熱し、2HEA45部、ブチルメタクリレ
ート105部、ベンゾイルパーオキサイドBPO
６部、トルエン112.5部、を滴下し80〜90℃で
４時間反応せしめ、反応生成物195部にTDI−
アリルアルコールアダクト体を46.6部加え、オ
クチル酸スズ0.01部、ハイドロキノン0.01部を
添加80℃でNCO反応率90％以上まで反応せし
める。ｉ不飽和ポリエステル系EBC性樹脂合成例セバチン酸ジメチル136部、アジピン酸ジメ
チル12.2部、マレイン酸ジメチル64.8部、ネオ
ペンチルグリコール73部、１，６−ヘキサンジ
オール74部、テトラ−ｎ−ブチルチタネート10
部を反応缶に仕込みN₂気流中180℃で脱メタノ
ール反応後240〜260℃まで昇温し、0.5〜１mm
Hgの減圧下縮合反応により、内部可塑化され
たエラストマーに近い樹脂を得た。実施例１例１−１（本発明による第一層の形成）コバルト被着針状γ−Fe₂O₃ 100部アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体
10部（固形分換算）〃ポリエーテルウレタンエラ
ストマー 10部（〃）分散剤（大豆精製レシチン）４部メチルエチルケトン 80部メチルイソブチルケトン 80部トルエン 80部上記組成の混合物をボールミル中で24時間混練
し、ポリエステルフイルム上に塗布し、磁性粒子
の配向、溶剤乾燥及び平面平滑化処理後、磁性層
の厚みが2.1μmになるようにした。磁性粉の含有
率は83.4％であり保磁力は590Oeであつた。テレ
クトロカーテンタイプの電子線加速器で加速電圧
150KV、電極電流10mA及び吸収線量5Mradの条
件の下で、N₂ガス雰囲気において電子線を照射
し、塗膜を硬化させた。例１−２（従来方法による第一層形成）コバルト被着針状γ−Fe₂O₃ 100部塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（UCC社製VAGA） 10部ウレタンポリマー（日本ポリウレタン(株)
＃2304） 10部分散剤（大豆精製レシチン）４部メチルエチルケトン 80部メチルイソブチルケトン 80部トルエン 80部上記組成の混合物を24時間混練後架橋剤として
コロネートL3部を混合し、例１−１と同様にし
て塗布し、これを60℃の温度で48時間加熱処理
し、バインダーを架橋硬化させた。保磁力は
530Oeであつた。例１−３（第二層の形成）コバルト被着γ−Fe₂O₃ 100部塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（UCC社製VAGH） 15部ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタン(株)
＃2304） 10部分散剤（大豆精製レシチン）１部メチルエチルケトン 100部メチルイソブチルケトン 100部トルエン 100部以上の組成の混合物をボールミル中で48時間混
練した後架橋剤として日本ポリウレタン社製コロ
ネートＬを４部混合し、例１−１及び１−２で形
成した第一磁性層上に塗布し、磁性粒子の配向処
理、溶剤乾燥処理及び表面処理後厚みが2.2μmと
なるようにした。第二磁性層の保磁力は680Oeで
あつた。例１−１と例１−３との組合せによる本
発明の磁気テープは例１−２と例１−３との組合
せによる磁気テープよりも低〜中〜高域で歪のな
いものであつた。ポツトライフが及ぼす出力変動への影響を示す
為、例１−１及び例１−２の磁性塗料を様々の時
間放置し、1KHz及び3KHzにおいて出力変動を測
定した。結果を第１図に示す。第１図から明らか
なように磁性塗料のポツトライフが進むと、1K
Hz及び3KHzいずれにおいても、例１−２の熱硬
化性バインダーを使用した磁気記録媒体は同様の
傾向の出力変動を示すのに対し、例１−１の放射
線硬化バインダーを使用する本発明磁気記録媒体
は出力変動に問題を全く程しない。実施例２コバルト被着針状γ−Fe₂O₃ 100部アクリル二重結合導入ブチラール樹脂
８部（固形分換算）アクリル二重結合導入ウレタンエラストマー
12部（〃）分散剤（大豆精製レシチン）５部メチルエチルケトン 120部トルエン 100部以上の組成の混合物を例１−１と同様の方法で
加速電圧170KV、電極電流20mA、及び吸収線量
10Mradの条件の下でN₂ガス雰囲気において電子
線を照射することにより塗膜を硬化させ第一磁性
層を形成した。第一磁性層の保磁力は560Oeであ
り、そして塗膜厚は2.8μmであつた。次いで、下記組成の磁性塗料を調製して例１−
２と同様にして第二層を形成した。コバルト被着
針状γ−Fe₂O₃ 100部塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（積水化学(株)製エスレツクＡ） 13部熱可塑性ウレタン（日本ポリウレタン社製No.3022） 12部分散剤（大豆精製レシチン）１部メチルエチルケトン 150部トルエン 100部第二磁性層の保磁力は650Oeでありそして塗膜
厚は2.1μmであつた。得られた二層塗布テープは、全周波数範囲で優
れた周波数特性を有し、また高域周波数でも著し
い周波数特性の向上を示した。13KHz低域での出
力変動も0.5dB以内であつた。参考例１本例は、第一磁性層において一方を熱可塑性樹
脂としたものを示すものである。コバルト被着針状γ−Fe₂O₃ 100部塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体（重合度約300、作成法は下記註参照） 10部アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマー 10部分散剤（大豆精製レシチン）５部メチルエチルケトン 120部トルエン 100部以上の組成の混合物を例１−１と同様の方法で
加速電圧175KV、電極電流15mA、吸収線量
3Mradの条件においてN₂ガス雰囲気下で電子線
を照射し、塗膜を硬化させた。形成された第一磁
性層の混さは2.1μmそして保磁力は630Oeであつ
た。第一磁性層上に、実施例２の第２磁性層用磁性
塗料と同じ組成のものを同様に塗布し、2.8μm塗
厚及び720Oe保磁力の第二磁性層を形成した。得られた２層塗布磁気テープの１，3KHzでの
出力変動は0.5dB以内であり、その周波数特性も
全周波数範囲で優れたものであつた。（註）上記実施例において原料として使用した塩
化ビニル−ビニルアルコール共重合体は次のよう
にして作成した：塩化ビニル基／酢酸ビニル基の比が75／25で、
平均重合度ｎ＝400の塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体を原料とし、これをMIBK（メチルイソブ
チルケトン）等の溶剤と水との混合分散媒体中に
懸濁させ、撹拌機等による機械的分散により、樹
脂を膨潤させたスラリーに近い懸濁物を作る。次にこれに、カ性ソーダ−ナトリウムメチラー
トを触媒として添加し、かつ温度を80℃近辺に保
ち、酢酸ビニルのアセチル基を水酸基にケン化す
る。なお、脱塩酸防止のための安定剤や、均一に懸
濁させるための懸濁剤を使用してもよい。次に脱離したアセチル基より生成する酢酸や触
媒を、ケン化の終了したスラリーを水洗すること
により除去し、樹脂の安定性を高める。この場
合、必要に応じて、ケン化時の着色を消すため、
塩素イオン等を取り除く脱色工程を付加してもよ
い。上述のケン化法１によつて得られた塩化ビニル
−ビニルアルコール共重合体の特性は次のような
ものであつた。塩化ビニル基 87％酢酸ビニル基 0.3％以下ビニルアルコール基 12.6％重合度 330 実施例３本例は第一磁性層において、放射線感応変性樹
脂、熱可塑性樹脂と放射線感応性軟質樹脂との組
み合せを示すものである。コバルト被着針状γFe₂O₃ 100部ポリビニルアルコール系樹脂の放射線感応変性
５部エポキシ樹脂５部アクリル二重結合導入ウレタンエラストマー
10部分散剤（大豆精製レシチン）５部メチルエチルケトン 120部トルエン 100部以上の組成の混合物を実施例３と同様に行なつ
た。得られた出力変動は0.5dB以内であり、その
周波数特性も全周波数範囲で優れたものであつ
た。以上、説明したように、本発明は、生産工程の
尚一層の自動化、高速化等を可能ならしめると共
に、従来の二層塗布テープに伴つた出力変動、中
域中だるみ等の品質上の問題点を解消し、斯界に
重意義な貢献を為すものである。

【図面の簡単な説明】

図面はポツトライフが出力変動に及ぼす影響を
示すグラフである。

Claims

【特許請求の範囲】１非磁性支持体上に、低保磁力の第一磁性層
と、該第一磁性層上に設けられた熱可塑性又は熱
硬化性バインダーを使用した高保磁力の第二磁性
層とを備えた磁気記録媒体において、前記第一磁
性層は磁性粉末を下記のバインダー、Ａ電子線硬化性アクリル系二重結合、マレイン
酸系二重結合又はアリル系二重結合を有する樹
脂から選んだ電子線感応性樹脂と、Ｂ電子線硬化性アクリル系二重結合、マレイン
酸系二重結合又はアリル系二重結合を有する電
子線感応性軟質樹脂又はそのプレポリマー、オ
リゴマー、テロマー、を使用して分散したものであることを特徴とする
磁気記録媒体。ただし、Ａの樹脂は、アクリル系二重結合、マレイン酸
系二重結合又はアリル系二重結合を導入した塩化
ビニル系樹脂、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポ
リエステル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、
エポキシ系樹脂、フエノキシ樹脂、繊維素誘導
体、ポリエーテル樹脂、及びポリカプポロラクト
ンにのから選択され、Ｂの樹脂又はそのプレポリマー、オリゴマー、
テロマーは、アクリル系二重結合、マレイン酸系
二重結合又はアリル系二重結合を導入したポリウ
レタン樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体エラストマー、ポリブタジエンエラストマ
ー、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及
びその環化物、内部可塑化飽和線状ポリエステ
ル、エポキシ変性ゴム、又はそれらのプレポリマ
ー、オリゴマー、テロマーから選択されている。２第一磁性層の保磁力が400〜6300e、第二磁性
層の保磁力が590〜8000eである前記第１項記載の
磁気記録媒体。３第一磁性層の電子線硬化は150〜300KVの電
子線加速器を使用して不活性雰囲気中で行なわれ
たものである前記第１項又は第２項記載の磁気記
録媒体。