JPH0364931B2 - - Google Patents

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JPH0364931B2
JPH0364931B2 JP58141930A JP14193083A JPH0364931B2 JP H0364931 B2 JPH0364931 B2 JP H0364931B2 JP 58141930 A JP58141930 A JP 58141930A JP 14193083 A JP14193083 A JP 14193083A JP H0364931 B2 JPH0364931 B2 JP H0364931B2
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magnetic
plasma polymerized
gas
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/72Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction

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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
産業䞊の利甚分野 本発明は、磁気蚘録媒䜓及びその補造方法に係
り、特に磁性局䞊にオヌバコヌト局を有する薄膜
圢磁気蚘録媒䜓においお、オヌバコヌト局をプラ
ズマ重合局ずその䞊に圢成された有グラフト局に
より構成し、スペヌシングロスを少なくしか぀走
行性、耐摩耗性及び耐蝕性を改良した磁気蚘録媒
䜓及びその補造方法に関する。 埓来技術 埓来の磁気蚘録媒䜓の倚くは、いわゆる塗垃圢
磁気蚘録媒䜓に属しおいる。これは匷磁性粉末を
塩化ビニル−酢酞ビニル共重合䜓、゚ポキシ暹
脂、ポリりレタン暹脂等の暹脂からなる結合剀に
混緎分散させた磁性塗料を支持䜓䞊に塗垃也燥さ
せお磁気蚘録媒䜓を圢成したものである。しかし
ながら、この塗垃圢磁気蚘録媒䜓は、酞化鉄のよ
うな金属酞化物を磁性材料に䜿甚しおいるため匷
磁性金属より飜和磁化が小さいこずず、磁性材料
の充填密床が結合剀の分だけ小さいこずのため高
密床蚘録ができにくいのみならず、塗垃膜の膜厚
が倧きくなるため䟋えばビテむオ機噚に䜿甚され
た堎合磁気ヘツドに走査される郚分は塗垃膜の衚
局郚に限られるので塗垃膜の走査されないでロス
になる郚分すなわちスペヌシングロスが倧きくな
り、その結果再生出力も小さくならざるを埗ない
ずいう欠点がある。 近幎、蚘録すべき情報量の増倧に䌎い高密床蚘
録が可胜な磁気蚘録媒䜓の出珟がのぞたれるよう
にな぀おきた。このようなものずしおは磁性材料
の充填密床を高めるこずが出来るずずもに飜和磁
化を倧きくできるものが奜たしいが、このような
ものずしお匷磁性金属局は支持䜓䞊に盎接蚭けた
いわゆる薄膜圢磁気蚘録媒䜓が真空蒞着法、スパ
ツタリング、むオンプレヌテむング、メツキ等の
方法により䜜成可胜にな぀おきた。 しかし、このような薄膜圢磁気蚘録媒䜓の匷磁
性局は空気䞭にさらされるずその金属が酞玠や氎
分により酞化されるので耐蝕性に乏しく、たた、
機械的匷床が匱く摩擊係数も倧きいため磁気ヘツ
ド、ガむドロヌラ、ラむナ等ずの摩擊により傷が
぀き易い。このように酞化腐食されるこずにより
生成される䟋えば酞化鉄は飜和磁化が小さくなり
それだけ蚘録媒䜓ずしおの蚘録密床を枛少させる
のみならず、この腐食された郚分や傷が生じた郚
分がノむズの原因になるこずもある。このように
匷磁性局の摩擊係数が倧きいこずはたた、䞊蚘磁
気ヘツド等に接觊するずきの走行性が良くないこ
ずにもなり、これは䞀定速床で蚘録又は再生する
こずを劚げ、蚘録又は再生の質を䜎䞋させる原因
にな぀おいる。 このような薄膜圢磁気蚘録媒䜓の欠点を改善す
るために、これたで匷磁性局䞊にオヌバコヌト局
を塗垃、真空蒞着、スパツタリング、むオンプレ
ヌテむング等の方法により蚭ける詊みがなされお
きた。このようなものずしおは次のようなものが
挙げられる。 真空蒞着法により、ロゞりム、クロムのよう
な金属や、WC、TiO2、CaF2、MgF2のような
高硬床無機物、金属石鹞のような最滑性有機物
によるオヌバコヌト局を蚭ける。 最滑性有機物を塗垃する塗垃法により最滑性
有機物含有局のオヌバコヌト局を蚭ける。 プレポリマヌ液を塗垃した埌、塗垃膜に玫倖
線を照射しお重合反応を起こさせお重合䜓のオ
ヌバコヌト局を蚭ける。 特開昭57−167132号公報、同57−167133号公
報、同57−167134号公報に蚘茉されおいるよう
に、匷磁性局䞊に窒玠ガス又は酞玠ガスのむオ
ン又はこれらのガスをプラズマ凊理するこずに
より窒化膜、酞化膜を圢成する。 特開昭57−135442号公報に蚘茉されおいるよ
うに匷磁性局䞊に、非北玠含有モノマヌガスず
含北玠有機物モノマヌガスをプラズマ重合させ
おこの重合䜓のオヌバコヌト局を蚭ける。 昭和58幎電子通信孊䌚総䌚党囜倧䌚No.175
1983に報告されおいるように、有機珪玠系
プラズマ重合膜のオヌバヌコヌト局を蚭ける。 特開昭57−164434号公報に蚘茉されおいるよ
うに磁性金属蒞着薄膜の衚面をグロヌ凊理した
埌、高分子ず最滑剀を蒞着したオヌバコヌト局
を蚭ける。 しかしながら、䞊蚘、で埗られた蒞着膜及
び塗垃膜は、膜匷床が小さく、特に高分子塗垃膜
の堎合は薄膜にするのが困難でスペヌシングロス
を生じ出力䜎䞋を招く。たた、の方法で埗られ
た塗垃硬化局は、すべり性があたりないので長期
にわたり最滑特性を維持するこずが困難である。
たた、の方法で埗られた窒化、酞化膜は走行性
の点で安定性を欠く。たた、の方法で埗られた
北玠含有有機物からなるプラズマ重合䜓のオヌバ
コヌト局は、走行性、耐摩擊性の点で満足な特性
が埗られない。たた、の有機珪玠系プラズマ重
合䜓のオヌバコヌト局は重合䜓膜が緻密であるの
でピンホヌルが生じるこずが少なく空気䞭の酞玠
や氎分による浞食をうけるこずがなく磁性局の耐
蝕性ずしおは良奜な特性を瀺すが、十分な耐摩耗
性、走行性を埗るには比范的厚い膜を必芁ずし、
これはスペヌシングロスを倧きくする欠点があ
る。さらにの高分子ず最滑剀によるオヌバコヌ
ト局は耐摩耗性においお満足な特性が埗られな
い。 たた、特開昭57−164433号公報には、窒玠プラ
ズマにより磁性金属蒞着薄膜の衚面を窒化凊理し
お窒化金属局を圢成し、その䞊に真空雰囲気䞋で
高分子、高玚脂肪酞、脂肪酞゚ステル等の保護膜
を圢成させる方法も蚘茉されおいるが、この保護
膜は窒化金属局に物理的に接着しおいるに過ぎな
いので、ず同様に耐摩耗性においお䞍十分であ
る。 以䞊のように、薄膜圢磁性蚘録媒䜓甚のオヌバ
コヌト局ずしおは埓来、スペヌシングロスを少な
くしおか぀走行性、耐摩耗性及び磁性局の耐蝕性
を向䞊させる保護機胜を有するものがなく、その
改善が望たれおいた。 発明の目的 本発明の目的は、特に薄膜圢磁気蚘録媒䜓の走
行性、耐摩耗性及び耐蝕性の改良にあり、特に支
持䜓䞊に蚭けた匷磁性局䞊のオヌバコヌト局の走
行性、耐摩耗性及び磁性局の耐蝕性を向䞊させる
その保護機胜の改良を盎接の目的ずするものであ
る。 発明の構成 本発明は、䞊蚘目的を達成するために磁性局
に、プラズマ重合局にグラフト局を圢成したオヌ
バコヌト局を蚭け、これによりプラズマ重合局の
持぀特長、すなわち薄膜の圢成が可胜でか぀この
薄膜状態で均䞀性、高耐久性を持぀ずずもに緻密
性に基づく耐蝕性を有する特性ず、グラフト局が
も぀最滑性及び䞊蚘プラズマ重合局に察する匷固
な接着性に基づく耐摩耗性の特性を利甚しこれら
が単独では埗られないような䞡者を組み合わせた
こずにより䞡者の特性を盞乗的に発揮出来るよう
にした磁気蚘録媒䜓及びその補造方法を提䟛する
ものである。 そのために、本発明の磁気蚘録媒䜓は、支持䜓
䞊に磁性局ずこの磁性局を芆うオヌバコヌト局を
有する磁気蚘録媒䜓においお、䞊蚘オヌバコヌト
局は酞玠、窒玠、リン、むオり、塩玠又は硌玠の
うち少なくずも皮類の元玠ず、炭玠ず、氎玠ず
から䞻ずしおなるプラズマ重合局ず、このプラズ
マ重合局衚面にアクリル酞゚ステル及び又はメ
タクリル酞゚ステルをグラフトさせたグラフト局
を有するこずを特城ずするものである。 たた、本発明の磁気蚘録媒䜓の補造法は、支持
䜓䞊に磁性局を圢成した埌、この磁性局䞊に酞
玠、窒玠、リン、むオり、塩玠又は硌玠のう少な
くずも皮類の元玠ず、炭玠ず、氎玠ずから䞻ず
しおなる化合物の皮又は皮以䞊をグロヌ攟電
䞋で重合させおプラズマ重合局を圢成し、この圢
成されたプラズマ重合局に䞻ずしおアクリル酞゚
ステル及び又はメタクリル酞゚ステルからなる
蒞気を接觊させお気盞凊理するこずにより有機物
凊理局を圢成するこずを特城ずするものである。 䞊蚘においおプラズマ重合局ずは、気䜓化合物
をいわゆるプラズマ重合によ぀お成膜した局であ
぀お、その重合䜓は気䜓化合物をプラズマ凊理し
お生じた䟋えばラゞカルを重合したものである。
このようなプラズマ重合䜓は、䞀般の䞍飜和化合
物のラゞカル重合䜓のようにモノマヌの繰り返し
構造ではなく、䞀般の重合䜓による局ず比べお高
密床、高架橋の局が圢成されるずずもに、繰り返
し構造が欠劂した均䞀構造の局が圢成される。こ
のプラズマ重合局の重合䜓の構造は䞀般の重合䜓
のようにその䜿甚する気䜓化合物の繰り返し構造
により捉えるこずができないので、その元玠構成
により衚わされる。この元玠構成からすれば、本
発明のプラズマ重合局の重合䜓は、酞玠、窒玠、
リン、むオり、塩玠又は硌玠のうち少なくずも
皮ず、炭玠ず、氎玠ずから䞻ずしおなる重合䜓で
ある。 このようなプラズマ重合局を圢成するには、䞀
般にプラズマ重合法ずしお知られおいるどのよう
な方法も適甚できる。䟋えば誘電匏電極により倖
郚からグロヌ攟電させる方匏の装眮、容量匏電極
により䞻に電極間にグロヌ攟電させる方匏の装眮
その他䞉極匏等特殊な方匏の装眮が䜿甚出来る。 たた、䜿甚される原料も特に限定されないが、
酞玠、窒玠、リン、むオり、塩玠又は硌玠のうち
少なくずも皮ず、炭玠ず、氎玠ずからなる化合
物の皮又は皮以䞊ず、必芁に応じお少量の他
の化合物すなわちアルゎン、ネオン、酞玠等の非
プラズマ重合性のガスを混合しお重合容噚に導入
し、ここでグロヌ攟電させるこずによ぀お支持䜓
䞊に膜を析出させる方法が奜たしい。 酞玠、窒玠、リン、むオり、塩玠又は硌玠のう
ち少なくずも皮ず、炭玠ず、氎玠ずからなる化
合物ずしおは、䟋えばアクリル酞メチル、アクリ
ル酞ブチル、メタクリル酞メチル、メタクリル酞
ベンゞル等のメタアクリル酞゚ステル類、゚
チレン、ブタゞ゚ン、ペンテン、アセチレン等の
䞍飜和脂肪族類、ピリゞン、トル゚ン、スチレン
等の芳銙族化合物類、ピリゞン、フラン、チオフ
゚ン等の耇玠環匏化合物類、トリメチルホスフア
むト、トリメチルボレヌト等の゚ステル類、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、クロルベンれン等の含
塩玠化合物類、トルむレン−ゞむ゜シアネ
ヌト等む゜シアネヌト類等が挙げられる。たた、
䞊蚘の少量の他の化合物ずしおは、氎玠、酞玠、
窒玠、アルゎン、䞀酞化炭玠、二酞化炭玠、塩
玠、硫化氎玠、ゞボラン、ホスゲン等の化合物が
挙げられる。 これらのプラズマ重合に甚いる化合物ずしおは
ガスずしお扱う操䜜䞊の点から垞枩で沞点が200
℃以䞋の化合物が奜たしく、150℃以䞋であるず
より奜たしい。 このようなプラズマ重合甚原料が䞊蚘プラズマ
発生装眮で凊理されるず䟋えばラゞカルが発生
し、これが予め甚意された埌述する支持䜓の磁性
局に析出し重合䜓の局が圢成される。 本発明におけるグラフト局は、䞻ずしおアクリ
ル酞゚ステル及び又はメタクリル酞゚ステルの
モノマヌをプラズマ重合局に接觊させる、いわゆ
る気盞凊理を行うこずにより圢成される局であ
る。このグラフト局は、プラズマ重合局に察しお
アクリル酞゚ステル及び又はメタクリル酞゚ス
テルのモノマヌがグラフトされるこずにより圢成
されるが、プラズマ重合局の圢成盎埌に圢成され
るこずが奜たしい。このようにプラズマ重合局の
圢成盎埌にグラフト局を圢成するず、このグラフ
ト局はプラズマ重合局に察する密着性が良く、良
奜な成膜性を瀺す。これは、プラズマ重合局の圢
成盎埌はプラズマ重合局にラゞカルが残存しおお
り、これに原料の䞊蚘モノマヌが付加しおグラフ
ト重合するからである。このようにしお圢成され
たグラフト局は最滑性があるずずもに、耐摩耗性
も向䞊させるこずができる。 このようなグラフト局を圢成させる気盞凊理を
行うには、原料のアクリル酞゚ステル及び又は
メタクリル酞゚ステルの蒞気を䜜成し、これを単
にプラズマ重合盞に接觊させおグラフト化するこ
ずが奜たしいが、この際倖郚゚ネルギヌを䟛絊し
おも良く、このような倖郚゚ネルギヌを䟛絊する
手段ずしおはグロヌ攟電、加熱、玫倖線照射等の
手段がある。これらの倖郚゚ネルギヌ䟛絊手段は
補助的に䜿甚するのが奜たしい。なお、蒞気有機
物蒞気を䜜成するには、単なる枛圧の他、通垞の
ヒヌタによる加熱、電子ビヌム加熱等が利甚され
る。 グラフト局を圢成する原料ずしおは䞻芁成分ず
しおは珪玠を含んでいないこずが奜たしく、その
原料ずしおはアクリル酞゚ステル及び又はメタ
クリル酞゚ステルモノマヌを䞻ずするものが奜た
しい。 䞊蚘のようなプラズマ重合局及びグラフト局か
らなるオヌバコヌト局の厚さは、党䜓で20Å〜
1000Åが奜たしく、特に100Å〜500Åの範囲が奜
たしい。20Å未満では薄過ぎお䞊蚘最滑性を付䞎
するには䞍十分であり、䞀方1000Åを越えるず磁
性局ず磁気ヘツドずのスペヌシングロスが倧きく
なる。オヌバコヌト局の䞊蚘厚さの範囲であれ
ば、プラズマ重合局(A)ず有機物凊理局(B)の局の厚
さの比は特に限定されるものではないが、(A)(B)
ないし(A)(B)0.1の範囲が奜たし
い。 このようにしおプラズマ重合局にグラフト局を
有するオヌバヌコヌト局が圢成されるが、グラフ
ト局はプラズマ重合局ずの界面ではプラズマ重合
局にアクリル酞゚ステル及び又はメタクリル酞
゚ステルのグラフト局が混圚し、衚面に近づくに
぀れお玔粋のグラフト局になる堎合も含み、アク
リル酞゚ステル及び又はメタクリル酞゚ステル
により凊理されたこずにより生じた局を総括した
ものである。 以䞊のようなオヌバコヌト局は支持䜓に圢成さ
れた匷磁性局に蚭けられるが、この匷磁性局が塗
垃型の堎合には、この匷磁性局に䜿甚できる匷磁
性粉は、埓来より䜿甚されおいる公知のもので良
く、このような匷磁性磁性粉ずしおはγ−
Fe2O3、Co含有γ−Fe2O3、Co被着γ−Fe2O3、
Fe3O4、Co含有Fe3O4、CrO2等の酞化物磁性粉
Fe、Ni、Co、Fe−Ni−Co合金、Fe−Mn−Zn
合金、Fe−Ni−Zn合金、Fe−Co−Ni−Cr合金、
Fe−Co−Ni−合金、Co−Ni合金等Fe、Ni、
Coを䞻成分ずするメタル磁性粉等各皮の匷磁性
粉が挙げられる。 匷磁性局を盎接支持䜓䞊に圢成する堎合にはそ
の方法ずしお、公知の真空蒞着法、スパツタリン
グ法、むオンプレヌテング法、メツキ法等が挙げ
られる。酞化物磁性粉やメタル磁性粉の䞭でも合
金の匷磁性粉を䜿甚する堎合は、その組成が倉化
しないように組成を制埡しお蒞着又はメツキ等を
しなければならない。 支持䜓ずしおは䟋えばプラスチツクフむルムが
挙げられ、その玠材ずしおはポリ゚チレンテレフ
タレヌト、ポリ゚チレ−−ナフタレヌト等
のポリ゚ステル類、ポリプロピレン等のポリオレ
フむン類、セルロヌストリアセテヌト、セルロヌ
スダむアセテヌト等のセルロヌス誘導䜓、ポリカ
ヌボネヌトなどが䟋瀺される。たた、Cu、Al、
Znなどの非磁性金属、ガラス、磁噚、陶噚等の
セラミツク等の支持䜓も䜿甚される。 支持䜓の圢態はテヌプ、シヌト、カヌド、デむ
スク、ドラム等のいずれでも良く、圢態に応じお
皮々の材料が必芁に応じお遞択される。これらの
厚さはフむルム、シヌト状の堎合は、玄〜
100Όであり、デむスク、カヌド状の堎合は30ÎŒ
〜10mm皋床である。 以䞊のようにしお支持䜓に蚭けられた磁性局に
プラズマ重合局ずグラフト局ずからなるオヌバヌ
コヌト局を有する磁気蚘録媒䜓が䜜成されるが、
プラズマ重合局は架橋床が高く、その構造も均䞀
であるので機械的匷床が倧きく、これにより薄膜
状態でも耐摩耗性等の耐久性を有するずずもに、
その緻密性からピンホヌル等の欠陥を生じるこず
が少なく空気䞭の酞玠、氎分等による磁気局ぞの
䟵入を阻止しおその酞化を防止し磁気特性を損な
わないようにできる。たたグラフト局は耐摩耗性
や酞玠、氎分の阻止効果も有する他に特に最滑性
に優れおいるのでこの磁気蚘録媒䜓の䟋えば磁気
ヘツドに察する走行性も良くなる。特にアクリル
酞゚ステル及び又はメタクリル酞゚ステルがプ
ラズマ重合局にグラフト化されるこずにより化孊
結合されおいるずこのグラフト局の耐摩耗性も向
䞊しプラズマ重合局の耐摩耗性ずの盞乗効果によ
り磁気蚘録媒䜓の耐摩耗性もより䞀局向䞊する。
このようにしお磁気蚘録媒䜓に必芁な諞特性を備
えた薄膜のオヌバコヌト局の圢成が可胜になる。 なお、本発明の磁気蚘録媒䜓の補造法により、
䞊蚘のようにプラズマ重合局を圢成するずき、重
合条件を適圓に調敎するこずによりプラズマ重合
局に内郚応力を発生させ、これにより匷磁性局に
支持䜓偎に向かう反りを䞎えるこずができるため
支持䜓䞊に匷磁性局を䜜成する際に生じる匷磁性
局衚面偎に向か぀お生じる反りカツピングを
盞殺するこずができる。このカツピングを盞殺す
るプラズマ重合局の重合条件ずしおは、䟋えばア
ルゎン等の混入ガス成分を少なくするこずが奜た
しい。 発明の効果 以䞊説明したように、本発明によれば、プラズ
マ重合局にグラフト局を有するオヌバコヌト局を
匷磁性局に蚭けたので、次のような効果が生じ
る。 (1) オヌバヌコヌト局はプラズマ重合局が耐摩耗
性に優れるのみならず、グラフト局もプラズマ
重合局に化孊結合するこずにより密着性がすぐ
れるためこれたた耐摩耗性に優れ、長時間䟋え
ば磁気ヘツドにこすられおもその摩耗が少な
く、したが぀お匷磁性局に察する摩耗をなくす
こずができるので再生出力の倉動を少なく出来
る。 (2) グラフト局は特に優れた最滑性を有するので
䟋えば磁気ヘツドにこすられお走行するずきも
走行性が良く、走行䞍良に基づく蚘録媒䜓に察
する画像あるいは録音の乱れを少なくできる。 (3) オヌバコヌト局特にプラズマ重合局は空気䞭
の酞玠や氎分の匷磁性局に察する䟵入を防止で
きるので匷磁性局に察する耐蝕性を向䞊でき、
長時間高枩、倚湿の条件のもずに本発明の磁気
蚘録媒䜓が攟眮されおも再生出力の劣化がな
く、高い保存性が埗られる。 (4) オヌバコヌト局は薄膜にできるので、磁気ヘ
ツドず匷磁性局ずの間のスペヌシングロスを少
なくでき、出力の䜎䞋がないようにできる。 実斜䟋 次に本発明の実斜䟋を第図及び第図に瀺す
装眮を参照し具䜓的に説明する。 第図は、本発明の磁気蚘録媒䜓を補造するず
き䜿甚する装眮の説明図であ぀お、ベヌス送出宀
、プラズマ重合宀、気盞凊理宀及びベヌス
巻取宀が順次連通しお蚭けられ、さらにベヌス
送出宀、ベヌス送出宀ずプラズマ重合宀の
間の連通路、気盞凊理宀、及びベヌス巻取宀
にはガス導入路がそれぞれ蚭けら
れ、プラズマ重合宀ず気盞凊理宀の間の連通
路にはガス排出路が蚭けられおいる。たた、
プラズマ重合宀には攟電電極′及び
プラズマ閉じ蟌め甚の磁石′がそれぞ
れ察蚭されおいる。 この装眮においお、匷磁性局圢成枈みのベヌス
支持䜓を、ベヌス送出宀に収容したベヌス
ロヌルから䞊蚘プラズマ重合宀、気盞凊理
宀を経由しおベヌス巻取宀に順次巻き取られ
るようにセツトする。この埌䞊蚘ベヌスロヌル
からベヌスが送出されお巻き取られるたでの系内
の脱気を行い、぀いでベヌス送出宀のガス導入
路及び巻取宀のガス導入路から䞍掻性ガス
アルゎンを系内に少量流す。この状態でベヌ
スの搬送を開始し、ガス導入路からプラズマ重
合甚ガス、たた、気盞凊理宀のガス導入路か
ら気盞凊理甚ガスをそれぞれ䟛絊する。この状態
でプラズマ重合宀に蚭けられた攟電電極
′に13.56MHzの高呚波を䟛絊する。これによ
りプラズマ重合甚ガスはプラズマ凊理され、これ
がベヌスに析出しお重合膜が圢成される。この際
磁石′はプラズマ凊理されたガスを電
極′間に閉じ蟌めプラズマ重合宀以
倖で装眮壁面にプラズマ重合膜が生成するのを防
止する。なお、図瀺装眮は予め瞊向きに配眮さ
れ、ベヌスを地面に察しお垂盎に搬送し、プラズ
マ重合宀内の気盞䞭で生成される暹脂粉䜓がベ
ヌス䞊に堆積されないように䞋方に萜䞋される。
これによりベヌスに圢成されるプラズマ重合局の
均䞀性が保たれるこずになる。 第図は、本発明の磁気蚘録媒䜓を補造する補
造装眮の他の䟋を瀺す平面説明図であ぀お、第
図ずは気盞凊理時間を長くした点、ベヌスを䞍掻
性ガスプラズマ凊理するこずにより枅浄化する点
で異なり、さらにプラズマ重合宀、気盞凊理宀に
おけるガスの流れをベヌスの幅方向に察しお均䞀
になるようにしたものである。 図においお、それぞれ円筒状のベヌス送出宀
、プラズマ重合宀、気盞凊理宀及び巻
取宀が順次環状に連通連蚭され、ベヌス送出
宀に収容されたベヌスロヌルのベヌスが
プラズマ重合宀に蚭けられた攟電電極兌搬送
ロヌル、気盞凊理宀に蚭けられた埌述す
る搬送甚぀る巻圢ロヌルに順次ガむドされお
巻取宀で巻き取られ巻取りロヌルずな
る。この状態でベヌスの搬送を開始するずずも
に、䞍掻性ガス導入郚から䞍掻性ガスを導入
しこれを攟電コむルによりプラズマ化し、ベ
ヌスをこれにさらす。これによりベヌス䞊の匷磁
性局衚面が枅浄化される。このベヌスは぀いでプ
ラズマ重合宀で、ガス導入郚から導入さ
れガス導入口兌攟電電極ず䞊蚘攟電電極兌搬
送ロヌルずの間でプラズマ凊理されたプラズ
マ重合甚ガスに曝され、ここでプラズマ重合局を
圢成されお぀ぎの気盞凊理宀に送出される。
この気盞凊理宀は第図の瞊断面図に瀺すよ
うに瞊長に圢成され、これに䞊蚘搬送甚぀る巻ロ
ヌルが収容されこれにベヌスが䞊方導入郚
から搬入されお垂盎方向に぀る巻状に巻回さ
れ、その端郚が䞋方導出郚から導出され
る。この間気盞凊理宀の䞊蚘導入郚ず反察偎
に蚭けたガス導入郚から気盞凊理甚ガスを導
入しガス導入口によりこのガスをベヌスの幅
方向に均䞀に拡散されおこのベヌスのプラズマ重
合局に接觊させる。これによりプラズマ重合局は
気盞凊理甚ガスず長く接觊できるので、厚い凊理
局を圢成できる。このようにしおグラフト局を圢
成されたベヌスは巻取宀で巻き取られる。な
お、䞊蚘ガス導入口兌攟電電極も䞊蚘気盞凊
理宀のガス導入口ず同様にガスをベヌスの幅方向
に均䞀に拡散出来るものである。なお、
はガス排出路である。 実斜䟋  公知の方法で䜜成したCo−Ni蒞着テヌプを第
図の装眮にセツトし、系内を真空排気する。こ
の埌、ベヌスの搬送を開始しおアルゎンガスを䞍
掻性ガス導入郚から適圓量導入し、このアル
ゎンガスを13.56MHz、50Wの高呚波電力を䟛絊
された攟電コむルにより凊理しおアルゎンプ
ラズマを発生させ、そのスパツタ効果によりテヌ
プ衚面を枅浄にする。再び系内を真空排気した埌
に゚チレンガスををプラズマ重合宀内にその
宀内圧が0.05torrになるように導入し、぀いで
13.56MHz、250Wの高呚波電力を攟電電極兌搬送
ロヌル及び導入口兌攟電電極に䟛絊する
こずにより、ベヌスの磁性局䞊にプラズマ重合局
を圢成する。 ぀いで、このようなプラズマ凊理を斜したテヌ
プをアクリル酞メチルで満たした気盞凊理宀
に送り、プラズマ重合局の衚面凊理を行぀おグラ
フト局を圢成する。そしおこのテヌプを巻取宀
に送出しここで巻き取る。 このようにしお䜜成した磁気蚘録テヌププのオ
ヌバコヌト局の厚さ、走行性、耐蝕性及びスチル
耐久性を枬定しその結果を第衚に瀺す。ここ
で、オヌバコヌト局の厚さはRank Talor
Hobson Limi−tedのタリステツプを甚い通垞の
方法に埓぀お枬定した。たた、走行性は動マサツ
係数を枬定しおしらべ、この動マサツ係数は新東
化孊株匏䌚瀟の回転ドラム圢衚面性枬定機を甚
い、荷重30、回転数66.9rpmで枬定した。た
た、耐蝕性は磁性局の最倧磁堎Hmax20000e
における磁化σnaxの劣化を枬定しおしらべた。こ
の枬定には振動詊料型磁気枬定装眮を甚いた。こ
の磁化の劣化は60℃、湿床80に保たれた容噚内
に詊隓片を週間攟眮した埌の磁化σnaxを枬定し
詊隓片の圓初の磁化σnaxに察する枛少で瀺す。
たた、スチル耐久性は動䜜状態のVHS型ビデオ
デツキにおいおテヌプの走行を止め、ビデオ出力
が3dB枛少するたでの時間で衚わす。 比范䟋  実斜䟋ず同様に磁性局衚面を枅浄にしたテヌ
プを実斜䟋ず同様に詊隓した結果を第衚に瀺
す。 比范䟋  実斜䟋においお枅浄化凊理した磁性局に実斜
䟋ず同様にプラズマ重合局を圢成したものを実
斜䟋ず同様に詊隓した結果を第衚に瀺す。 比范䟋  比范䟋においおプラズマ重合局を圢成したの
ちラりリル酞の0.1トル゚ン溶液をこのプラズ
マ重合局に塗垃したものを実斜䟋ず同様に詊隓
しその結果を第衚に瀺す。 比范䟋  実斜䟋ず同様にしお磁性局衚面を枅浄にした
テヌプを盎接アクリル酞メチルの蒞気で満たした
気盞凊理宀に送り、実斜䟋ず同様にしお気
盞凊理をしたものに぀いお実斜䟋ず同様の詊隓
を行いその結果を第衚に瀺す。 これらの結果から、実斜䟋のものは、比范䟋
〜のものず比范し、走行性、スチル耐久性に
おいお、たた、比范䟋のものに比べ耐蝕性、ス
チル耐久性においお倧幅の向䞊が芋られた。これ
によりプラズマ重合局ずグラフト局の組合せの盞
乗効果が認められる。
【衚】 実斜䟋  実斜䟋ず同様にしお゚チレンをモノマヌずす
るプラズマ重合局を磁性局䞊に圢成したテヌプを
アクリル酞ブチルの蒞気で満たした気盞凊理宀
に送り、グラフト局を圢成した。この詊隓片に
぀いお実斜䟋ず同様に詊隓した結果を第衚に
瀺す。なお、プラズマ重合局の厚さを実斜䟋ず
同様に枬定したずころ250Åであ぀た。
【衚】 この結果、本実斜䟋はいずれの特性もよい結
果を瀺しおいる。 実斜䟋 、 実斜䟋ず同様に第図の装眮を甚いおテヌプ
衚面をアルゎンプラズマ凊理を行぀たのち、アク
リル酞メチルず酞玠のの混合ガスをプラズ
マ重合宀に圧が0.1torrになるように導入し、
぀いで13.56MHz、200Wの高呚波電力を導入口兌
攟電電極及び攟電電極兌搬送甚ロヌルに
䟛絊するこずにより、磁性局䞊にプラズマ重合局
を圢成した。 ぀いで、このプラズマ重合局を圢成したテヌプ
を実斜䟋、で挙げた有機物蒞気を満たした気
盞凊理宀に送り、プラズマ重合局の䞊にグラ
フト局を圢成した。これらをそれぞれの有機物に
察応させお実斜䟋、ずする。これらの詊隓片
を実斜䟋ず同様に詊隓した結果を第衚に瀺
す。 比范䟋  実斜䟋においおプラズマ重合局のみを圢成し
たものに぀いお実斜䟋ず同様の詊隓を行な぀た
結果を第衚に瀺す。
【衚】 実斜䟋 、 実斜䟋ず同様に第図の装眮によりテヌプ衚
面をアルゎンプラズマ凊理う行な぀た埌、トリメ
チルボレヌトず窒玠のの混合ガスをプラズ
マ重合宀に圧が0.20torrになるように導入
し、぀いで13.56MHz、250Wの高呚波電力を導入
口兌攟電電極及び攟電電極兌搬送甚ロヌル
に䟛絊し、磁性局䞊にプラズマ重合局を圢成す
る。぀いで実斜䟋、ず同様にグラフト局を圢
成しそれぞれの有機物に察応させお実斜䟋、
ずしこれらの詊隓片に぀いお実斜䟋ず同様の詊
隓を行ないその結果を第衚に瀺す。 比范䟋  実斜䟋においおプラズマ重合局を圢成したも
のに぀いお実斜䟋ず同様の詊隓を行ないその結
果を第衚に瀺す。
【衚】 実斜䟋 、 実斜䟋ず同様に第図の装眮によりテヌプ衚
面をアルゎンプラズマ凊理う行な぀た埌、チオフ
゚ンず氎玠のの混合ガスをプラズマ重合局
に送り圧が0.05torrになるように導入し、぀
いで13.56MHz、250Wの高呚波電力を導入口兌攟
電電極及び攟電電極兌搬送甚ロヌルに䟛
絊し、磁性局䞊にプラズマ重合局を圢成する。 ぀いで実斜䟋、ず同様にグラフト局を圢成
しそれぞれの有機物に察応しお実斜䟋、ず
し、これらの詊隓片に぀い実斜䟋ず同様の詊隓
を行ないその結果を第衚に瀺す。 比范䟋  実斜䟋においおプラズマ重合局を圢成したも
のに぀いお実斜䟋ず同様の詊隓を行ないその結
果を第衚に瀺す。
【衚】 実斜䟋 、10 実斜䟋ず同様に第図の装眮によりテヌプ衚
面をアルゎンプラズマ凊理う行な぀た埌、トルむ
レン−ゞむ゜シアネヌトのガスをプラズマ
重合宀に圧が0.05torrになるように導入し、
぀いで13.56MHz、200Wの高呚波電力を導入口兌
攟電電極及び攟電電極搬送甚ロヌルに䟛
絊し、磁性局䞊にプラズマ重合局を圢成する。 ぀いで実斜䟋、ず同様にグラフト局を圢成
しそれぞれ有機物に察応しお実斜䟋、10ずし、
これらの詊隓片に぀いお実斜䟋ず同様の詊隓を
行ないその結果を第衚に瀺す。 比范䟋  実斜䟋においおプラズマ重合局を圢成したも
のに぀いお実斜䟋ず同様の詊隓を行ないその結
果を第衚に瀺す。
【衚】 なお、䞊蚘各実斜䟋は第図の装眮を甚いた堎
合であ぀たが、第図の装眮を甚いおもほが同様
の結果が埗られた。
【図面の簡単な説明】
第図は本発明の磁気蚘録媒䜓の補造法を実斜
するずき䜿甚する装眮の䞀䟋の瞊断面説明図、第
図はその装眮の他の䟋の平面説明図、第図は
その気盞凊理宀の瞊断面説明図である。 図䞭、はプラズマ重合宀、は
気盞凊理宀である。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  支持䜓䞊に磁性局ずこの磁性局を芆うオヌバ
    ヌコヌト局を有する磁気蚘録媒䜓においお、䞊蚘
    オヌバヌコヌト局は酞玠、窒玠、リン、むオり、
    塩玠又は硌玠のうら少なくずも皮類の元玠ず、
    炭玠ず、氎玠から䞻ずしおなるプラズマ重合局
    ず、このプラズマ重合局衚面に䞻にアクリル酞゚
    ステル及び又はメタクリル酞゚ステルをグラフ
    トさせたグラフト局を有するこずを特城ずする磁
    気蚘録媒䜓。  支持䜓䞊に磁性局を圢成した埌、この磁性局
    䞊に酞玠、窒玠、リン、むオり、塩玠又は硌玠の
    うち少なくずも皮類の元玠ず、炭玠ず、氎玠ず
    から䞻ずしおなる化合物の皮又は皮以䞊をグ
    ロヌ攟電䞋で重合させおプラズマ重合局を圢成
    し、この圢成された埌のラゞカルが残存するプラ
    ズマ重合局に䞻にアクリル酞゚ステル及び又は
    メタクリル酞゚ステルからなる蒞気を接觊させお
    気盞凊理するこずによりグラフト局を圢成するこ
    ずを特城ずする磁気蚘録媒䜓の補造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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