JPS6035331A - 磁気記録媒体及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体及びその製造方法に係り、特に
磁性層上にオーハコ−１〜層を有する薄膜形磁気記録媒
体において、オーバコートｍをプラズマ重合層とその上
に形成された有機物処理層により構成し、スペーシング
ロスを少なくしかつ走行性、耐摩耗性及び耐蝕性を改良
した磁気記録媒体及びその製造方法に関する。

従来技術 従来の磁気記録媒体の多くは、いわゆる生布形磁気記録
媒体に属している。これは強磁性粉末を塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、エボギシ樹脂、ポリウレタン樹脂等
の樹脂からなる結合剤に混線分散させた磁性塗料を支持
体上に塗布乾燥さ・已て磁気記録媒体を形成したもので
ある。しかしながら、この塗布形磁気記録媒体は、酸化
鉄のような金属酸化物を磁性材料に使用しているため強
磁性金属より飽和磁化が小さいことと、磁性ｖＪ料の充
填密度が結合剤の分だけ小さいことのため高密度記録が
できにくいのみならず、塗布膜の膜厚が大きくなるため
例えばビディオ機器に使用された場合磁気ヘッドに走査
される部分は塗布膜の表層部に限られるので塗布膜の走
査されないでロスになる部分すなわちスペーシングロス
が大きくなり、その結果再生出力も小さくならざるを得
ないという欠点がある。

近年、記録すべき情報量の増大に伴い高密度記録が可能
な磁気記録媒体の出現がのぞまれるようになってきた。

このようなものとしては磁性月料の充填密度を高めるこ
とが出来るとともに飽和磁化を大きくできるものが好ま
しいが、このようなものとして強磁性金属層を支持体上
に直接膜りたいわゆる薄膜形磁気記録媒体が真空蒸着法
、スパッタリング、イオンブレーティング、メッキ等の
方法により作成可能になってきた。

しかし、このようなＮ膜形磁気記録媒体の強磁性層は空
気中にさらされるとその金属が酸素や水分により酸化さ
れるので耐蝕性に乏しく、また、機械的強度が弱く摩擦
係数も大きいため磁気ヘッド、ガイドローラ、ライナ等
との摩擦により傷がつき易い。このように酸化腐食され
ることにより生成される例えば酸化鉄は飽和磁化が小さ
くなりそれだけ記録媒体としての記録密度を減少させる
のみならず、この腐食された部分や傷が生じた部分がノ
イズの原因になることもある。このように強磁性層の摩
擦係数が大きいことはまた、上記磁気ヘッド等に接触す
るときの走行性が良くないことにもなり、これは一定速
度で記録又は再生することを妨げ、記録又は再生の質を
低下させる原因になっている。

このような薄膜形磁気記録媒体の欠点を改善するために
、これまで強磁性層上にオーバコート層を塗布、真空蒸
着、スパッタリング、イオンブレーティング等の方法に
より設ける試みがなされてきた。このようなものとして
は次のようなものが挙げられる。

■真空蒸着法により、ロジウム、クロムのような金属や
Ｉｎｃ、　Ｔｉ０２　、ＣａＦ　２　、ＭｇＦ　２のよ
うな高硬度無機物、金属石鹸のような潤滑性有機物によ
るオーバコート層を設ける。

■潤滑性有機物を塗布する塗布法により潤滑性有機物含
有層のオーバコート層を設ける。

■プレポリマー液を塗布した後、塗布膜に紫外線を照射
して重合反応を起こさせて重合体のオーバコート層を設
ける。

■特開昭５７−１６７１３２号公報、同５７−１６７１
３３号公報、同５７−１６７１３４号公報に記載されて
いるように、強磁性層上に窒素ガス又は酸素ガスのイオ
ン又はこれらのガスをプラズマ処理することにより窒化
膜、酸化膜を形成する。

■特開昭５７−１３５４４２号公報に記載されているよ
うに強磁性層上に、非弗素含有モノマーガスと含弗素有
機物上ツマーガスをプラズマ重合させてこの重合体のオ
ーバコート層を設ける。

■昭和５８年電子通信学会総会全国大会Ｎ０．１７５（
１９８３）に報告されているように、有機珪素系プラズ
マ重合膜のオーバーコート層を設ける。

■特開昭５７−１６４４３４号公報に記載されているよ
うに磁性金属蒸着薄膜の表面をグロー処理した後、高分
子と潤滑剤を蒸着してオーバコート層を設りる。

Ｌ力１しながら、上記■、■で得られた蒸着膜及び塗布
膜は、膜強度が小さく、特に高分子塗布膜の場合は薄膜
にするのが困難でスペーシングロスを生じ出力低下を招
く。また、■の方法で得られた塗布硬化層は、すべり性
があまりないので長期にわたり潤滑特性を維持すること
が困難である。また、■の方法で得られた窒化、酸化膜
は走行性の点て安定性を欠く。また、■の方法で得られ
た弗素含有有機物からなるプラズマ重合体のオーバコー
ト層は、走行性、耐摩擦性の点で満足な特性が得られな
い。また、■の有機珪素系プラズマ重合体のオーバコー
ト層ば重合体膜が緻密であるのでビンポールが生じるこ
とが少なく空気中の酸素や水分による浸食をうけること
がなく磁性層の耐蝕性としては良好な特性を示すが、十
分な耐摩耗性、走行性をｆ４Ｐるには比較的厚い膜を必
要とし、これはスペーシングロスを大きくする欠点があ
る。さらに■の高分子と潤滑剤によるオーバコート層は
耐摩耗性において満足な特性が得られない。

以上のように、薄膜形磁性記録媒体用のオーバコート層
としては従来、スペーシングロスを少なくしてかつ走行
性、耐摩耗性及び磁性層の耐蝕性を向上させる保護機能
を有するものがなく、その改善が望まれていた。

発明の目的 本発明の目的は、特に薄膜形磁気記録媒体の走行性、耐
摩耗性及び耐蝕性の改良にあり、特に支持体上に設けた
強磁性層上面のオーバコート層の走行性、耐摩耗性及び
磁性層の耐蝕性を向上させるその保護機能の改良を直接
の「１的とするものである。

発明の構成 本発明は、上記目的を達成するために磁性層に、プラズ
マ重合層に有機物処理層を形成したオーバコート層を設
け、これによりプラズマ重合層の持つ特長、すなわち薄
膜の形成が可能でかつこの薄膜状態で均一性、高耐久性
を持つとともに緻密性に基づく耐蝕性を有する特性と、
有機物処理層が持つ潤滑性の特性を利用しこれらが単独
では得られないような両者を組み合わせたことにより両
者の特性を相乗的に発揮出来るようにした磁気記録媒体
及びその製造方法を提供するものである。

そのために、本発明の磁気記録媒体は、支持体上に磁性
層とこの磁性層を覆うオーバコート層を有する磁気記録
媒体において、」二記オーバコート層は酸素、窒素、り
ン、イオウ、塩素又は硼素のうち少なくとも１種類の元
素と、炭素と、水素とから主としてなるプラズマ重合層
と、このプラズマ重合層表面に有機化合物をグラフト及
び／又は物理吸着させた有機物処理層を有−」−るごと
を特徴とするものである。

また、本発明の磁気記録媒体のｉｌＪ造法は、支持体上
に磁性層を形成した後、この磁性層上に酸素、窒素、リ
ン、イオウ、塩素又は＠素のうち少なくとも１種類の元
素と、炭素と、水素とから主としてなる化合物の１種又
は２種以上をグロー放電下で重合させてプラズマ重合層
を形成し、この形成されたプラズマ重合層に主として有
機化合物からなる蒸気を接触させて気相処理することに
より有機物処理層を形成することを特徴とするものであ
る。

上記においてプラズマ重合層とは、気体化合物をいわゆ
るプラズマ重合によって成膜した層であって、その重合
体は気体化合物をプラズマ処理して生じた例えばラジカ
ルを重合したものである。

このようなプラズマ重合体は、一般の不飽和化合物のラ
ジカル重合体のようにモノマーの繰り返し構造ではなく
、一般の重合体による層と比べて高密度、高架橋の眉が
形成されるとともに、繰り返し構造が欠如した均一構造
の層が形成される。このプラズマ重合層の重合体の構造
は一般の重合体のようにその使用する気体化合物の繰り
返し構造により捉えることができないので、その元素構
成により表わされる。この元素構成からずれは、本発明
のプラズマ重合層の重合体は、酸素、窒素、リン、イオ
ウ、塩素又は硼素のうち少なくとも１種と、炭素と、水
素とから主としなる重含体プ゛あこのようなプラズマ重
合層を形成するには、一般にプラズマ重合法として知ら
れているどのような方法も通用できる。例えば誘電式電
極により外部からグロー放電させる方式の装置、容量式
電極により主に電極間にグロー放電させる方式の装置そ
の他三極式等特殊な方式の装置が使用出来る。

゛　また、使用される原料も特に限定されないが、酸素
、窒素、リン、イオウ、塩素又は硼素のうぢ少なくとも
１種と、炭素と、水素とからなる化合物の１種又は２種
以上と、必要に応じて少量の他の化合物すなわちアルゴ
ン、ネオン、酸素等の非プラズマ重合性のガスを混合し
て重合容器に導入し、ここでグロー放電させることによ
って支持体上に股を析出させる方法が好ましい。

酸素、窒素、リン、イオウ、塩素又は硼素のうち少なく
とも１種と、炭素と、水素とからなる化合物としては、
例えばアクリル酸メチル、アクリル酸メチル、メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸ヘンシル等の（メタ）アクリ
ル酸エステル類、工チレン、ブタジェン、ペンテン、ア
セチレン等の不飽和脂肪族類、ベンゼン、トルエン、ス
チレン等の芳香族化合物類、ピリジン、フラン、チオフ
ェン等の複素環式化合物類、トリメチルボスファイト、
Ｉ・リンチルボレート等のエステル類、塩化ビニル、塩
化ビニリデン、り「プルベンゼン等の含塩素化合物類、
トルイレン２，４−ジイソシアネー１−等イソシアネー
ト類等が挙げられる。また、士、記の少量の他の化合物
としては、水素、酸素、窒素、アルゴン、−酸化炭素、
二酸化炭素、塩素、硫化水素、ジボラン、ホスゲン等の
化合物が挙げられる。

これらのプラズマ重合に用いる化合物としてはガスとし
て扱う操作上の点から常温で沸点が２００℃以下の化合
物が好ましく、１５０”ｃ以下であるとより好ましい。

このようなプラズマ重合用原料が上記プラズマ発生装置
で処理されると例えばラジカルが発生し、これが予め用
意された後述する支持体に析出し重合体の層が形成され
る。

本発明における有機物処理層は、有機物蒸気をプラズマ
重合層に接触させるいわゆる気相処理を行うことにより
形成される層である。この有機物処理層は、プラズマ重
合層に対してグラフトあるいは物理吸着されることによ
り形成されることが好ましく、プラズマ重合層の形成直
後に形成されることが特に好ましい。このようにプラズ
マ重合層の形成直後に有機物処理層を形成すると、この
有機物層のプラズマ重合層に対する密着性が良く、良好
な成膜性を示す。これは、プラズマ重合層の形成直後は
プラズマ重合層にラジカルが残存しておりこれに原料の
有機物ガスがイ］加してグラフトするからである。この
残存ラジカルが消失しないうちは同様の有機物のグラフ
ト化が可能であるが、プラズマ重合層に有機物ガスを単
に物理吸着することによっても有機物処理層を形成でき
る。このように有機物をグラフト又は吸着されたプラズ
マ重合層には表面に緒特性、特に潤滑性が付与されるこ
とになる。

このような有機物処理層を形成させる気相処理を行うに
は、原料の有機物蒸気を作成し、これを単にプラズマ重
合層に接触させてグラフト化あるいは物理吸着させるこ
とが好ましいが、この際外部エネルギーを供給しても良
く、このような外部エネルギーを供給する手段としては
グロー放電、加熱、紫外線照射等の手段がある。これら
の外部エネルギー供給手段は？１１助的に使用するのが
好ましい。なお、上記有機物蒸気を作成するには、単な
る減圧の他、通常のヒータによる加熱、電子ビーム加熱
等が利用される。

有機物処理層を形成する原料の有機化合物としては上記
のような潤滑性を付与できるどのような有機物も使用で
きるが、プラズマ重合層にグラフト又は吸着され易さと
云う点からは主要成分として珪素を含んでいないことが
好ましい。このような有機物としては、（メタ）アクリ
ル酸エステル、アルキルカルボン酸エステル、アルキル
カルボン酸、アルキルスルホン酸、核置換スチレン、ア
ルカン、アルケン、リン酸エステル、アルキルアミン、
アルキルアミド、アルキルチオール等が好ましい。

上記のようなプラズマ重合層及び杓機物処理層からなる
オーバコート層の厚さは、全体で２０人〜１０００人が
好ましく、特に１００人〜５００人の範囲が好ましい。

２０人未満では薄過ぎて上記潤滑性を付与するには不十
分であり、一方１０００人を越えると磁性層と磁気ヘッ
ドとのスペーシングロスが大きくなる。オーハコ−１一
層の上記厚さの範囲であれば、プラズマ重合層（Ａ）と
有機物処理層（Ｂ）の層の厚さの比は特に限定されるも
のではないが、（Ａ）：　（Ｂ）＝１　：　Ｉないしく
Δ）：　（Ｂ）＝１、：０．１の範囲が特に好ましい。

ごのようにしてプラズマ重合層に有機物処理層を有する
オーバコート層が形成されるが、有機物処理層はプラズ
マ重合層との界面ではプラズマ重合体に有機物が混在し
表面に近づくにつれて純粋の有機物層になるような場合
も含み、有機物により処理されたことにより生じた層を
総括しノこものである。

以上のようなオーバコート層は支持体に形成された強磁
性層Ｇこ設けられるが、この強磁性層が塗布型の場合に
は、この強磁性層に使用できる強磁性粉は、従来より使
用されている公知のもので良く、このような強磁性磁性
粉としてはγ−Ｆｅ２０３Ｃｏ含有ｒ−Ｆｅ２０Ｂ、Ｃ
ｏ被着ｒ−ｒ’ｅ２０３、　）ｆｉ２０　Ｂ　、Ｇｏ含
有Ｆｅ２Ｏ３、ＣｒＯ２等の酸化物磁性粉：　ＦｅＸＮ
ｉ、　ＣｏＸＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ
合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｐｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ
合金、ｒｅ−Ｇｏ−Ｎｉ−Ｐ合金、Ｇｏ−Ｎｉ合金等Ｆ
ｅ、、Ｎｉ、、ｃｏを主成分とするメタル磁性粉等各種
の強磁性粉が挙げられる。

強磁性層を直接支持体上に形成する場合にはその方法と
して、公知の真空２４法、スパッタリング法、イオンプ
レーテング法、メッキ法等が挙げられる。酸化物磁性粉
やメタル磁性粉の中でも合金の強磁性粉を使用する場合
は、その組成が変化しないように組成を制御して蒸着又
はメッキ等をしなければならない。

支持体としては例えばプラスチックフィルムが挙げられ
、その素材としてはポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル類、
ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリ
アセテート、セルロースダイアセテート等のセルロース
誘導体、ポリカーボネートなどが例示される。また、Ｃ
ｕ、Ａβ、ｚｎなどの非磁性全屈、ガラス、磁器、陶器
等のセラミック等の支持体も使用される。

支持体の形態はテープ、シート、カード、ディスク、ド
ラム等のいずれでも良く、形態に応じて種々の材料が必
要に応じて選択される。これらの厚さはフィルム、シー
ト状の場合は約３〜１００　μｍであり、ディスク、カ
ード状の場合は３０μｍ〜１０龍程度である。

以上のようにして支持体に設けらた磁性層にプラズマ重
合層と有機物処理層とからなるオーバーコート層を有す
る磁気記録媒体が作成されるが、プラズマ重合層は架橋
度が高く、その構造も均一であるので機械的強度が大き
く、これにより薄膜状態でも耐摩耗性等の耐久性を有す
るとともに、その緻密性からピンボール等の欠陥を生じ
ることが少なく空気中の酸素、水分等による磁気層への
侵入を阻止してその酸化を防止し磁気特性を損なわない
ようにできる。また有機物処理層は耐摩耗性や酸素、水
分の阻止効果も有する他に特に潤滑性に優れているので
この磁気記録媒体の例えば磁気ヘッドに対する走行性も
良くなる。特に有機物がグラフト化され化学結合されて
いるとこの有機物層の耐摩耗性も向上しプラズマ重合層
の耐摩耗性との相乗効果により磁気記録媒体の耐摩耗性
もより一層向上する。このようにして磁気記録媒体に必
要な緒特性を備えた薄膜のオーバコート層の形成が可能
になる。

なお、本発明の磁気記録媒体の製造法により、上記のよ
うにプラズマ重合層を形成するとき、重合条件を適当に
調整することによりプラズマ重合層に内部応力を発生さ
せ、これにより強磁性層に支持体側に向かう反りを与え
ることができるため支持体上に強磁性層を作成する際に
生じる強磁性層表面側に向かって生じる反り（カッピン
グ）を相殺することができる。このカッピングを相殺す
るプラズマ重合層の重合条件としては、例えばアルゴン
等の混入ガス成分を少なくすることが好ましい。

発明の詳細 な説明したように、本発明によれば、プラズマ重合層に
有機物処理層を有するオーハコ−１一層を強磁性層に設
＆Ｊたので、次のような効果が生じる。

（１１オ一バコート層は耐摩耗性に優れ、長時間例えば
磁気ヘッドにこすられてもその摩耗が少なく、したがっ
て強磁性層に対する摩耗をなくすことができるので再生
出力の変動を少なく出来る。

（２）有機物処理層は特に優れた／Ｉ！１１沿性を有す
るので例えば磁気ヘッドにこすられて走行するときも走
行性が良く、走行不良に基づく記録媒体に対する画像あ
るいは録音の乱れを少なくできる。

（３）オーバコーＨ５特にプラズマ重合層は空気中の酸
素や水分の強磁性層に対する侵入を防止できるので強磁
性層に対する耐蝕性を向上でき、長時間高温、多湿の条
件のもとに本発明の磁気記録媒体が放置されても再生出
力の劣化がなく、高い保在住が得られる。

（４）オーバコート層は薄膜にできるので、磁気ヘッド
と強磁性層との間のスペーシングロスを少なくでき、出
力の低下がないようにできる。

実施例 次に本発明の実施例を第１図及び第２図に示す装置を参
照して具体的に説明する。

第１図は、本発明の磁気記録媒体を製造するとき使用す
る装置の説明図であって、ベース送出室１、プラズマ重
合室２、気相処理室３及びベース巻取室４が順次連通し
て設けられ、さらにベース送出室１　、ベース送出室１
とプラズマ重合室２０間の連通路、気相処理室３、及び
ベース巻取室４にはガス導入路６，７，８．９がそれぞ
れ設置Ｊられ、プラズマ重合室２と気相処理室３の間の
連通路にはガス排出路１０が設けられている。また、プ
ラズマ重合室２には放電電極ＩＩ、　１１”及びプラス
・マ閉じ込め用の磁石１２．１２’　がそれぞれ対設さ
れている。

この装置において、強磁性層形成済みのへ−ス（支持体
）を、ベース送出室１に収容したベースロール１３から
上記プラズマ重合室２、気相処理室３を経由してベース
巻取室４に順次巻き取られるようにセットする。この後
上記ベースロール２からベースが送出されて巻き取られ
るまでの系内の脱気を行い、ついでベース送出室１のガ
ス導入路６及び巻取室４のガス導入路９から不４性ガス
（アルゴン）を系内に少量流す。この状態でベースの搬
送を開始し、ガス導入路７からプラズマ重合用ガス、ま
た、気相処理室３のガス導入路８から気相処理用ガスを
それぞれ供給する。この状態でプラズマ重合室３に設け
られた放電電極ＩＬ　１１’に１３．５６Ｍｌ１ｚの高
周波を供給する。これによりプラズマ重合用ガスはプラ
ズマ処理され、これがベースに析出して重合膜が形成さ
れる。この際磁石１２゜１２゛　ばプラズマ処理されノ
こガスを電極ＩＬ　１１゛間に閉じ込めプラズマ重合室
２以外で装置壁面にプラズマ重合膜が生成するのを防止
する。なお、し１示装置は予め縦向きに配置され、ベー
スを地面に対して垂直に１般送し、プラズマ重合室２内
の気相中で生成される樹脂粉体がベース上に堆積されな
いように下方に落下される。これによりベースに形成さ
れるプラズマ重合層の均一性が保たれるヱとに一゛る。

第２図は、本発明の磁気記録媒体を製造する製造装置の
他の例を示す平面説明図であって、第１図とは気相処理
時間を長くした点、ベースを不活性ガスプラズマ処理す
ることにより清浄化する点で異なり、さらにプラズマ重
合室、気相処理室におけるガスの流れをベースの幅方向
に対して均一になるようにしたものである。

図において、それぞれ円筒状のベース送出室２１゜プラ
ズマ重合室２２．気相処理室２３及び巻取室２４が順次
環状に連通連設され、ベース送出室２１に収容されたベ
ースロール１３のベースがプラズマ重合室２２に設けら
れた放電電極兼搬送ロール２５、気相処理室２３に設け
られた後述する搬送用つる巻形ロール２６に順次ガイド
されて巻取室２４で巻き取られ巻取りロール２７となる
。この状態でベースの搬送を開始するとともに、不活性
ガス導入部２８から不活性ガスを導入しこれを放電コイ
ル２９によりプラスマ化し、ベースをこれにさらす。こ
れによりベース上の強磁性層表面が清浄化される。この
ベースはついでプラズマ重合室２２で、ガス導入部３０
から導入されガス導入口兼放電電極３１と上記放電電極
兼搬送ロール２５との間でプラズマ処理されたプラズマ
重合用ガスに曝され、ここでプラズマ重合層を形成され
てつぎの気相処理室２３に送出される。

この気相処理室２３は第３図の縦断面図に示すように縦
長に形成され、これに上記搬送用つる巻ロール２６が収
容されこれにベースが上方導入部２３ａから搬入されて
垂直方向につる巻状に巻回され、その端部が下方導出部
２３ｂから導出される。この間気相処理室２３の上記導
入部と反対側に設けたガス導入部３２から気相処理用ガ
スを導入しガス導入１」３３によりこのガスをベースの
１１′畠方向に均一に拡散させてこのベースのプラズマ
重合層に接触させる。

これによりプラズマ重合層は気相処理用ガスと長く接触
できるので、厚い処理層を形成できる。このようにして
有機物処理層を形成されたベースは巻取室２４で巻き取
られる。なお、上記ガス導入口兼放電電極３１も上記気
相処理室のガス導入口と同様にガスをベースの幅方向に
均一に拡散出来るものである。なお、３４．３５．３６
．３７はガス排出路である。

実施例１ 公知の方法で作成したＣｏ−Ｎｉ蒸着テープを第２図の
装置にセットし、系内を真空排気する。この後、ベース
のｆｉｌｌ送を開始してアルゴンガスを不活性ガス導入
部２８から適当量導入し、このアルゴンガスを１３．５
６Ｍ１ｌｚ、　５Ｈの高周波電力を供給された放電コイ
ル２９により処理してアルゴンプラズマを発生させ、そ
のスパッタ効果によりテープ表面を清浄にする。再び系
内を真空排気した後にエチレンガスをプラズマ重合室２
２内にその室内圧が０．０５ｔｏｒｒになるように導入
し、ついで１３．５６Ｍｌ１ｚ、　２５０Ｗの高周波電
力を放電電極兼搬送ロール２５及び導入口兼放電電極３
１に供給することにより、ベースの磁性層上にプラズマ
重合層を形成する。

ついで、このようなプラズマ処理を施したテープをアク
リル酸メチルで満たした気相処理室２３に送り、プラズ
マ重合層の表面処理を行って有機物処理層を形成する。

そしてこのテープを巻取室２４に送出しここで巻き取る
。

このようにして作成した磁気記録テープブのオーバコー
ト層の厚さ、走行性、耐蝕性及びスチル耐久性を測定し
その結果を第１表に示す。ここで、オーハコ−１一層の
厚さはＲａｎｋ　Ｔａ１ｏｒ　１ｌｏｂｓｏｎ　Ｌｉｍ
１−ｔｅｄのクリステツブを用い通常の方法に従って測
定した。また、走行性は動マザツ係数を測定してしらべ
、この動マザツ係数は新東化学株式会社の回転ドラム形
表面性測定機を用い、荷重３０ｇ、回転数６６．９ｒｐ
ｍで測定した。また、耐蝕性は磁性層の最大磁場Ｈｍａ
ｘ　（２００００ｅ　）における磁化σｍａχの劣化を
測定してしらべた。この測定には振動試料型磁気測定装
置を用いた。この磁化の劣化は６０℃、湿度８０％に保
たれた容器内に試験片を１週間放置した後の磁化σＮχ
を測定し試験片の当初の磁化ｆｍａｘに対する減少％で
示ず。また、スチル耐久性は動作状態のＶＨ５型ビデオ
デツキにおいてテープの走行を止め、ビデオ出力が３ｄ
Ｂに減少するまでの時間で表わす。

比較例１ 実施例１と同様に磁性層表面を清浄にしたテープを実施
例１と同様に試験した結果を第１表に示す。

比較例２ 実施例１において清浄化処理した磁性層に実施例１と同
様にプラズマ重合層を形成したものを実施例１と同様に
試験した結果を第１表に示す。

比較例３ 比較例２においてプラズマ重合層を形成したのちラウリ
ル酸の０．１　％トルエンン装置をこのプラズマ重合層
に塗布したものを実施例１と同様に試験しその結果を第
１表に示す。

比較例４ 実施例１と同様にして磁性層表面を清浄にしたテープを
直接アクリル酸メチルの蒸気で満たした気相処理室２３
に送り、実施例１と同様にして気相処理をしたものにつ
いて実施例１と同様の試験を行いその結果を第１表に示
す。

これらの結果から、実施例１のものは、比較例１〜３の
ものと比較し、走行性、スチル耐久性において、また、
比較例４のものに比べ耐蝕性、スチル耐久性において大
幅の向上が見られた。これによりプラズマ重合層と有機
物層の組合せの相乗効果が認められる。

第１表 実施例２ 実施例１と同様にしてエチレンをモノマーとするプラズ
マ重合層を磁性層上に形成したテープをアクリル酸ブチ
ルの蒸気で満たした気相処理室２３に送り、有機物処理
層を形成した。この試験片について実施例１と同様に試
験した結果を第２表に示す。なお、プラズマ重合層の厚
さを実施例１と同様に測定したところ２６０人であった
。

実施例３〜６ 実施例２においてアクリル酸ブチルの代わりにスチレン
、アセチレン、トリメチルフォスファイト、塩化ビニル
を使用してそれぞれ有機物処理層を形成した以外は同様
に操作して作成したそれぞれ実施例３〜６に対応する試
験片について実施例１と同様に試験した結果を第２表に
示す。

〔以下このＷ余白〕

第２表 この結果、本実施例２〜６はいずれの特性もよい結果を
示している。

実施例７〜１２ 実施例１と同様に第２図の装置を用いてテープ表面をア
ルゴンプラズマ処理を行ったのち、アクリル酸メチルと
酸素の３　＝１の混合ガスをプラズマ重合室２２に圧が
０．１　ｔｏｒｒになるように導入し、ついで１３．５
６皿Ｚ　、　２００１Ｖの高周波電力を導入口兼放電電
極３１及び放電電極兼搬送用ロール２５に供給すること
により、磁性層上にプラズマ重合層を形成した。

ついで、このプラズマ重合層を形成したテープを実施例
１ないし実施例６で挙げた有機物蒸気を高たした気相処
理室２３に送り、プラズマ重合層の上に有機物処理層を
形成した。これらをそれぞれの有機物に対応させて実施
例７〜１２とする。これらの試験片を実施例１と同様に
試験した結果を第３表に示す。

比較例５ 実施例７においてプラズマ重合層のみを形成したものに
ついて実施例１と同様の試験を行なった結果を第３表に
示す。

（以下この頁余白） 第３表 実施例１３〜１８ 実施例１と同様に第２図の装置によりテープ表面をアル
ゴンプラズマ処理う行なった後、トリメデルボレートと
窒素の２　＝１の混合ガスをプラズマ重合室２２に圧が
０．２０ｔｏｒｒになるように導入し、ついで１３．５
６　Ｍｌｌｚ　、２５０Ｈの高周波電力を導入口兼放電
電極３１及び放電電極兼ｌｉ！）送用ロール２５に供給
し、磁性層上にプラズマ重合層を形成する。　ついで実
施例７〜１２と同様に有機物処理層を形成しそれぞれの
有機物に対応さセて実施例７〜１２としこれらの試験片
について実施例１と同様の試験を行ないその結果を第４
表に示す。

比較例６ 実施例１３におい゛ζプラズマ重合層を形成しまたもの
について実施例１と同様の試験を行ないその結果を第４
表に示す。

（以下このα余白） 第４表 実施例１９〜２４ 実施例１と同様に第２図の装置によりテープ表面をアル
ゴンプラズマ処理う行なった後、チオフェンと水素の５
　：１の混合ガスをプラズマ重合層２２に送り圧が０．
０５ｔｏｒｒになるように導入し、ついで１３．５６　
Ｍｌｌｚ　、２５０１すの高周波電力を導入口兼放電電
極３１及び放電電極兼搬送用ロール２５に供給し、磁性
層上にプラズマ重合層を形成する。

ついで実施例７〜１２と同様に有機物処理ＪＷを形成し
それぞれの有機物に対応して実施例１９〜２４とし、こ
れらの試験片について実施例１、と同様の試験を行ない
その結果を第５表に示す。

比較例７ 実施例１９においてプラズマ重合層を形成したものにつ
いて実施例１と同様の試験を行ないその結果を第５表に
示す。

（以下この頁余白） 第５表 実施例２５〜３０ 実施例１と同様に第２図の装置によりテープ表面をアル
ゴンプラズマ処理う行なった後、１−ルイレン２．４−
ジイソシアネ−１・のガスをプラズマ重合室２２に圧が
０，０５ｔｏｒｒになるように導入し、ついで１３．５
６　Ｍｌｌｚ　、２００Ｗの高周波電力を導入口兼放電
電極３１及び放電電極蓋（般送用ロール２５に供給し、
磁性層」二にプラズマ重合層を形成する。

ついで実施例７〜１２と同様に有機物処理層を形成しそ
れぞれ有機物に対応して実施例２５〜３ｏとし、これら
の試験片について実施例１と同様の試験を行ないその結
果を第６表に示す。

比較例８ 実施例２５においてプラズマ重合層を形成したものにつ
いて実施例１と同様の試験を行ないその結果を第６表に
示す。

（以下この頁余白） 第６表 実Ｍε例３１ 実施例１と同様にしてエチレンのプラズマ重合層を磁性
層上に形成したテープを蒸着用のチャンバーに導き、５
　ＸＩＯｔｏｒｒの息空度でステアリルアルコールを抵
抗加熱法により蒸着し４０人の蒸着膜を形成した。膜厚
の制御ば水晶式膜厚モニタにより行なった。このように
して作成した試験片について実施例１と同様の試験を行
なった結果を第７表に示す。

比較例９ 実施例３１においてプラズマ重合層のみを形成した試験
片について、実施例１と同様の試験を行いその結果を第
７表に示す。

第７表 第５表より走行性、耐蝕性については実施例１と同程度
の改善が見られた。また、スチル耐久性についても実施
例１には劣るが蒸着膜による効果が見られた。

なお、上記各実施例は第２図の装置を用いた場合であっ
たが、第１図の装置を用いてもほぼ同様の結果が得られ
た。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の製造法を実施するとき
使用する装置の一例の縦断面説明図、第２図はその装置
の他の例の平面説明図、第３図は　□その気相処理室の
縦断面説明図である。 図中、２．２２はプラズマ重合室、３，２３は気相処理
室である。 昭和５８年０８月０４日 第１図 第２図 手続ネｆｆｉ正書（自発） 昭和５８年９月０９日 特許庁長官　若　杉　和　夫　殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１４１９３０号 ２、発明の名称 磁気記録媒体及びその製造法 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号 （１２７）小西六写真工業株式会社 代表者川本信彦 ４、代理人 ５、補正命令の日付　自発 ６、補正により増加する発明の数　なし７、補正の対象 「明細書の発明の詳細な説明の欄」 ８、補正の内容 ｒＦｅ２Ｏ３、Ｃｏ含有Ｆｅ２Ｏ３ｊとあるを、ｒＦｅ
３Ｏ４、Ｃｏ含有ＦＣ１３０４ｊと訂正する。 ２、明細書第２５頁第１行に、 「ビデオ出力が３ｄＢに減少」とあるを、「ビデオ出力
が３ｄＢ減少」と訂正する。 ３、明細書第２８頁第２表中に、 「耐蝕性σ　」とあるを、 「耐蝕性σｍｉｘ　Ｊと訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１１支持体」二に磁性層とこの磁性層を覆うオーバコ
   ートＮを有する磁気記録媒体において、上記オーバコー
   ト層は酸素、窒素、リン、イオウ、塩素又は硼素のうち
   少なくとも１種類の元素と、炭素と、水素とから主とし
   てなるプラズマ重合層と、このプラズマ重合層表面に有
   機化合物をグラフト及び／又は物理吸着させた有機物処
   理層を有することを特徴とする磁気記録媒体。 （２）支持体上に磁性層を形成した後、この磁性層上に
   酸素、窒素、リン、イオウ、塩素又は硼素のうち少なく
   とも１種類の元素と、炭素と、水素とから主としてなる
   化合物の１種又は２種以上をグロー放電下で重合させて
   プラズマ重合層を形成し、この形成されたプラズマ重合
   層に主に有機化合物からなる蒸気を接触させて気相処理
   することにより有機物処理層を形成することを特徴とす
   る磁気記録媒体の製造方法。