JPH0359133B2 - - Google Patents
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- JPH0359133B2 JPH0359133B2 JP24095486A JP24095486A JPH0359133B2 JP H0359133 B2 JPH0359133 B2 JP H0359133B2 JP 24095486 A JP24095486 A JP 24095486A JP 24095486 A JP24095486 A JP 24095486A JP H0359133 B2 JPH0359133 B2 JP H0359133B2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
［産業上の利用分野］
本発明は蒸着用クロム基合金に係り、特にLSI
用のフオトマスク用や磁気記録デイスク、テープ
として用いられる磁性薄膜の保護膜又は下地材と
して用いられる純クロム薄膜の製造に好適な蒸着
用クロム基合金に関する。 ［従来の技術］ 超LSI製造用のフオトマスクは純クロムのター
ゲツト材を用いたスパツタリングや真空蒸着が行
なわれている。また、非磁性基板上に磁性合金薄
膜を形成した磁気記録材料は周知である。 この磁気記録材料の薄膜やその下地膜、保護膜
を製造する方法としては、スパツタリングや真空
蒸着、イオンプレーテイング等の蒸着法が広く用
いられている。 特にスパツタリング法は、均一な内部組成で一
定の合金元素を含んだターゲツト材が得られさえ
すれば、スパツタリング装置内の圧力をコントロ
ールしながら組成的に均一な薄膜を得ることがで
きる点で有利である。 従来、磁気記録材料の下地膜や保護膜材料とし
ては、純クロムあるいはその合金材が用いられて
おり、具体的には、 LSI製造用のフオトマスク用ターゲツト材 ハードデイスク材（Co−Ni、Ni−Coが主な
磁気記録材となる）の保護膜及び下地材等にお
いて、広く用いられている。 ［発明が解決しようとする問題点］ 従来より用いられているクロム基合金について
種々検討を重ねたところ、酸素、窒素、硫黄、炭
素、その他金属酸化物等の介在物が比較的多量に
含まれており、得られる薄膜の耐食性や均質性、
平滑性が悪く、製造する磁気記録材の磁気特性に
多大な悪影響をもたらすことが認められた。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は上記従来の実情に鑑み、不純物含有量
の少ない高特性腹膜を安定かつ効率的に得ること
ができる蒸着用クロム基合金を提供するべくなさ
れたものであつて、 Al1重量％以下、Ca200ppm以下、O400ppm以
下、N200ppm以下を含有し、残部が実質的にCa
であることを特徴とする蒸着用クロム基合金、 及び Al1重量％以下、Ti1重量％以下、Ca200ppm
以下、O400ppm以下、N200ppm以下を含有し、
残部が実質的にCrであることを特徴とする蒸着
用クロム基合金、を要旨とするものである。 即ち、本発明者は、蒸着用合金の不純物に起因
する問題を解決し、高特性薄膜を得るべく、鋭意
検討を重ねた結果、蒸着用クロム基合金中に、特
定量のCaとAl場合により更にTiとを含有させる
ことにより、不純物含有量の少ない合金が得ら
れ、しかもCaとAl、Tiとによるゲツタ作用によ
り、蒸着雰囲気中のガス成分をも低減し、極めて
高純度で高特性の薄膜を得ることができることを
見出し、本発明を完成させた。 以下、本発明につき詳細に説明する。 なお、本明細書において、「％」は「重量％」
を表わすものである。 本発明の蒸着用クロム基合金は、真空蒸着ある
いはスパツタリング、イオンプレーテイング等の
蒸着用材料として用いられ、磁性薄膜の下地や保
護膜の製造等に利用されるものであつて、その組
成は、下記の通りである。 Cr：残部 Al：１％以下 Ti：含有せず（第１の発明）又は１％以下（第
２の発明） Al：200ppm以下 Ｏ：400ppm以下 Ｎ：200ppm以下 以下に本発明の合金組成の限定理由について説
明する。 Al、Tiは、合金の溶製を行なう際に、Caと共
に合金の清浄化に作用し、また蒸着雰囲気中にて
ガス成分を捕捉するゲツタ作用を有する。ただ
し、Al、Tiはその量があまりに多過ぎ、合金特
性に影響を及ぼす量であつては好ましくなく、こ
のため本発明においては、Al1％以下、あるいは
Al1％以下及びTi1％以下とする。当然のことな
がら、Al、Tiは、その量があまりに少な過ぎる
と上記清浄化作用及びゲツタ作用による十分な効
果が得られない。本発明においては、Alは0.01〜
1.0％、あるいは、Al0.01〜1.0％及びTi0.01〜1.0
％、より好ましくはAlあるいはAlとTiの合量で
0.02〜0.2％含有させるのが望ましい。なお、Al、
Tiは、固溶Al、固溶Tiとの形態で合金中に存在
することにより、本発明の効果を奏するものであ
るので、Al、Tiの存在形態は固溶状態であるこ
とが重要である。 Caは前述の如くAl、Tiと共に合金の清浄化に
作用し、またゲツタ作用を奏する。Caは、その
含有量があまりに多過ぎると合金特性に影響を及
ぼし、また、金属間化合物等の析出により合金を
脆くすることがある。このため、本発明において
はCa含有量は200ppm以下とする。一方、Ca含有
量は少な過ぎてもCaによる十分な清浄化作用及
びゲツタ作用が現れない。このようなことから、
Ca含有量は５〜200ppm、特に10〜30ppmの範囲
とするのが好ましい。なお、CaはCaOないし
CaO−Al2O3の形態では本発明の効果は奏し得な
いことから、合金中のCaの存在形態はCaである
ことが重要である。 合金中のＯ、Ｎの量が多いと、蒸着に使用した
際に、蒸着雰囲気の真空度を悪化させたり、また
良好な蒸着が行なえず、高特性の磁性薄膜が得ら
れない。このため、合金中のＯ含有量は400ppm
以下、好ましくは300ppm以下、Ｎ含有量は
200ppm以下、好ましくは100ppm以下とする。 なお、本発明において、Si、Mn、Ｐ、Ｓ等の
不純物が合金中に不可避的に含有されるのは、特
に問題とはならないが、上述したことと同様の理
由から、本発明において、合金中の他の不純物は
できるだけ少なくするのが良く、例えば、Si含有
量0.1％以下、Mn含有量は0.05％以下、Ｐ含有量
は8ppm以下、Ｓ含有量は30ppm以下とするのが
好ましい。 このような本発明の蒸着用クロム合金は、例え
ば、以下に説明する方法に従つて製造することが
できる。 即ち、まず、合金化のためのCr、Al、場合に
よりTiの金属又は合金材料を、内面がCaO質耐
火材で構成された容器中で、真空又はアルゴン等
の不活性ガス雰囲気等の非酸化性雰囲気にて、常
法例えば高周波あるいは低周波誘導加熱法等で加
熱して溶解することにより、所望の組成の合金溶
湯を得る。 本発明において、用いられる容器の内面を構成
するCaO質耐火材としては、カルシア（CaO）な
らびにCaOを富化したドロマイト等が挙げられる
が、特に、電融カルシアが好適である。 このようなカルシア質炉材は、そのCaO含有率
が60％以上、特に80％以上のものが好ましい。 CaOは高融点であると共に、高温で極めて安定
であり、溶製にあたり、金属酸化物を生成して溶
湯を不純物による汚染することがなく、高清浄な
溶湯を得ることが可能とされる。 特に、CaO含有量の高いCaO質耐火材で内面が
構成された容器を用いた場合には、脱Ｏ、脱Ｓ、
脱介在物等の精錬作用も奏され、極めて有利であ
る。 しかも、溶湯中にAl、Tiが存在するため、溶
湯中の脱Ｏ、脱Ｓが行なわれ、これに伴つて脱Ｎ
も起こる。また、炉壁材のCaOとAlとの反応に
より溶湯中へのCaの溶出もおこる。即ち、Alは
溶湯中のＯ及び炉壁のCaOと溶湯中のＳと反応し
て CaO＋Ｓ→CaS＋Ｏ となつて生じたＯと反応して、 2Al＋3O→Al2O3 となり、Al2O3を生じる。また溶湯中のAlは炉壁
のCaOと反応して 2Al＋3CaO→Al2O3＋3Ca（ｇ） となり、これによつてもAl2O3が生じる。（この
場合、生じたCaは、ガスとなつて系外に抜ける
が、一部が合金中に残留して、本発明の合金の
Ca含有量を満足させる。） Al2O3は次式の如く炉壁のCaOと反応して、
3CaO・Al2O3又は12CaO・7Al2O3の活性な層が
炉壁表面に形成される。 Al2O3＋3CaO→3CaO・Al2O3 7Al2O3＋12CaO→12CaO・7Al2O3 この12CaO・7Al2O3及び3CaO・Al2O3、特に
3CaO・Al2O3は溶湯の脱Ｓ能が高く、脱Ｓが良
好に進行する。 このように、Alにより脱Ｏが、またAlの還元
作用により生じたCa及び坩堝型での活性な
3CaO・Al2O3、12CaO・7Al2O3やCaOにより脱
Ｓが行なわれる。 また溶湯中のＮは前述のAlとCaOとの反応に
より生じたCa等の蒸発（沸騰）等に伴つて溶湯
中から離脱し、溶湯中のＮ量も低減される。 Tiが加わつた場合、Alの作用を補完し、更に
Alと同様の作用により脱Ｏ、脱Ｓ、脱Ｎを行な
う。 従つて、内面がCaO質耐火材で構成された容器
中で溶製を行なうことにより、本発明の低Ｏ、低
Ｎ含有量のクロム基合金を容易に得ることができ
る。 ところで、本発明においては、内面がCaO質耐
火材で構成された容器中にて溶製する際に、Al
あるいはAl及びTiを冷却固化後のAl、Ti残留量
が本発明の範囲、即ち、Al1％以下あるいはAl1
％以下及びTi1％以下となるように添加するので
あるが、溶製に用いる容器の内面を、特に電融カ
ルシアよりなるものとすることにより、Alある
いはAl及びTiの添加により溶湯中へのCaの過剰
のコンタミを低減し、得られる合金中のCa含有
量を容易に本発明の範囲即ち200ppm以下とする
ことができる。 このようにして得られた合金溶湯を、常法に従
つて非酸化性雰囲気下で鋳造する。 この際、鋳造に用いる鋳型の材質としては、金
型やAl2O3、ZrO2又はCaO質耐火材等が挙げら
れ、これらのうち、とりわけCaO質耐火材が好適
である。 このような方法によれば、Al1％以下、場合に
よりTi1％以下、Ca200ppm以下、O400ppm以
下、N200ppm以下を含有し、残部が実質的にCr
である本発明の蒸着用クロム基合金を極めて容易
に製造することができる。 ［作用］ 本発明の蒸着用クロム基合金は、Ｏ、Ｎ含有量
が少ないため、高特性の薄膜を得ることができ
る。 また、本発明の蒸着用クロム基合金に含有され
るAl、Caは、真空蒸着又はスパツタリング等の
蒸着雰囲気中にて、 4al＋3O2→2Al2O3 2Al＋N2→2AlN 2Ca＋O2→2CaO 3Ca＋N2→Ca3N2 のように反応して、雰囲気中のガス成分を低下さ
せる、いわゆるゲツタ作用を奏する。 Tiについても同様にそれぞれAl、Caの作用を
下式のように補完して良好なゲツタ作用を奏す
る。 Ti＋O2→TiO2 Ti＋N2→TiN2 このため、蒸着時の薄膜形成安定性及び形成速
度を向上させると共に、得られる薄膜は高純度で
耐食性、均質性、平滑性が著しく良好で、諸特性
が大幅に改善され、高特性薄膜を高生産効率で製
造することを可能とする。 ［実施例］ 以下、実施例について説明する。 実施例 １ 第１表に示す組成のクロム基合金を蒸着用材料
として用い、下記仕様のスパツタリング装置に
て、直径10cmのガラス基盤上に薄膜を形成した。
なお、基盤加熱温度は80℃とした。 スパツタリング装置仕様 マグネトロンタイプ高周波スパツタリング装置 最大出力：1KW 到達真空度：10-7torr ターゲツト寸法：100mm（φ）×５mm（ｔ）
用のフオトマスク用や磁気記録デイスク、テープ
として用いられる磁性薄膜の保護膜又は下地材と
して用いられる純クロム薄膜の製造に好適な蒸着
用クロム基合金に関する。 ［従来の技術］ 超LSI製造用のフオトマスクは純クロムのター
ゲツト材を用いたスパツタリングや真空蒸着が行
なわれている。また、非磁性基板上に磁性合金薄
膜を形成した磁気記録材料は周知である。 この磁気記録材料の薄膜やその下地膜、保護膜
を製造する方法としては、スパツタリングや真空
蒸着、イオンプレーテイング等の蒸着法が広く用
いられている。 特にスパツタリング法は、均一な内部組成で一
定の合金元素を含んだターゲツト材が得られさえ
すれば、スパツタリング装置内の圧力をコントロ
ールしながら組成的に均一な薄膜を得ることがで
きる点で有利である。 従来、磁気記録材料の下地膜や保護膜材料とし
ては、純クロムあるいはその合金材が用いられて
おり、具体的には、 LSI製造用のフオトマスク用ターゲツト材 ハードデイスク材（Co−Ni、Ni−Coが主な
磁気記録材となる）の保護膜及び下地材等にお
いて、広く用いられている。 ［発明が解決しようとする問題点］ 従来より用いられているクロム基合金について
種々検討を重ねたところ、酸素、窒素、硫黄、炭
素、その他金属酸化物等の介在物が比較的多量に
含まれており、得られる薄膜の耐食性や均質性、
平滑性が悪く、製造する磁気記録材の磁気特性に
多大な悪影響をもたらすことが認められた。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は上記従来の実情に鑑み、不純物含有量
の少ない高特性腹膜を安定かつ効率的に得ること
ができる蒸着用クロム基合金を提供するべくなさ
れたものであつて、 Al1重量％以下、Ca200ppm以下、O400ppm以
下、N200ppm以下を含有し、残部が実質的にCa
であることを特徴とする蒸着用クロム基合金、 及び Al1重量％以下、Ti1重量％以下、Ca200ppm
以下、O400ppm以下、N200ppm以下を含有し、
残部が実質的にCrであることを特徴とする蒸着
用クロム基合金、を要旨とするものである。 即ち、本発明者は、蒸着用合金の不純物に起因
する問題を解決し、高特性薄膜を得るべく、鋭意
検討を重ねた結果、蒸着用クロム基合金中に、特
定量のCaとAl場合により更にTiとを含有させる
ことにより、不純物含有量の少ない合金が得ら
れ、しかもCaとAl、Tiとによるゲツタ作用によ
り、蒸着雰囲気中のガス成分をも低減し、極めて
高純度で高特性の薄膜を得ることができることを
見出し、本発明を完成させた。 以下、本発明につき詳細に説明する。 なお、本明細書において、「％」は「重量％」
を表わすものである。 本発明の蒸着用クロム基合金は、真空蒸着ある
いはスパツタリング、イオンプレーテイング等の
蒸着用材料として用いられ、磁性薄膜の下地や保
護膜の製造等に利用されるものであつて、その組
成は、下記の通りである。 Cr：残部 Al：１％以下 Ti：含有せず（第１の発明）又は１％以下（第
２の発明） Al：200ppm以下 Ｏ：400ppm以下 Ｎ：200ppm以下 以下に本発明の合金組成の限定理由について説
明する。 Al、Tiは、合金の溶製を行なう際に、Caと共
に合金の清浄化に作用し、また蒸着雰囲気中にて
ガス成分を捕捉するゲツタ作用を有する。ただ
し、Al、Tiはその量があまりに多過ぎ、合金特
性に影響を及ぼす量であつては好ましくなく、こ
のため本発明においては、Al1％以下、あるいは
Al1％以下及びTi1％以下とする。当然のことな
がら、Al、Tiは、その量があまりに少な過ぎる
と上記清浄化作用及びゲツタ作用による十分な効
果が得られない。本発明においては、Alは0.01〜
1.0％、あるいは、Al0.01〜1.0％及びTi0.01〜1.0
％、より好ましくはAlあるいはAlとTiの合量で
0.02〜0.2％含有させるのが望ましい。なお、Al、
Tiは、固溶Al、固溶Tiとの形態で合金中に存在
することにより、本発明の効果を奏するものであ
るので、Al、Tiの存在形態は固溶状態であるこ
とが重要である。 Caは前述の如くAl、Tiと共に合金の清浄化に
作用し、またゲツタ作用を奏する。Caは、その
含有量があまりに多過ぎると合金特性に影響を及
ぼし、また、金属間化合物等の析出により合金を
脆くすることがある。このため、本発明において
はCa含有量は200ppm以下とする。一方、Ca含有
量は少な過ぎてもCaによる十分な清浄化作用及
びゲツタ作用が現れない。このようなことから、
Ca含有量は５〜200ppm、特に10〜30ppmの範囲
とするのが好ましい。なお、CaはCaOないし
CaO−Al2O3の形態では本発明の効果は奏し得な
いことから、合金中のCaの存在形態はCaである
ことが重要である。 合金中のＯ、Ｎの量が多いと、蒸着に使用した
際に、蒸着雰囲気の真空度を悪化させたり、また
良好な蒸着が行なえず、高特性の磁性薄膜が得ら
れない。このため、合金中のＯ含有量は400ppm
以下、好ましくは300ppm以下、Ｎ含有量は
200ppm以下、好ましくは100ppm以下とする。 なお、本発明において、Si、Mn、Ｐ、Ｓ等の
不純物が合金中に不可避的に含有されるのは、特
に問題とはならないが、上述したことと同様の理
由から、本発明において、合金中の他の不純物は
できるだけ少なくするのが良く、例えば、Si含有
量0.1％以下、Mn含有量は0.05％以下、Ｐ含有量
は8ppm以下、Ｓ含有量は30ppm以下とするのが
好ましい。 このような本発明の蒸着用クロム合金は、例え
ば、以下に説明する方法に従つて製造することが
できる。 即ち、まず、合金化のためのCr、Al、場合に
よりTiの金属又は合金材料を、内面がCaO質耐
火材で構成された容器中で、真空又はアルゴン等
の不活性ガス雰囲気等の非酸化性雰囲気にて、常
法例えば高周波あるいは低周波誘導加熱法等で加
熱して溶解することにより、所望の組成の合金溶
湯を得る。 本発明において、用いられる容器の内面を構成
するCaO質耐火材としては、カルシア（CaO）な
らびにCaOを富化したドロマイト等が挙げられる
が、特に、電融カルシアが好適である。 このようなカルシア質炉材は、そのCaO含有率
が60％以上、特に80％以上のものが好ましい。 CaOは高融点であると共に、高温で極めて安定
であり、溶製にあたり、金属酸化物を生成して溶
湯を不純物による汚染することがなく、高清浄な
溶湯を得ることが可能とされる。 特に、CaO含有量の高いCaO質耐火材で内面が
構成された容器を用いた場合には、脱Ｏ、脱Ｓ、
脱介在物等の精錬作用も奏され、極めて有利であ
る。 しかも、溶湯中にAl、Tiが存在するため、溶
湯中の脱Ｏ、脱Ｓが行なわれ、これに伴つて脱Ｎ
も起こる。また、炉壁材のCaOとAlとの反応に
より溶湯中へのCaの溶出もおこる。即ち、Alは
溶湯中のＯ及び炉壁のCaOと溶湯中のＳと反応し
て CaO＋Ｓ→CaS＋Ｏ となつて生じたＯと反応して、 2Al＋3O→Al2O3 となり、Al2O3を生じる。また溶湯中のAlは炉壁
のCaOと反応して 2Al＋3CaO→Al2O3＋3Ca（ｇ） となり、これによつてもAl2O3が生じる。（この
場合、生じたCaは、ガスとなつて系外に抜ける
が、一部が合金中に残留して、本発明の合金の
Ca含有量を満足させる。） Al2O3は次式の如く炉壁のCaOと反応して、
3CaO・Al2O3又は12CaO・7Al2O3の活性な層が
炉壁表面に形成される。 Al2O3＋3CaO→3CaO・Al2O3 7Al2O3＋12CaO→12CaO・7Al2O3 この12CaO・7Al2O3及び3CaO・Al2O3、特に
3CaO・Al2O3は溶湯の脱Ｓ能が高く、脱Ｓが良
好に進行する。 このように、Alにより脱Ｏが、またAlの還元
作用により生じたCa及び坩堝型での活性な
3CaO・Al2O3、12CaO・7Al2O3やCaOにより脱
Ｓが行なわれる。 また溶湯中のＮは前述のAlとCaOとの反応に
より生じたCa等の蒸発（沸騰）等に伴つて溶湯
中から離脱し、溶湯中のＮ量も低減される。 Tiが加わつた場合、Alの作用を補完し、更に
Alと同様の作用により脱Ｏ、脱Ｓ、脱Ｎを行な
う。 従つて、内面がCaO質耐火材で構成された容器
中で溶製を行なうことにより、本発明の低Ｏ、低
Ｎ含有量のクロム基合金を容易に得ることができ
る。 ところで、本発明においては、内面がCaO質耐
火材で構成された容器中にて溶製する際に、Al
あるいはAl及びTiを冷却固化後のAl、Ti残留量
が本発明の範囲、即ち、Al1％以下あるいはAl1
％以下及びTi1％以下となるように添加するので
あるが、溶製に用いる容器の内面を、特に電融カ
ルシアよりなるものとすることにより、Alある
いはAl及びTiの添加により溶湯中へのCaの過剰
のコンタミを低減し、得られる合金中のCa含有
量を容易に本発明の範囲即ち200ppm以下とする
ことができる。 このようにして得られた合金溶湯を、常法に従
つて非酸化性雰囲気下で鋳造する。 この際、鋳造に用いる鋳型の材質としては、金
型やAl2O3、ZrO2又はCaO質耐火材等が挙げら
れ、これらのうち、とりわけCaO質耐火材が好適
である。 このような方法によれば、Al1％以下、場合に
よりTi1％以下、Ca200ppm以下、O400ppm以
下、N200ppm以下を含有し、残部が実質的にCr
である本発明の蒸着用クロム基合金を極めて容易
に製造することができる。 ［作用］ 本発明の蒸着用クロム基合金は、Ｏ、Ｎ含有量
が少ないため、高特性の薄膜を得ることができ
る。 また、本発明の蒸着用クロム基合金に含有され
るAl、Caは、真空蒸着又はスパツタリング等の
蒸着雰囲気中にて、 4al＋3O2→2Al2O3 2Al＋N2→2AlN 2Ca＋O2→2CaO 3Ca＋N2→Ca3N2 のように反応して、雰囲気中のガス成分を低下さ
せる、いわゆるゲツタ作用を奏する。 Tiについても同様にそれぞれAl、Caの作用を
下式のように補完して良好なゲツタ作用を奏す
る。 Ti＋O2→TiO2 Ti＋N2→TiN2 このため、蒸着時の薄膜形成安定性及び形成速
度を向上させると共に、得られる薄膜は高純度で
耐食性、均質性、平滑性が著しく良好で、諸特性
が大幅に改善され、高特性薄膜を高生産効率で製
造することを可能とする。 ［実施例］ 以下、実施例について説明する。 実施例 １ 第１表に示す組成のクロム基合金を蒸着用材料
として用い、下記仕様のスパツタリング装置に
て、直径10cmのガラス基盤上に薄膜を形成した。
なお、基盤加熱温度は80℃とした。 スパツタリング装置仕様 マグネトロンタイプ高周波スパツタリング装置 最大出力：1KW 到達真空度：10-7torr ターゲツト寸法：100mm（φ）×５mm（ｔ）
【表】
スパツタ電力を変えて、各蒸着用材料により形
成された薄膜の膜厚を調べた結果を、第１図、第
２図に示す。 第１図、第２図より、本発明の蒸着用クロム基
合金は、バツチごとのバラツキが少なく均質な上
に膜形成効率が高いことが認められる。 実施例 ２ 実施例１において得られた薄膜（膜厚：1μｍ
程度のもの）ついて、その表面粗さを調べ、その
粗さ度の結果を第２表に示した。 なお表面粗さの測定方法は触針１式粗さ測定法
によるが、表での粗さ表示は平均粗さと最大粗さ
について調べた。
成された薄膜の膜厚を調べた結果を、第１図、第
２図に示す。 第１図、第２図より、本発明の蒸着用クロム基
合金は、バツチごとのバラツキが少なく均質な上
に膜形成効率が高いことが認められる。 実施例 ２ 実施例１において得られた薄膜（膜厚：1μｍ
程度のもの）ついて、その表面粗さを調べ、その
粗さ度の結果を第２表に示した。 なお表面粗さの測定方法は触針１式粗さ測定法
によるが、表での粗さ表示は平均粗さと最大粗さ
について調べた。
【表】
【表】
た。
第２表より、本発明の合金により得られる薄膜
は極めて表面の平滑性が高いことが明らかであ
る。 ［発明の効果］ 以上詳述した通り、本発明の蒸着用クロム基合
金は、Ｏ、Ｎ含有量が少ない上に、Al、TiとCa
によるケツタ作用により、蒸着雰囲気中のガス成
分が大幅に低減される。 このため、蒸着による膜形成安定性及び膜形成
速度が向上されるとともに、得られる薄膜は高純
度で、耐食性、均質性、平滑性の特性が著しく高
いものとなる。 従つて、本発明の蒸着用クロム基合金によれ
ば、高特性薄膜を高効率で得ることができ、本発
明の蒸着用クロム基合金は、光磁気記録材料の保
護や下地用薄膜製造用蒸着材料として極めて有用
である。
第２表より、本発明の合金により得られる薄膜
は極めて表面の平滑性が高いことが明らかであ
る。 ［発明の効果］ 以上詳述した通り、本発明の蒸着用クロム基合
金は、Ｏ、Ｎ含有量が少ない上に、Al、TiとCa
によるケツタ作用により、蒸着雰囲気中のガス成
分が大幅に低減される。 このため、蒸着による膜形成安定性及び膜形成
速度が向上されるとともに、得られる薄膜は高純
度で、耐食性、均質性、平滑性の特性が著しく高
いものとなる。 従つて、本発明の蒸着用クロム基合金によれ
ば、高特性薄膜を高効率で得ることができ、本発
明の蒸着用クロム基合金は、光磁気記録材料の保
護や下地用薄膜製造用蒸着材料として極めて有用
である。
第１図及び第２図は実施例１で得られた結果を
示すグラフであつて、スパツタ電力と得られる膜
厚との関係を示す。
示すグラフであつて、スパツタ電力と得られる膜
厚との関係を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Al1重量％以下、Ca200ppm以下、O400ppm
以下、N200ppm以下を含有し、残部が実質的に
Crであることを特徴とする蒸着用クロム基合金。 ２ Al1重量％以下、Ti1重量％以下、
Ca200ppm以下、O400ppm以下、N200ppm以下
を含有し、残部が実質的にCrであることを特徴
とする蒸着用クロム基合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24095486A JPS6396261A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 蒸着用クロム基合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24095486A JPS6396261A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 蒸着用クロム基合金 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6396261A JPS6396261A (ja) | 1988-04-27 |
| JPH0359133B2 true JPH0359133B2 (ja) | 1991-09-09 |
Family
ID=17067121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24095486A Granted JPS6396261A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 蒸着用クロム基合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6396261A (ja) |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP24095486A patent/JPS6396261A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6396261A (ja) | 1988-04-27 |
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