JPH041054B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH041054B2 JPH041054B2 JP61240952A JP24095286A JPH041054B2 JP H041054 B2 JPH041054 B2 JP H041054B2 JP 61240952 A JP61240952 A JP 61240952A JP 24095286 A JP24095286 A JP 24095286A JP H041054 B2 JPH041054 B2 JP H041054B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- less
- present
- cao
- content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 45
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 22
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 25
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 23
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 22
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 22
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- JHLNERQLKQQLRZ-UHFFFAOYSA-N calcium silicate Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] JHLNERQLKQQLRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229910000514 dolomite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010459 dolomite Substances 0.000 description 1
- -1 etc. Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005247 gettering Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
［産業上の利用分野］
本発明は蒸着用Co−Cr基合金に係り、特に垂
直磁気記録材料として用いられる薄膜の製造に好
適な蒸着用Co−Cr基合金に関する。 ［従来の技術］ 非磁性基板上に磁性合金薄膜を形成した磁気記
録材料は周知である。 この磁気記録材料の薄膜を製造する方法として
は、スパツタリングや真空蒸着、イオンプレーテ
イング等の蒸着法が広く用いられている。 特にスパツタリング法は、均一な内部組成で一
定の合金元素を含んだターゲツト材が得られさえ
すれば、スパツタリング装置内の圧力をコントロ
ールしながら組成的に均一な薄膜を得ることがで
きる点で有利である。 磁性合金薄膜を形成する強磁性合金としては、
鉄合金、ニツケル合金、コバルト合金などが従来
より用いられている。しかして、コバルト合金の
うち、Co−Cr基合金は、垂直磁気用ターゲツト
材として開発がすすめられている。 即ち、従来より、一般に磁気デイスク、フロツ
ピーデイスク、オーデイオ用磁気テープ、VTR
用磁気テープ、磁気写真用デイスク、さらにコン
ピユータ用磁気テープなどが、プラスチツクフイ
ルムや金属シートなどの基体が表面に、スパツタ
リング法や真空蒸着法、さらに化学メツキ法など
の表面処理技術を用いて、例えばCr：9.0〜22.5
重量％を含有し、残りがCoと不可避不純物から
なる組成を有するCo−Cr合金の磁気記録媒体の
薄膜を形成することにより製造されることはよく
知られるところである。このCo−Cr基合金の磁
気記録媒体は大きな磁気異方性と飽和磁化をもつ
ことから、薄膜化しても信号レベルを保持しやす
く、特に垂直磁化膜用として実用化されているも
のである。 ［発明が解決しようとする問題点］ 従来より用いられている磁性合金について種々
検討を重ねたところ、酸素、窒素、硫黄、炭素、
その他金属酸化物等の介在物が比較的多量に含ま
れており、得られる薄膜の磁気特性に多大な悪影
響をもたらすことが認められた。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は上記従来の実情に鑑み、不純物含有量
の少ない高特性磁性薄膜を安定かつ効率的に得る
ことができる蒸着用Co−Cr基合金を提供するべ
くなされたものであつて、 Cr9〜25重量％、Al0.5重量％以下、Ti0.5重量
％以下、Ca及び／又はMg300ppm以下、
O30ppm以下、N30ppm以下を含有し、残部が実
質的にCoであることを特徴とする蒸着用Co−Cr
基合金、 を要旨するものである。 即ち、本発明者は、蒸着用合金の不純物に起因
する問題を解決し、高特性磁性薄膜を得るべく、
鋭意検討を重ねた結果、蒸着用Co−Cr基合金中
に、特定量のCa及び／又はMgと、Al及びTiと
を含有させることにより、不純物含有量の少ない
合金が得られ、しかもCa及び／又はMgとAl及び
はTiとによるゲツタ作用により、蒸着雰囲気中
のガス成分をも低減し、極めて高純度で高特性の
磁性薄膜を得ることができることを見出し、本発
明を完成させた。 以下、本発明につき詳細に説明する。 なお、本明細書において、「％」は「重量％」
を表すものである。 本発明の蒸着用Co−Cr基合金は、真空蒸着あ
るいはスパツタリング、イオンプレーテイング等
の蒸着用材料として用いられ、磁性薄膜の製造等
に利用されるものであつて、その組成は、下記の
通りである。 Cr：９〜25％ Co：残部 Al：１％以下 Ti：１％以下 Ca及び／又はMg：300ppm以下 Ｏ：30ppm以下 Ｎ：30ppm以下 以下に本発明の合金組成の限定理由について説
明する。 本発明の蒸着用Co−Cr基合金において、Cr成
分には飽和磁化を実用範囲である80〜850ガウス
の調整する作用があるが、その含有量が９％未満
では飽和磁化が850ガウスを超えて高くなりすぎ、
この結果、例えば垂直磁化膜として使用した場
合、膜面に垂直の磁化配合が不可能となり、一
方、25％を超えて含有させると、80ガウス未満の
飽和磁化しか得られず、この結果再生出力が小さ
くなり、Ｓ／Ｎ比が悪化して実用に供し得なくな
ることから、Cr含有量は９〜25％とする。最も
好ましいCr含有率は13％近傍であるが、耐食性
等の点からCr12〜22％とすることにより、実用
的な垂直磁気特性の膜が得られる。 Al及びTiは、合金の溶製を行なう際に、Ca、
Mgと共に合金の清浄化に作用し、また蒸着雰囲
気中にてガス成分を捕捉するゲツタ作用を有す
る。ただし、Al、Tiはその量があまりに多過ぎ、
合金特性に影響を及ぼす量であつては好ましくな
く、このため本発明においては、各々１％以下と
する。当然のことながら、Al、Tiは、その量が
あまりに少な過ぎると上記清浄化作用及びゲツタ
作用による十分な効果が得られない。本発明にお
いては、Al0.005〜0.5％、あるいは、Al0.005〜
0.5％及びTi0.5％以下、より好ましくはAl0.05〜
0.2％、あるいは、Al0.05〜0.2％及びTi0.2％以下
とするのが望ましい。なお、Al又はTiは、固溶
Al又は固溶Tiの形態で合金中に存在することに
より、本発明の効果を奏するものであるので、
Al又はTiの存在形態は固溶状態であることが重
要である。 Ca、Mgは前述の如くAl及びTiと共に合金の
清浄化に作用し、またゲツタ作用を奏する。Ca
及びMgは、その含有量があまりに多過ぎると合
金特性に影響を及ぼし、また、金属間化合物の析
出により合金を脆くすることがある。このため、
本発明においてはCa及び／又はMgの含有量は
300ppm以下とする。一方、Ca及び／又はMgの
含有量は少な過ぎてもCa、Mgによる十分な清浄
化作用及びゲツタ作用が現れない。このようなこ
とから、Ca、Mg含有量は、各々、５〜100ppm
の範囲、好ましくは各々10〜50ppmの範囲とする
のが好ましい。なお、CaはCaOないしCaO−
Al2O3の形態では本発明の効果は奏し得ず、同様
に、MgはMgOの形態では本発明の効果を奏し得
ないことから、合金中のCa、Mgの存在形態は金
属Ca、金属Mgであることが重要である。 合金中のＯ、Ｎの量が多いと、蒸着に使用した
際に、蒸着雰囲気の真空度を悪化させたり、また
良好な蒸着が行なえず、高特性の磁性薄膜が得ら
れない。このため、合金中のＯ含有量は30ppm以
下、好ましくは20ppm以下、Ｎ含有量は30ppm以
下、好ましくは20ppm以下とする。 なお、本発明において、Si、Mn、Ｐ、Ｓ等の
不純物が合金中に不可避的に含有されるのは、特
に問題とはならないが、上述したことと同様の理
由から、本発明において、合金中の他の不純物は
できるだけ少なくするのが良く、例えば、Si含有
量は0.1％以下、Mn含有量は0.05％以下、Ｐ含有
量は50ppm以下、Ｓ含有量は10ppm以下とするの
が好ましい。 このような本発明の蒸着用Co−Cr基合金は、
例えば、以下に説明する方法に従つて製造するこ
とができる。 即ち、まず、合金化のためのCo、Cr、Al及び
Ti等の金属又は合金材料を、内面がCaO質耐火
材で構成された容器中で、真空又はアルゴン等の
不活性ガス雰囲気等の非酸化性雰囲気にて、常法
例えば高周波あるいは低周波誘導加熱法等で加熱
して溶解することにより、所望の組成の合金溶湯
を得る。 本発明において、用いられる容器の内面を構成
するCaO質耐火材としては、カルシア（CaO）、
ラルナイト（安定化2CaO・SiO2）、メルウイナ
イト（3CaO・MgO・2SiO2）、アノルサイト
（CaO・Al2O3・2SiO2）ならびにCaOを富化した
ドロマイト等が挙げられるが、特に、電融カルシ
アが好適である。 このようなカルシア質炉材は、そのCaO含有率
が40％以上、特に60％以上のものが好ましい。 CaOは高融点であると共に、高温で極めて安定
であり、溶製にあたり、金属酸化物を生成して溶
湯を不純物により汚染することがなく、高清浄な
溶湯を得ることが可能とされる。 特に、CaO含有量の高いCaO質耐火材で内面が
構成された容器を用いた場合には、脱Ｏ、脱Ｓ、
脱介在物等の精錬作用も奏され、極めて有利であ
る。 しかも、溶湯中にAl及びはTiが存在するため、
溶湯中の脱Ｏ、脱Ｓが行なわれ、これに伴つて脱
Ｎも起こる。また、炉壁材のCaOとAlとの反応
により溶湯中へのCaの溶出もおこる。即ち、Al
は溶湯中のＯ及び炉壁のCaOと溶湯中のＳと反応
して CaO＋Ｓ→CaS＋Ｏ となつて生じたＯと反応して、 2Al＋3O→Al2O3 となり、Al2O3を生じる。また溶湯中のAlは炉壁
のCaOと反応して 2Al＋3CaO→Al2O3＋3Ca(g) となり、これによつてもAl2O3が生じる。（この
場合、生じたCaは、ガスとなつて系外に抜ける
が、一部が合金中に残留して、本発明の合金の
Ca含有量を満足させる。） Al2O3は次式の如く炉壁のCaOと反応して、
3CaO・Al2O3又は12CaO・7Al2O3の活性な層が
炉壁表面に形成される。 Al2O3＋3CaO→3CaO・Al2O3 7Al2O3＋12CaO→12CaO・7Al2O3 この12CaO・7Al2O3及び3CaO・Al2O3、特に
3CaO・Al2O3は溶湯の脱Ｓ能が高く、脱Ｓが良
好に進行する。 このように、Alにより脱Ｏが、またAlの還元
作用により生じた活性な3CaO・Al2O3、
12CaO・7Al2O3やCaOにより脱Ｓが行なわれる。 また、耐火材がCaO−MgO系の容器を用いて
溶製を行なつた場合、Caと共にMgの溶出も見ら
れ、溶湯中に金属態Mgが残留し、Caと同様に蒸
着時にゲツタ作用を奏し、その効果を補完し、更
に強力なものとする。即ち、炉壁のMgOは 3MgO＋CaO＋2Al →CaO・Al2O3＋3Mg(g) となり、生じたMgの一部が合金中に残留する。 また溶湯中のＮは前述のAlとCaOとの反応に
より生じたCa等の蒸発（沸騰）等に伴つて溶湯
中から離脱し、溶湯中のＮ量も低減される。 Tiは、Alの作用を補完し、更にAlと同様の作
用により脱Ｏ、脱Ｓ、脱Ｎを行なう。 従つて、内面がCaO質耐火材で構成された容器
中で溶製を行なうことにより、本発明の低Ｏ、低
Ｎ含有量のCo−Cr基合金を容易に得ることがで
きる。 ところで、本発明においては、内面がCaO質耐
火材で構成された容器中にて溶製する際に、Al
及びTiを冷却固化後のAl及びTi残留量が本発明
の範囲、即ち、Al1％以下及びTi1％以下となる
ように添加するのであるが、溶製に用いる容器の
内面を、特にCaO及びMgO（MgO含有率60〜15
％）のカルシア系耐火物よりなるものとすること
により、Al及びTiの添加により、溶湯中へCaだ
けでなくMgの溶出も認められ、得られる合金中
のCa、Mg含有量を容易に本発明の範囲即ち
300ppm以下とすることができる。 このようにして得られた合金溶湯を、常法に従
つて非酸化性雰囲気下で鋳造する。 このような方法によれば、Cr9〜25％、Al1％
以下、Ti1％以下、Ca及び／又はMg300ppm以
下、O30ppm以下、N30ppm以下を含有し、残部
が実質的にCoである本発明の蒸着用Co−Cr基合
金を極めて容易に製造することができる。 ［作用］ 本発明の蒸着用Co−Cr基合金は、Ｏ、Ｎ含有
量が少ないため、高特性の磁性薄膜を得ることが
できる。 また、本発明の蒸着用Co−Cr基合金に含有さ
れるAl及びTi、Caは、真空蒸着又はスパツタリ
ング等の蒸着雰囲気中にて、 4Al＋3O2→2Al2O3 2Al＋N2→2AlN 2Ca＋O2→2CaO 3Ca＋N2→Ca3N2 のように反応して、雰囲気中のガス成分を低下さ
せる、いわゆるゲツタ作用を奏する。 Ti、Mgについても同様にそれぞれAl、Caの
作用の下式のように補完して良好なゲツタ作用を
奏する。 Ti＋O2→TiO2 Ti＋N2→TiN2 2Mg＋O2→2MgO 3MgO＋N2→Mg3N2 このため、蒸着時の薄膜形成安定性及び形成速
度を向上させると共に、得られる薄膜は高純度で
磁気特性が大幅に改善され、高特性薄膜を高生産
効率で製造することを可能とする。 ［実施例］ 以下、実施例について説明する。 実施例 １ 第１表に示す組成のCo−Cr基合金を蒸着用材
料として用い、下記仕様のスパツタリング装置に
て、直径10cmのガラス基盤上に薄膜を形成した。
なお、基盤加熱温度は100℃とした。 スパツタリング装置仕様 マグネトロンタイプ高周波スパツタリング装置 最大出力：1KW 到達真空度：10-7torr ターゲツト寸法：100mm（φ）×３mm（ｔ）
直磁気記録材料として用いられる薄膜の製造に好
適な蒸着用Co−Cr基合金に関する。 ［従来の技術］ 非磁性基板上に磁性合金薄膜を形成した磁気記
録材料は周知である。 この磁気記録材料の薄膜を製造する方法として
は、スパツタリングや真空蒸着、イオンプレーテ
イング等の蒸着法が広く用いられている。 特にスパツタリング法は、均一な内部組成で一
定の合金元素を含んだターゲツト材が得られさえ
すれば、スパツタリング装置内の圧力をコントロ
ールしながら組成的に均一な薄膜を得ることがで
きる点で有利である。 磁性合金薄膜を形成する強磁性合金としては、
鉄合金、ニツケル合金、コバルト合金などが従来
より用いられている。しかして、コバルト合金の
うち、Co−Cr基合金は、垂直磁気用ターゲツト
材として開発がすすめられている。 即ち、従来より、一般に磁気デイスク、フロツ
ピーデイスク、オーデイオ用磁気テープ、VTR
用磁気テープ、磁気写真用デイスク、さらにコン
ピユータ用磁気テープなどが、プラスチツクフイ
ルムや金属シートなどの基体が表面に、スパツタ
リング法や真空蒸着法、さらに化学メツキ法など
の表面処理技術を用いて、例えばCr：9.0〜22.5
重量％を含有し、残りがCoと不可避不純物から
なる組成を有するCo−Cr合金の磁気記録媒体の
薄膜を形成することにより製造されることはよく
知られるところである。このCo−Cr基合金の磁
気記録媒体は大きな磁気異方性と飽和磁化をもつ
ことから、薄膜化しても信号レベルを保持しやす
く、特に垂直磁化膜用として実用化されているも
のである。 ［発明が解決しようとする問題点］ 従来より用いられている磁性合金について種々
検討を重ねたところ、酸素、窒素、硫黄、炭素、
その他金属酸化物等の介在物が比較的多量に含ま
れており、得られる薄膜の磁気特性に多大な悪影
響をもたらすことが認められた。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は上記従来の実情に鑑み、不純物含有量
の少ない高特性磁性薄膜を安定かつ効率的に得る
ことができる蒸着用Co−Cr基合金を提供するべ
くなされたものであつて、 Cr9〜25重量％、Al0.5重量％以下、Ti0.5重量
％以下、Ca及び／又はMg300ppm以下、
O30ppm以下、N30ppm以下を含有し、残部が実
質的にCoであることを特徴とする蒸着用Co−Cr
基合金、 を要旨するものである。 即ち、本発明者は、蒸着用合金の不純物に起因
する問題を解決し、高特性磁性薄膜を得るべく、
鋭意検討を重ねた結果、蒸着用Co−Cr基合金中
に、特定量のCa及び／又はMgと、Al及びTiと
を含有させることにより、不純物含有量の少ない
合金が得られ、しかもCa及び／又はMgとAl及び
はTiとによるゲツタ作用により、蒸着雰囲気中
のガス成分をも低減し、極めて高純度で高特性の
磁性薄膜を得ることができることを見出し、本発
明を完成させた。 以下、本発明につき詳細に説明する。 なお、本明細書において、「％」は「重量％」
を表すものである。 本発明の蒸着用Co−Cr基合金は、真空蒸着あ
るいはスパツタリング、イオンプレーテイング等
の蒸着用材料として用いられ、磁性薄膜の製造等
に利用されるものであつて、その組成は、下記の
通りである。 Cr：９〜25％ Co：残部 Al：１％以下 Ti：１％以下 Ca及び／又はMg：300ppm以下 Ｏ：30ppm以下 Ｎ：30ppm以下 以下に本発明の合金組成の限定理由について説
明する。 本発明の蒸着用Co−Cr基合金において、Cr成
分には飽和磁化を実用範囲である80〜850ガウス
の調整する作用があるが、その含有量が９％未満
では飽和磁化が850ガウスを超えて高くなりすぎ、
この結果、例えば垂直磁化膜として使用した場
合、膜面に垂直の磁化配合が不可能となり、一
方、25％を超えて含有させると、80ガウス未満の
飽和磁化しか得られず、この結果再生出力が小さ
くなり、Ｓ／Ｎ比が悪化して実用に供し得なくな
ることから、Cr含有量は９〜25％とする。最も
好ましいCr含有率は13％近傍であるが、耐食性
等の点からCr12〜22％とすることにより、実用
的な垂直磁気特性の膜が得られる。 Al及びTiは、合金の溶製を行なう際に、Ca、
Mgと共に合金の清浄化に作用し、また蒸着雰囲
気中にてガス成分を捕捉するゲツタ作用を有す
る。ただし、Al、Tiはその量があまりに多過ぎ、
合金特性に影響を及ぼす量であつては好ましくな
く、このため本発明においては、各々１％以下と
する。当然のことながら、Al、Tiは、その量が
あまりに少な過ぎると上記清浄化作用及びゲツタ
作用による十分な効果が得られない。本発明にお
いては、Al0.005〜0.5％、あるいは、Al0.005〜
0.5％及びTi0.5％以下、より好ましくはAl0.05〜
0.2％、あるいは、Al0.05〜0.2％及びTi0.2％以下
とするのが望ましい。なお、Al又はTiは、固溶
Al又は固溶Tiの形態で合金中に存在することに
より、本発明の効果を奏するものであるので、
Al又はTiの存在形態は固溶状態であることが重
要である。 Ca、Mgは前述の如くAl及びTiと共に合金の
清浄化に作用し、またゲツタ作用を奏する。Ca
及びMgは、その含有量があまりに多過ぎると合
金特性に影響を及ぼし、また、金属間化合物の析
出により合金を脆くすることがある。このため、
本発明においてはCa及び／又はMgの含有量は
300ppm以下とする。一方、Ca及び／又はMgの
含有量は少な過ぎてもCa、Mgによる十分な清浄
化作用及びゲツタ作用が現れない。このようなこ
とから、Ca、Mg含有量は、各々、５〜100ppm
の範囲、好ましくは各々10〜50ppmの範囲とする
のが好ましい。なお、CaはCaOないしCaO−
Al2O3の形態では本発明の効果は奏し得ず、同様
に、MgはMgOの形態では本発明の効果を奏し得
ないことから、合金中のCa、Mgの存在形態は金
属Ca、金属Mgであることが重要である。 合金中のＯ、Ｎの量が多いと、蒸着に使用した
際に、蒸着雰囲気の真空度を悪化させたり、また
良好な蒸着が行なえず、高特性の磁性薄膜が得ら
れない。このため、合金中のＯ含有量は30ppm以
下、好ましくは20ppm以下、Ｎ含有量は30ppm以
下、好ましくは20ppm以下とする。 なお、本発明において、Si、Mn、Ｐ、Ｓ等の
不純物が合金中に不可避的に含有されるのは、特
に問題とはならないが、上述したことと同様の理
由から、本発明において、合金中の他の不純物は
できるだけ少なくするのが良く、例えば、Si含有
量は0.1％以下、Mn含有量は0.05％以下、Ｐ含有
量は50ppm以下、Ｓ含有量は10ppm以下とするの
が好ましい。 このような本発明の蒸着用Co−Cr基合金は、
例えば、以下に説明する方法に従つて製造するこ
とができる。 即ち、まず、合金化のためのCo、Cr、Al及び
Ti等の金属又は合金材料を、内面がCaO質耐火
材で構成された容器中で、真空又はアルゴン等の
不活性ガス雰囲気等の非酸化性雰囲気にて、常法
例えば高周波あるいは低周波誘導加熱法等で加熱
して溶解することにより、所望の組成の合金溶湯
を得る。 本発明において、用いられる容器の内面を構成
するCaO質耐火材としては、カルシア（CaO）、
ラルナイト（安定化2CaO・SiO2）、メルウイナ
イト（3CaO・MgO・2SiO2）、アノルサイト
（CaO・Al2O3・2SiO2）ならびにCaOを富化した
ドロマイト等が挙げられるが、特に、電融カルシ
アが好適である。 このようなカルシア質炉材は、そのCaO含有率
が40％以上、特に60％以上のものが好ましい。 CaOは高融点であると共に、高温で極めて安定
であり、溶製にあたり、金属酸化物を生成して溶
湯を不純物により汚染することがなく、高清浄な
溶湯を得ることが可能とされる。 特に、CaO含有量の高いCaO質耐火材で内面が
構成された容器を用いた場合には、脱Ｏ、脱Ｓ、
脱介在物等の精錬作用も奏され、極めて有利であ
る。 しかも、溶湯中にAl及びはTiが存在するため、
溶湯中の脱Ｏ、脱Ｓが行なわれ、これに伴つて脱
Ｎも起こる。また、炉壁材のCaOとAlとの反応
により溶湯中へのCaの溶出もおこる。即ち、Al
は溶湯中のＯ及び炉壁のCaOと溶湯中のＳと反応
して CaO＋Ｓ→CaS＋Ｏ となつて生じたＯと反応して、 2Al＋3O→Al2O3 となり、Al2O3を生じる。また溶湯中のAlは炉壁
のCaOと反応して 2Al＋3CaO→Al2O3＋3Ca(g) となり、これによつてもAl2O3が生じる。（この
場合、生じたCaは、ガスとなつて系外に抜ける
が、一部が合金中に残留して、本発明の合金の
Ca含有量を満足させる。） Al2O3は次式の如く炉壁のCaOと反応して、
3CaO・Al2O3又は12CaO・7Al2O3の活性な層が
炉壁表面に形成される。 Al2O3＋3CaO→3CaO・Al2O3 7Al2O3＋12CaO→12CaO・7Al2O3 この12CaO・7Al2O3及び3CaO・Al2O3、特に
3CaO・Al2O3は溶湯の脱Ｓ能が高く、脱Ｓが良
好に進行する。 このように、Alにより脱Ｏが、またAlの還元
作用により生じた活性な3CaO・Al2O3、
12CaO・7Al2O3やCaOにより脱Ｓが行なわれる。 また、耐火材がCaO−MgO系の容器を用いて
溶製を行なつた場合、Caと共にMgの溶出も見ら
れ、溶湯中に金属態Mgが残留し、Caと同様に蒸
着時にゲツタ作用を奏し、その効果を補完し、更
に強力なものとする。即ち、炉壁のMgOは 3MgO＋CaO＋2Al →CaO・Al2O3＋3Mg(g) となり、生じたMgの一部が合金中に残留する。 また溶湯中のＮは前述のAlとCaOとの反応に
より生じたCa等の蒸発（沸騰）等に伴つて溶湯
中から離脱し、溶湯中のＮ量も低減される。 Tiは、Alの作用を補完し、更にAlと同様の作
用により脱Ｏ、脱Ｓ、脱Ｎを行なう。 従つて、内面がCaO質耐火材で構成された容器
中で溶製を行なうことにより、本発明の低Ｏ、低
Ｎ含有量のCo−Cr基合金を容易に得ることがで
きる。 ところで、本発明においては、内面がCaO質耐
火材で構成された容器中にて溶製する際に、Al
及びTiを冷却固化後のAl及びTi残留量が本発明
の範囲、即ち、Al1％以下及びTi1％以下となる
ように添加するのであるが、溶製に用いる容器の
内面を、特にCaO及びMgO（MgO含有率60〜15
％）のカルシア系耐火物よりなるものとすること
により、Al及びTiの添加により、溶湯中へCaだ
けでなくMgの溶出も認められ、得られる合金中
のCa、Mg含有量を容易に本発明の範囲即ち
300ppm以下とすることができる。 このようにして得られた合金溶湯を、常法に従
つて非酸化性雰囲気下で鋳造する。 このような方法によれば、Cr9〜25％、Al1％
以下、Ti1％以下、Ca及び／又はMg300ppm以
下、O30ppm以下、N30ppm以下を含有し、残部
が実質的にCoである本発明の蒸着用Co−Cr基合
金を極めて容易に製造することができる。 ［作用］ 本発明の蒸着用Co−Cr基合金は、Ｏ、Ｎ含有
量が少ないため、高特性の磁性薄膜を得ることが
できる。 また、本発明の蒸着用Co−Cr基合金に含有さ
れるAl及びTi、Caは、真空蒸着又はスパツタリ
ング等の蒸着雰囲気中にて、 4Al＋3O2→2Al2O3 2Al＋N2→2AlN 2Ca＋O2→2CaO 3Ca＋N2→Ca3N2 のように反応して、雰囲気中のガス成分を低下さ
せる、いわゆるゲツタ作用を奏する。 Ti、Mgについても同様にそれぞれAl、Caの
作用の下式のように補完して良好なゲツタ作用を
奏する。 Ti＋O2→TiO2 Ti＋N2→TiN2 2Mg＋O2→2MgO 3MgO＋N2→Mg3N2 このため、蒸着時の薄膜形成安定性及び形成速
度を向上させると共に、得られる薄膜は高純度で
磁気特性が大幅に改善され、高特性薄膜を高生産
効率で製造することを可能とする。 ［実施例］ 以下、実施例について説明する。 実施例 １ 第１表に示す組成のCo−Cr基合金を蒸着用材
料として用い、下記仕様のスパツタリング装置に
て、直径10cmのガラス基盤上に薄膜を形成した。
なお、基盤加熱温度は100℃とした。 スパツタリング装置仕様 マグネトロンタイプ高周波スパツタリング装置 最大出力：1KW 到達真空度：10-7torr ターゲツト寸法：100mm（φ）×３mm（ｔ）
【表】
スパツタ電力、アルゴンガス圧を変えて、各蒸
着用材料により形成された薄膜の膜厚を調べた結
果を、それぞれ第１図、第２図に示す。 第１図、第２図より、本発明の蒸着用Co−Cr
基合金は、膜形成効率が高いことが認められる。 実施例 ２ それぞれ実施例１のNo.１〜No.５のターゲツトを
用いて、実施例１で作成した、薄膜について垂直
磁気異方性を調べた。結果を第２表に示す。な
お、垂直磁気異方性は、異方性磁界Hkで示した。
着用材料により形成された薄膜の膜厚を調べた結
果を、それぞれ第１図、第２図に示す。 第１図、第２図より、本発明の蒸着用Co−Cr
基合金は、膜形成効率が高いことが認められる。 実施例 ２ それぞれ実施例１のNo.１〜No.５のターゲツトを
用いて、実施例１で作成した、薄膜について垂直
磁気異方性を調べた。結果を第２表に示す。な
お、垂直磁気異方性は、異方性磁界Hkで示した。
【表】
実施例 ３
実施例１で得られたCo−Cr薄膜のガス分析結
果を第３表に示す。
果を第３表に示す。
【表】
第３表より、本発明の合金ではスパツタによつ
てガス成分の上昇は認められないのに対して、No.
４、５の比較例合金では著しい上昇がみられ、本
発明合金ターゲツトの効果が認められる。 ［発明の効果］ 以上詳述した通り、本発明の蒸着用Co−Cr基
合金は、Ｏ、Ｎ含有量が少ない上に、Al及びTi
とCa、Mgによるゲツタ作用により、蒸着雰囲気
中のガス成分が大幅に低減される。 このため、蒸着による膜形成安定性及び膜形成
速度が向上されるとともに、得られる薄膜は高純
度で極めて磁気特性に優れたものとなる。 従つて、本発明の蒸着用Co−Cr基合金によれ
ば、高特性薄膜を高効率で得ることができ、本発
明の蒸着用Co−Cr基合金は、磁気記録材料の薄
膜製造用蒸着材料として極めて有用である。
てガス成分の上昇は認められないのに対して、No.
４、５の比較例合金では著しい上昇がみられ、本
発明合金ターゲツトの効果が認められる。 ［発明の効果］ 以上詳述した通り、本発明の蒸着用Co−Cr基
合金は、Ｏ、Ｎ含有量が少ない上に、Al及びTi
とCa、Mgによるゲツタ作用により、蒸着雰囲気
中のガス成分が大幅に低減される。 このため、蒸着による膜形成安定性及び膜形成
速度が向上されるとともに、得られる薄膜は高純
度で極めて磁気特性に優れたものとなる。 従つて、本発明の蒸着用Co−Cr基合金によれ
ば、高特性薄膜を高効率で得ることができ、本発
明の蒸着用Co−Cr基合金は、磁気記録材料の薄
膜製造用蒸着材料として極めて有用である。
第１図、第２図は実施例１で得られた結果を示
すグラフであつて、それぞれ、スパツタ電圧、ア
ルゴン圧と得られる膜厚との関係を示す。
すグラフであつて、それぞれ、スパツタ電圧、ア
ルゴン圧と得られる膜厚との関係を示す。
Claims (1)
- １ Cr9〜25重量％、Al0.5重量％以下、Ti0.5重
量％以下、Ca及び／又はMg300ppm以下、
O30ppm以下、N30ppm以下を含有し、残部が実
質的にCoであることを特徴とする蒸着用Co−Cr
基合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24095286A JPS6396259A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 蒸着用Ｃｏ−Ｃｒ基合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24095286A JPS6396259A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 蒸着用Ｃｏ−Ｃｒ基合金 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6396259A JPS6396259A (ja) | 1988-04-27 |
| JPH041054B2 true JPH041054B2 (ja) | 1992-01-09 |
Family
ID=17067094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24095286A Granted JPS6396259A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 蒸着用Ｃｏ−Ｃｒ基合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6396259A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60228637A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-13 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体用Ｃｏ基合金 |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP24095286A patent/JPS6396259A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60228637A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-13 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体用Ｃｏ基合金 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6396259A (ja) | 1988-04-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS60220914A (ja) | 磁性薄膜 | |
| JPH0430450B2 (ja) | ||
| JPH041054B2 (ja) | ||
| JPH0430451B2 (ja) | ||
| JP3076141B2 (ja) | 磁性薄膜用ターゲット材とその製造方法、Ｆｅ−Ｍ−Ｃ軟磁性膜とその製造方法、およびこれを用いた磁気ヘッドならびに磁気記録再生装置 | |
| JPH0356299B2 (ja) | ||
| JPS63206466A (ja) | 蒸着用Ｆｅ−Ｓｉ基合金 | |
| JPS5837127A (ja) | Ｆｅ‐Ｓｉ‐Ｂ‐Ｃ系アモルファス合金の熱処理方法 | |
| JPH0475309B2 (ja) | ||
| JPH0364586B2 (ja) | ||
| JPS63130769A (ja) | ターゲット材 | |
| KR940007048B1 (ko) | 연자성 합금막 | |
| JPH049855B2 (ja) | ||
| JPH0364585B2 (ja) | ||
| JPH0359133B2 (ja) | ||
| JPH0364584B2 (ja) | ||
| JPS63203764A (ja) | 蒸着用Ｔｅ又はＴｅ系合金の製造方法 | |
| JPS6047894B2 (ja) | 磁気記録媒体用ｃｏ基合金 | |
| JPH04314855A (ja) | Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金製スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | |
| JPH07252565A (ja) | 磁気記録媒体用コバルト基合金およびその製造方法 | |
| JPH0744107B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
| JP2546275B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
| JPH1154324A (ja) | 真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成するための蒸着ソース | |
| JPS62202036A (ja) | ランタノイド含有合金の溶製方法 | |
| JPH01159373A (ja) | スパッタリング用ターゲット |