JPH0357211A - 電子ビーム描画装置用試料ホルダー - Google Patents

電子ビーム描画装置用試料ホルダー

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JPH0357211A
JPH0357211A JP19302489A JP19302489A JPH0357211A JP H0357211 A JPH0357211 A JP H0357211A JP 19302489 A JP19302489 A JP 19302489A JP 19302489 A JP19302489 A JP 19302489A JP H0357211 A JPH0357211 A JP H0357211A
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JP
Japan
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electron beam
grounding
needle
mask
metal film
Prior art date
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Pending
Application number
JP19302489A
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English (en)
Inventor
Futoshi Makita
牧田 太
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPH0357211A publication Critical patent/JPH0357211A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は集積回路部品やフォトマスクの製造において、
電子線によるリソグラフィー工程に使用する電子ビーム
描画装置用試料ホルダーに関する. 〔従来の技術〕 電子ビーム描画装置は、電子線を試料であるウェハやマ
スクなどの上に塗布した電子線感光レジストに照射して
、高い位置精度の回路パターンを描画する装置である.
試料は、いろいろな大きさや厚さや形があるため、直接
電子ビーム描画装置のXYステージに固定するのは困難
である。このため試料の形状別に製作した試料ホルダー
にまず固定する.試料ホルダーは外形が同じなため、あ
らかじめその外形に合わせて設計されたXYステージに
容易に挿入,固定することができる。
従来の電子ビーム描画装置の試料ホルダー及ひ゜試料の
一例として、第3図(a)に試料ホルダー1及びマスク
2の斜視図を示す。試料ホルダー1は、全て導電性であ
る金属からできている。このマスク2を試料ホルダー1
上の溝に挿入,固定した斜視図を第3図(b)に示す。
接地針3は、マスク2の表面にその先端が刺さっている
第3図(b)のI−I間の断面図である第3図(c)で
接地針3の機能を説明する。電子ビーム描画装置は、電
子線感光レジスト5と金属膜6と石英基板7からなるマ
スク2に電子M4を入射する。電子線4は、電子線感光
レジスト5に入射してこれを感光させる。入射後の電子
線4の電子は、金属膜6に流入する。金属膜6中の電子
は、下が絶縁体の石英基板7、上が絶縁体の電子線感光
レジスト5であるためこのままでは流出ができない。金
属pA6中に電子が蓄積されると、帯電して電界を発生
し、入射して来る電子線4を偏向させるので正確な露光
ができなくなる.これを防止するため、先端がとがった
金属性の接地針3が電子線感光レジスト5を刺し通して
金属膜6に接触されていて、ここから電子を試料ホルダ
ー1に流出させている。ただしこの接触は、接地針3の
先端が摩耗したり曲がったり異物が付着したりすると導
通が無くなったり、抵抗がIMΩ以上に大きくなるので
導通検査が必要であった。
第3図(d)に従来の接地針3と金属膜6の間の導通検
査を説明する.抵抗計8〈所定の抵抗値以下で鳴るよう
に設定された導通検出器でも良い〉は、ブローブ9の先
端をマスク2の端面に接触させることにより電流を金属
M6に流し、接地針3を通して試料ホルダー1に流す.
試料ホルダー1は、抵抗計8のマイナス端子が接続され
ている金属テーブ10が貼付けられた台の上に乗ってい
るのでマイナス端子へ電流が流れる。ブローブ9の先端
とマスク2の端面が導通が良いなら、接地針3と金属膜
6の間の抵抗値である30Ω〜のだけが大きいので、こ
の測定系で接地針3と金属層6の間の抵抗値が測定でき
、所定の抵抗値以下であるかが検査できる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし従来の導通検査は、プローブ9の先端を手でマス
ク2の端面の厚さlミクロン以下の金属膜の端に点接触
させなければならなかったので以下のような問題点があ
った。
■ブローブ9をマスク2上に直接接触させるため、手や
プローブ9から落ちた塵埃がマスク2の上に落ちて、露
光時に電子線4の妨げになる.■ブローブ9は、第3図
(C)のマスク2の端面の面取りした部分の厚さ1ミク
ロン以下の金属膜6に接触させなければならないので、
電子線感光レジスト5が表面に付着していたり、接触さ
せる角度が不適当だと接触不良になる。
■手の微動によるプローブ9の先端とマスク2の端面の
接触状態の変化により、測定している抵抗値の安定性が
悪い。
■露光前後の抵抗値の変化を測定する場合、プローブ9
の先端とマスク2の端面の接触点が同じ位置にできない
ので接触状態が変わってしまい、抵抗値の再現性が悪い
上述した従来の試料ホルダーに対し、本発明は抵抗計や
導通検出器の十一端子に対応して2群に分けられた接地
針を持つ試料ホルダーを提供するものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、電子ビーム描画を行なう際に電子線感光レジ
ストを塗布した試料を固定する金属製の電子ビーム描画
装置用試料ホルダーにおいて、前記ホルダーに固定され
る2本の接地針のうち1本をホルダーと電気的に絶縁し
て固定し、この絶縁された端子を前記試料の金属膜の導
通検査を行なうための一方の接触端子とした電子ビーム
描画装置用試料ホルダーであ−る. 〔実施例〕 次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図(a)は、本発明の電子ビーム描画装置用試料ホ
ルダーの第1実施例の斜視図、第l図(b)はその■一
■における部分断面図である。
接地針l1は、従来の試料ホルダーのものと同じである
.接地針12は、絶縁体の板13と絶縁体の接地針固定
板l4の間を通っていて、ねじ15を締めることにより
これらにはさまれて固定される。絶縁体の板13及び接
地針固定板14はテフロンなどでできている.これによ
り接地針l2は、試料ホルダー1の他の金属部分と絶縁
された状態になる。
この試料ホルダー1にマスクを挿入し、固定した状態で
の導通検査を説明する。まず抵抗計又は導通検出器のプ
ラス端子のブローブを接地針12に接触し電流を流す。
電流は、接地針12→金属膜6→接地針11→試料ホル
ダー1→金属テープ→マイナスのブローブ→抵抗計のマ
イナス端子と流れて接地針と金属膜の抵抗値が測定でき
る。
接地針12を設けることにより従来の問題点を以下のよ
うに全て解決できる。
■プローブを直接マイナスに接触させる必要が無いので
、塵埃がマスク上に落ちない。
■ブローブの表面には絶縁体である電子線感光レジスト
が付着する可能性が無いので確実に導通する。
■1ミクロン以下の金属膜の端に接触することに比べて
、プローブと接地針との接触面積が大きいので抵抗が確
実に小さくなる。
■ブローブの接触角度が変わっても接触面が円なので接
触状態が変わらない. ■接触状態が良いので、露光前後の抵抗測定の再現性が
確実になる。
また新しい長所として、先がとがったプローブだけでな
く、わにロクリップや鈎ではさんで固定できるブローブ
(ピンチャーチップと呼ばれる)が使用できるので、手
の微動の影響を受けない安定した抵抗測定ができる。
第2図(a)は、本発明の電子ビーム描画装置用試料ホ
ルダーの第2実施例の斜視図である。接地針l2は、そ
の端に電線l6の端が巻き付けられて半田付けされてい
る。電線16は、絶縁体で被覆されていて穴17に入っ
ている。
第2図(b)は、第2図(a)の■−■の部分の部分断
面図である。接地針12と金属板18は、電線16によ
り接続されている。電線16は、両端の接地針12と金
属板18のみを導通させていて、穴17などの他の部分
とは被覆により絶縁されている。金属板工8は、絶縁体
の板1つの上にあり、電線12により接地針12とだけ
接続されている. この試料ホルダーの使用方法を説明する。まずこの試料
ホルダーのその台の定位置に置く。台には試料ホルダー
の底部の金属板18に接触するプラス端子19があって
、抵抗計のプラス端子に接続されている.また台には試
料ホルダーの底部の金属板18以外の金属に接触するマ
イナス端子20があって抵抗計のマイナス端子に接続さ
れている.電流は、抵抗計のプラス端子→プラス端子1
9→金属板18→電線16→接地針12→金属膜6→接
地針11→試料ホルダー1→マイナス端子20→抵抗計
のマイナス端子と流れる.これにより試料ホルダーを台
の上に置ぎだけで、手でプローブやわにロクリップを取
り付けること無しに、接地針と金属膜の間の抵抗値を測
定することができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、抵抗計の十一端子に対応
して2群に分けられた接地針を使って抵抗値の検査をす
ることにより、以下の効果を出すことができる. ■塵埃をマスクに落とさない。
■絶縁体である電子線感光レジストの影響を排除できる
■ブローブや端子と接地針との間の抵抗を小さくできる
. ■露光前後の抵抗測定の再現性が確実になる。
【図面の簡単な説明】
第l図(a),(b)は本発明の第l実施例のそれぞれ
斜視図とその部分断面図、第2図(a>,(b)は、第
2実施例のそれぞれ斜視図とその部分断面図、第3図(
a>.(b)は従来の試料ホルダー及びマスクの斜視図
、第3図(c)は従来の試料ホルダー及びマスクの断面
図、第3図(d)は従来の抵抗値検査方法説明図である
。 1・・・試料ホルダー、2・・・マスク、3・・・接地
針、4・・・電子線、5・・・電子線感光レジスト、6
・・・金属膜、7・・・石英基板、8・・・抵抗計、9
・・・ブローブ、10・・・金属テープ、11・・・接
地針、12・・・接地針、■3・・・絶縁体の板、14
・・・接地針固定板、15・・・ねじ、16・・・電線
、17・・・穴、18・・・金属板、19・・・プラス
端子、20・・・マイナス端子。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 電子ビーム描画を行なう際に電子線感光レジストを塗布
    した試料を固定する金属製の電子ビーム描画装置用試料
    ホルダーにおいて、前記ホルダーに固定される2本の接
    地針のうち1本をホルダーと電気的に絶縁して固定し、
    この絶縁された端子を前記試料の金属膜の導通検査を行
    なうための一方の接触端子としたことを特徴とする電子
    ビーム描画装置用試料ホルダー。
JP19302489A 1989-07-25 1989-07-25 電子ビーム描画装置用試料ホルダー Pending JPH0357211A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0415228U (ja) * 1990-05-25 1992-02-06
US5843623A (en) * 1996-09-10 1998-12-01 International Business Machines Corporation Low profile substrate ground probe
JP2007258536A (ja) * 2006-03-24 2007-10-04 Hitachi High-Technologies Corp 電子線応用装置

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JPH0415228U (ja) * 1990-05-25 1992-02-06
US5843623A (en) * 1996-09-10 1998-12-01 International Business Machines Corporation Low profile substrate ground probe
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