JPH0355475B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0355475B2
JPH0355475B2 JP57147268A JP14726882A JPH0355475B2 JP H0355475 B2 JPH0355475 B2 JP H0355475B2 JP 57147268 A JP57147268 A JP 57147268A JP 14726882 A JP14726882 A JP 14726882A JP H0355475 B2 JPH0355475 B2 JP H0355475B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
solution
mmol
minutes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP57147268A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5936684A (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP57147268A priority Critical patent/JPS5936684A/ja
Priority to GR72205A priority patent/GR78932B/el
Priority to US06/523,414 priority patent/US4539148A/en
Priority to GB08322116A priority patent/GB2126223B/en
Priority to IE1936/83A priority patent/IE55873B1/en
Priority to DE8383401689T priority patent/DE3377276D1/de
Priority to EP83401689A priority patent/EP0102893B1/en
Priority to DK385983A priority patent/DK385983A/da
Priority to IL69546A priority patent/IL69546A/xx
Priority to HU832963A priority patent/HU191875B/hu
Priority to CA000435289A priority patent/CA1227482A/en
Priority to KR1019830003960A priority patent/KR900004149B1/ko
Publication of JPS5936684A publication Critical patent/JPS5936684A/ja
Publication of JPH0355475B2 publication Critical patent/JPH0355475B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D498/00Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/185Saturated compounds having only one carboxyl group and containing keto groups
    • C07C59/21Saturated compounds having only one carboxyl group and containing keto groups containing halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C245/00Compounds containing chains of at least two nitrogen atoms with at least one nitrogen-to-nitrogen multiple bond
    • C07C245/12Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom
    • C07C245/14Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom having diazo groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton
    • C07C245/18Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom having diazo groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by carboxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D205/00Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D205/02Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D205/06Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D205/08Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
    • C07D205/085Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a nitrogen atom directly attached in position 3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D261/00Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
    • C07D261/02Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D309/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
    • C07D309/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D309/08Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D309/10Oxygen atoms
    • C07D309/12Oxygen atoms only hydrogen atoms and one oxygen atom directly attached to ring carbon atoms, e.g. tetrahydropyranyl ethers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D505/00Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0834Compounds having one or more O-Si linkage
    • C07F7/0892Compounds with a Si-O-N linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/10Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規1−オキサセフアム化合物または
その異性体である1−オキサ−3−セフエム化合
物に関し、更に好ましくは一般式: 〔式中、Rはカルボキシ保護基、R1は置換基を
有していてもよいアルキル、アラルキルまたはア
リール基、Xは置換基を有していてもよいメチレ
ン基を表わす。ただし、=Xの二重結合は環内に
移動して3−セフエム環を形成していてもよい。〕 で示される1−オキサセフアム化合物またはその
異性体である1−オキサ−3−セフエム化合物の
製造方法に関する。 オキサセフエム系抗菌性化合物は既に知られて
おり、例えば特開昭53−21188、特開昭49−
133594に開示されている。本発明はこれらのオキ
サセフエム化合物の新規な製造方法を提供するも
のである。 本発明の方法によれば、目的化合物である式
〔10〕の化合物は、例えば以下の反応式に従つて
製造される。 先ず、4−ブロモ−3−ケト−酪酸エステル
〔2〕をメタノール中、義酸ナトリウムで加水分
解してヒドロキシ体〔3〕を得る、これをアセト
ニトリル中、p−トルエンスルホニルアジドなど
のジアゾ化剤で処理すればジアゾアルコール体
〔4〕が得られる。これに、6位窒素をt−ブチ
ルジメチルシリル基などで保護した2−フエニル
オキサゾリノアゼチジノン〔6〕を反応させると
4−置換アゼチジノン化合物〔8〕が得られる。
この化合物〔8〕から要すればN−保護基を脱離
せしめて化合物〔9〕を得、これをジロジウムテ
トラアセテート(Rh2(OAc)4)などのカルベン
挿入反応触媒(JACS102 6161(1980)、特開昭
55−27169参照)で処理すれば目的とする1−オ
キサセフアム化合物またはその異性体である1−
オキサ−3−セフエム化合物〔10〕が得られる。 尚、化合物〔8〕は、ヒドロキシ体〔3〕をア
ゼチジノン〔6〕と反応させて4−置換アゼチジ
ノン化合物〔7〕とし、これをp−トルエンスル
ホニルアジドで処理することによつても得ること
ができる。 さらに、Yがヒドロキシ基であり、Xがメチレ
ンである式〔4〕の化合物は、以下の反応式に従
つて製造することもできる。 即ち、アセト酢酸エステル〔4−〕に氷酢酸
中亜硝酸ナトリウムを反応させて2−ヒドロキシ
イミノ体〔4−〕を得、これにLiN〔SiMe32
次いでt−BuMe2SiClを反応させてエノールシ
リル体〔4−〕を得、これにm−CPBAを作用
させるとジシリルケトン体〔4−〕がシス・ト
ランス混合物の形で得られる。これをメチルトリ
フエニルホスホニウムブロミド、n−BuLiおよ
びHMPAを用いてジシリル体〔4−〕に変換
する。この化合物もシス・トランス混合物の形で
得られる。次いで塩酸で処理してオキシム体〔4
−〕とし、これにo−メシチレンスルホニルヒ
ドロキシルアミンを作用させると式〔4〕の化合
物が得られる。 また、Xがメチレン化合物〔8〕を、Yが水酸
基である化合物〔3〕から、以下に示すルートで
製造することもでき、これから目的化合物〔10〕
を得ることもできる。 この製造ルートについては実施例2および3で
詳細に説明する。 上記式中、Rはセフアロスポリン化学に於ける
カルボキシル保護基を表わす。代表的なものは、
McOmie,Protective Groups in Organic
Chemistry,Plenum Press,London(1973)、
Flynn Ed.Cephalosporins and Penicillins,
Academic Press, N.Y.(1972)などに記載さ
れている。 R1としては、メチル、フエノキシメチル、ベ
ンジル、フエニル、クロロフエニル、メトキシフ
エニル、ジメチルフエニル基などを例示すること
ができる。 Xとしてはオキソ(O=)、メチレン(CH2
=)、クロロメチレン(ClCH=)、アルコキシカ
ルボニルメチレン(ROOCCH=)などが挙げら
れる。 出発物質である式〔2〕および式〔6〕の化合
物は文献に記載されており、常法に従つて製造す
ることができる。即ち、式〔6〕の化合物は式
〔5〕 で示される2−置換オキサゾリノアゼチジノンを
ジクロロメタン中、トリエチルアミンの存在下で
t−ブチルジメチルシリルクロリドと反応させる
ことにより製造することができる。式〔2〕の化
合物はジケテン〔1〕から、例えば以下の反応式
に従つて製造することができる。 即ち、ジケテン〔1〕に臭素を反応させ、次い
で生成物を水で処理すれば遊離酸〔2′〕が得られ
る。これを常法によりエステル化すれば化合物
〔2〕が得られる。この場合、水の代りにアルコ
ールを使用すればジケテン〔1〕からエステル体
〔2〕を直接製造することができる。Xが置換基
を有しうるメチレン基のときは、これに対応する
ウイテイヒ試薬を作用させる。 式〔10〕で示される本発明化合物は、種々の1
−オキサセフエム系抗生物質の合成中間体として
有用である。例えば、特開昭52−65292号、米国
特許第4013653号、特開昭49−133594号、
Tetrahedron Letters,1978、〔5〕409などによ
り公知となつている有用化合物とその合成に利用
することができる。 以下に参考例および実施例を挙げて本発明を更
に詳細に説明する。 参考例 1 原料物質、4−ブロモ−3−ケト−酪酸エチル
エステル〔2a〕の製造 ジケテン〔1〕80ml(1.035モル)の無水塩化
メチレン200ml溶液に、臭素56.5ml(1.035モル)
の無水塩化メチレン100ml溶液を、撹拌下−40℃
で約30分間に滴下する。次いでこの反応混合物
に、無水エタノール82ml(1.40モル)を−20℃〜
−30℃で滴下し、滴下終了後室温で2時間撹拌す
る。反応混合物から溶媒を留去した後減圧蒸留す
ると表記化合物184.0g(収率85%)が得られる。 b.p.:94〜96℃/4mmHg IR(CHCl3):1740、1726cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):1.27(3H、t3、
J=7.5Hz、−CH2 CH3 )、3.69(2H、s、−CH2
COOC2H5)、4.07(2H、s、Br−CH2 −)、
4.20(2H、q、J=7.5Hz、−CH2 CH3)。 参考例 2 原料物質、4−ブロモ−3−ケト−酪酸ジフエ
ニルメチルエステル〔2b〕の製造 ジケテン〔1〕43.5g(0.518モル)の無水塩
化メチレン200ml溶液に−30℃〜−40℃で、臭素
82.7g(0.518モル)の無水塩化メチレン100ml溶
液を約30分間で滴下する。次いでこの反応混合物
にベンズヒドロール105.0g(0.568モル)の無水
塩化メチレン100ml溶液を−20℃〜−30℃で滴下
し、滴下終了後室温で1〜1.5時間撹拌する。反
応混合物を減圧で濃縮し、残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーにより精製すると表記化
合物98.9g(収率55%)が得られる。 IR(CHCl3):1732、1662、1626cm-1 NMR(T−60、CDCl3、δ):3.70(2H、s、
CH2COOCHPh2)、3.89(2H、s、BrCH2 CO
−)、6.83(1H、s、−CHPh2)。 参考例 3 原料物質、4−ブロモ−3−ケト−酪酸ジフエ
ニルメチルエステル〔2b〕の別途合成 (1) 4−ブロモ−3−ケト−酪酸の製造 ジケテン〔1〕43.5g(0.518モル)の無水塩
化メチレン200ml溶液に、−30℃〜−40℃で、臭素
82.7g(0.518モル)の無水塩化メチレン100ml溶
液を約40分間で滴下する。滴下終了後室温で30分
間撹拌した後、減圧下で濃縮し、残留物を氷水中
に注ぐ。析出した結晶を取し、酢酸エチルに溶
解する。これを炭酸水素ナトリウム溶液で抽出
し、この抽出液を塩酸で中和すると表記化合物の
結晶が析出する。収量67.5g(収率55%)。結晶
の一部をCH2Cl2/n−ヘキサンから再結晶する
と融点76〜78℃の白色結晶が得られる。 IR(ヌジヨール):1730、1700cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):3.74(2H、s、
H2 COOH)、4.34(2H、s、BrCH2 CO−)、
9.62(1H.ブロードS、−COO)。 (2) 化合物〔2b〕の合成 (1)で得たβ−ケト酸〔2′〕15g(82.9ミリモル
の無水塩化メチレン220ml溶液に、ジフエニルジ
アゾメタンの無水塩化メチレン70ml溶液を氷冷下
に滴下する。反応混合物が淡赤色を呈したところ
で反応をとめ、減圧で溶媒を留去すると化合物
〔2b〕がほぼ定量的に得られる。このものは参考
例2の生成物と同じ物理定数を示す。 参考例 4 原料物質、3−フエニル−7−オキソ−6−t
−ブチルジメチルシリル−2,6−ジアザ−4
−オキサビシクロ〔3.2.0〕エプタン〔6〕の
製造 2−フエニルオキサゾリノアゼチジノン〔5〕
1.0g(5.31ミリモル)の無水塩化メチレン15ml
懸濁液に、氷冷下トリエチルアミン1.11ml(7.97
ミリモル)、およびt−ブチルジメチルシリルク
ロリド1.21g(7.97ミリモルあを加えて室温で1
〜1.5時間撹拌する。懸濁液が透明になつてから
更に30分間撹拌を続けた後、水および食塩水で洗
浄し、MgSO4で乾燥する。過し、溶媒を減圧
下で留去すると、結晶性の表記シリル体〔6〕
1.6g(収率、ほぼ100%)が得られる。 IR(CHCl3):1765、1635、1602、1580、1326、
1170、846、826cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):0.27および0.31
(6H、s、−Si(t−Bu)(CH3 2)、0.93(9H、
s、−S(t−Bu)(CH32)、5.37(1H、d、J
=3.1Hz、Ha(下図参照))、5.83(1H、d、J
=3.1Hz、Hb(下図参照))7.2〜7.6(3H、m、
芳香族プロトン)、7.9〜8.1(2H、m、芳香族プ
ロトン)。 実施例 1 7α−ベンズアミド−3−メチレン−1−デチ
ア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸エ
チル〔10c〕の製造 (1) 2−ヒドロキシイミノアセト酢酸エチル〔4
−c〕の製造 アセト酢酸エチル〔4−Ic〕36.5g(0.281モ
ル)の氷酢酸42ml溶液を氷水で冷やし(〜5℃)、
その溶液にNaNO222.5g(0.321モル)の水50ml
溶液20分間で滴下する。発熱のため、25℃に昇温
する。更に水150mlを追加し、2時間撹拌をつづ
ける。反応液をエーテルで抽出し、その抽出液を
水、冷NaHCO3、食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧で溶媒を留去する。残留物
をトルエン/石油エーテルから結晶化させ、化合
物〔4−c〕36.5g(82%)を得る。 IR(CCl4):3540、3320(ブロード)、1750、1723、
1705、1685、1625、994cm-1 NMR(EM−390(90MHz)、δ):1.33(3H、t、
J=7.5Hz、COOCH2 CH3 )、2.41(3H、s、
CH3CO)、4.39(2H、q、COOCH2 CH3) (2) 2−t−ブチルジメチルシリルオキシイミノ
−3−tブチルジメチルシリルオキシ3−ブテ
ン酸エチル〔4−c〕の製造 (Me3Si)2NH41mlおよびn−BuLiから得た
LiN〔SiMe32のTHFの134ml溶液を−75℃に冷却
し、この溶液に化合物〔4−c〕10.0g
(62.83ミリモル)のTHF50ml溶液を−69〜−71
℃の温度で45分間に滴下し、さらに1時間−70℃
で撹拌する。この反応液にt−BuMe2SiCl29.6g
(0.196モル)のTHF50ml溶液を−70℃で30分間
に滴下し、さらにMe2N(CH22NMe229mlを−70
℃で15分間に滴下し、−70℃で1時間撹拌し、さ
らに3℃で1時間20分を撹拌し続ける。この反応
液に冷水50mlを10℃以下で滴下し、エーテルで抽
出する。抽出液を食塩水で洗浄し、このエーテル
層をPHメーターを用い、1N−HCl(冷却)中和し
(PH11.5から7.4)、水層をエーテルで抽出する。
エーテル層を合わせ、食塩水、NaHCO3、食塩
水で洗浄した後MgSO4で乾燥し、減圧で溶媒を
留去し、化合物〔4−c〕の粗生成物25.4gを
得る、 IR(フイルム):1741、1605、1250、1098、966、
840、784cm-1 (3) 4−t−ブチルジメチルシリル−2−t−ブ
チルジメチルシリルオキシイミノアセト酢酸エ
チル〔4−c〕の製造 化合物〔4−c〕の粗生成物24.3g(60.11
ミリモル)をクロロホルム360mlに溶かし、氷水
で冷却する。この溶液にNaHCO399.5gを加え、
さらにm−CPBA20.1g(99.2ミリモル)のクロ
ロホルム240ml溶液を5〜8℃で20分間で滴下す
る。氷水で冷却しながらさらに16時間撹拌を続け
る。反応液を10%−Na2SO3に注ぎ、クロロホル
ムで抽出する。抽出液をNaHCO3、食塩水で洗
浄した後MgSO4で乾燥する。減圧で溶媒を留去
し、さらにポンプで減圧留去すると油状物質27.7
gが得られる。これをSiO2(150g、ベンゼンだ
けで流出させる)クロマトグラフイーで精製する
とシス・トランス混合物の形の化合物〔4−
c〕14.7g(58%)が得られる。 IR(フイルム):1748、1720、1598、1253、1211、
993、955、832、783cm-1 NMR(EM−390(90MHz)、CDCl3、δ):0.18
(12H、s、−Si(CH3 2Bu×2)、0.91および
0.95(18H、s、−Si(CH32 Bu×2)、1.32(3H、
t、J=7.5Hz、COOCH2 CH3 )、4.32(2H、q、
J=7.5Hz、COOCH2 CH3)、4.65(2H、s、−O
CH2 −CO) (4)3−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−
2−t−ブチルジメチルシリルオキシイミノ−
3−ブテン酸エチル〔4−c〕の製造 メチルトリフエニルホスホニウムブロミド
(Ph3P+CH3Br−、11.1g31.1ミリモル)をエー
テル165mlに懸濁させ、n−BuLiを20分間で滴下
する。更に30分間撹拌した後氷水で5℃に冷却
し、化合物〔4−c〕14.7g(36.4ミリモル)
のエーテル150ml溶液を5℃前後の温度で、35分
間で滴下し、さらに15分間撹拌した後
HMPA15.6mlを3℃で添加し、5℃で1時間40
分撹拌する。この反応溶液に飽和NH4Cl溶液150
mlを10℃で、10分間で加える。水層をエーテルで
抽出し、抽出液を飽和NH4Cl溶液、飽和
NaHCO3溶液、食塩水で洗浄した後MgSO4で乾
燥し、減圧濃縮すると油状物質13.7gが得られ
る。この油状物質をシリカゲルクロマトグラフイ
ー(SiO2160g、溶媒CH2Cl2)で分離精製し、シ
ス・トランス混合物の形の化合物〔4−c〕
7.02g(48%)を得る。 IR(フイルム):1740、1640、1258、1124、1070、
976、840、789cm-1 NMR(T−60(60MHz)、CDCl3、δ):0.09(6H、
s、O−Si(CH3 )Bu)、0.17(6H、s、N−O
−Si(CH3 )Bu)、0.93(18H、s、t−Bu×
2)、1.33(3H、t、J=7.5Hz、COOCH2
CH3)、4.32(2H、q、J=7.5Hz、COOCH2
CH3)、4.38(2H、ブロードs、−OCH2 −C
(=CH2)−)、5.28(1H、ブロード、
【式】)、5.77(1H、ブロード、 【式】 (5) 3−ヒドロキシメチル−2−オキシイミノ−
3−ブテン酸エチル〔4−c〕の製造 化合物〔4−c〕4.70g(11.7ミリモル)の
エーテル/H2O(90ml/12ml)溶液に、冷時
1NHClEtOH溶液58.5ml(5当量)を加え、氷冷
下で17時間撹拌する。反応液を1/3〜1/5容量に濃
縮し、氷水を加えてクロロホルムで抽出する。抽
出液を食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥した後減
圧下で溶媒を留去すると化合物〔4−c〕の粗
生物が得られる。これをLobar カラムCを用い
てクロマトグラフイーし(ベンゼン/酢酸エチル
=2/1)、目的物1.82g(90%)を得る。1部
をエーテル/n−ペンタンから再結晶し、融点38
〜45℃の結晶を得る。 元素分析: 理論値(%) 48.55 6.40 8.09 実測値(%) 47.12 6.20 7.79 IR(CHCl3):3570、3270(ブロード)、1740、
1630、1092、1032cm-1 NMR(EM−390(90MHz)、CDCl3、δ):1.33
(3H、t、J=7.5Hz、COOCH2C 3)、4.36
(2H、s、HO−C 2−)、4.37(2H、q、J
=7.5Hz、COOC 2CH3)、5.29(1H、s、
【式】)、9.5〜10.3(1H、ブロードs、= N〜O) MASS:M+173 13C−NMR(XL−100、CDCl3):14.1(COOCH2
CH3)、62.1(HOH2−およびCOO
H2CH3)、120.0(=・)、139.1(=)、151.7
=N〜OH)、163.8(OO−) (6) 2−ジアゾ−3−ヒドロキシルメチル−3−
ブテン酸エチル〔4c〕の製造 化合物〔4c〕1.0g(5.78ミリモル)の
CH2Cl220ml溶液に、−40℃でn−BuLiのヘキサ
ン溶液(1.1当量)を加え、約15分間この温度で
撹拌する。反応液を−20℃にし、O−メシチレン
スルホニルヒドロキシルアミン1.06g(5.78ミリ
モル)のCH2Cl210ml溶液を30分間で滴下し、こ
の温度30分間、さらに0℃で30分間撹拌した後氷
水に注ぎ、エーテルで抽出する。抽出液を食塩水
で洗浄した後MgSO4で乾燥し、減圧留去する。
残留物をLobar カラムB(ベンゼン/酢酸エチ
ル=2/1)で分離精製し、目的化合物〔4c〕
442ml(45%)を得る。 IR(CHCl3):3599、2120、1740、1602cm-1 NMR(EM−390(90MHz)、CDCl3、δ):1.33
(3H、t、J=7.5Hz、COOCH2 CH3 )、4.36
(2H、s、HO−CH2 −)、4.37(2H、q、J=
7.5Hz、COOCH2CH3)、5.32(1H、ブロードs、
【式】)、5.84(1H、ブロードs、 【式】) (7) 3α−ベンズアミド−4β−(3−カルベトキシ
−3−ジアゾ−2−メチレンプロピル)オキシ
−1−t−ブチルジメチルシリル−アゼチジン
−2−オン〔8c〕の製造 化合物〔4c〕100mg(0.588ミリモル)、化合物
〔6c〕178mg(0.588ミリモル)を酢酸エチル3ml
に溶かし、室温でBF3・Et2O(0.05当量)を加え
て1時間撹拌する。酢酸エチルで希釈した後
NaHCO3水溶液、食塩水で洗浄し、溶媒を減圧
下で留去する。残留物をLobar カラムB(ベン
ゼン/酢酸エチル=2/1)で分離精製し、化合
物〔8c〕94mg(60%)を得る。 IR(CHCl3):3430〜3350、2120、1760、1739、
1661、601cm-1 NMR(XL−100A(100MHz)、CDCl3、δ):0.28
(6H、s、−Si(CH 32Bu)、1.34(3H、t、J
=7.0Hz、COOCH2 CH 3)、4.39(2H、q、J=
7.0Hz、COOCH2 CH3)、4.4−4.6(2H、m、−O
−CH2 −)、4.75(1H、d、J=7.0Hz、C7
H)5.04(1H、s、C6−H)、5.46および5.84
(1H、ブロードs、オレフインプロトン)、
7.15(1H、d、J=7.0Hz、CON)7.3〜7.9
(5H、m、芳香族プロトン) (8) 3α−ベンズアミド−4β−(3−カルベトキシ
−3−ジアゾ−2−メチレンプロピル)オキシ
ゼチジン−2−オン〔9c〕の製造 化合物〔8c〕90mg(0.190ミリモル)をエタノ
ール2ml、水0.25mlの混合物に溶かし、この溶液
に氷冷下で1NHCl−EtOH溶液(3当量)を加
え、氷冷下で10時間撹拌する。反応の途中で化合
物〔9c〕の白色沈殿が析出する。反応混合物に水
5mlを加えて30分間撹拌し、白色沈殿を取し、
冷エタノールで洗浄した後乾燥すると化合物
〔9c〕68mg(80%)が得られる。 IR(ヌジヨール):3310、2120、1772、1695、
1640cm-1 (9) 7α−ベンズアミド−3−メチレン−1−デ
チア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸
エチル〔10c〕の製造 化合物〔9c〕60mg(0.167ミリモル)をベンゼ
ン/ジクロロメタン(1/1)混液3mlに溶か
し、Rh2(OAc)4(1モル%)を加え、45分間還流
する。反応後に酢酸エチル10mlを加え、水、食塩
水で洗浄した後MgSO4で乾燥する。溶媒を減圧
で留去し、残留物をクロマトグラフイー(SiO23
g、溶出液:ベンゼン/酢酸エチル=2/1)に
かけて精製すると化合物〔10c〕48mg(87%)が
得られる。 IR(CHCl3):3440、1770、1735、1668、1600cm-1 NMR(EM−390(90MHz)、CDCl3、δ:1.20
(3H、t、J=7.5Hz、COOCH2 CH3 )、4.13
(2H、q、J=7.5Hz、COOC 2CH3)、4.29
(2H、ブロードs、C2−2H)、4.97(1H、d、
J=7.0Hz、C7−H)、5.02(1H、s、C4−H)、
4.21および4.25(2H、s、オレフインプロト
ン)、4.34(1H、ブロードs、C6−H)、7.2〜
7.5および7.7〜7.9(5H、m、芳香族プロトン) 実施例 2 7α−ベンズアミド−3−メチレン−1−デチ
ア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸エチ
ル〔10c〕の別途合成 (1) オキシム体〔8−a〕の製造 化合物〔3a〕(21.9g、0.15モルの酢酸(23ml)
溶液にNaNO2(11.8g、0.171モル)の水溶液(27
ml)を撹拌下10℃にて30分間で滴下する。反応液
を1時間室温で撹拌し、氷水を加えメチルエチル
ケトン、酢酸エチル(1:1)の混合溶媒で抽出
する。抽出液を食塩水、1Nの冷NaOH、H2O、
食塩水で洗浄后、MgSO4で乾燥、減圧で溶媒留
去后油状のオキシム体〔8−a〕を22g(84
%)得る。 NMR(EM−390、CDCl3、δ):1.31(3H、t、
J=7.5Hz、COOCH3 CH 3)、4.34(2H、q、J
=7.5Hz、COOCH 2CH3)、4.67(2H、S、−CH
2OH)、5.80(1H、brS、OH) (2) 水酸基保護化合物〔8−a〕の製造 化合物〔8−a〕(22g、0.126モル)の無水
CH2Cl2(370ml)溶液に室温にてジヒドロピラン
(23ml、0.252モル)及びピリジニウムp−トルエ
ンスルホネート(3.16g、0.0126モル)を加え、
同温度にて1時間撹拌をつづける。反応液を氷水
に注ぎCH2Cl2にて抽出する。抽出液をH2O、
NaHCO3、食塩水で洗浄后、MgSO4で乾燥、減
圧濃縮し、油状物質37gを得る。この油状物質を
シリカゲルクロマトグラフイー(SiO2600g、ベ
ンゼン:酢酸エチル=9:1)で精製し13.8ml
(73%)の化合物〔8−a〕を得る。 IR(フイルム):3230、1739、1705、1630、1302、
1210、1135、1022cm-1 NMR(T−60、CDCl3、δ):1.33(3H、t、J
=7.5Hz、COOCH2 CH 3)、1.51〜1.98(6H、m
【式】)、4.34(2H、q、J=7.5Hz、 COOCH 2CH3)、4.74(3H、brs、
【式】および【式】)、11.13 (1H、brs、=N〜OH) (3) オレフイン体〔8−a〕の製造 化合物〔8−a〕(18.5g、71.4ミリモル)
の無水CH2Cl2(95ml)溶液に、5℃にてt−ブチ
ルジメチルシリルクロリド(11.29g、74.9ミリ
モル)及びEt3N(11.0ml、78.5ミリモル)を加え
3℃にて1.5時間、室温にて30分間撹拌をつづけ、
冷やしたn−ヘキサン中に注ぐ。析出した
Et3N・HCl塩を過し、液を減圧濃縮したシ
リル体25.6gを得る〔IR(フイルム)、1740、
1708、1592、1210、1017、994、828cm-1;NMR
((CDCl3、δ)0.24(6H、S)、0.93(9H、S)、
1.32(3H、t、J=7.5Hz)、1.45〜1.93(6H、m)、
3.4〜4.0(2H、m)、4.35(2H、q、J=7.5Hz)
4.65(1H、S)4.71(2H、brs)〕 Ph3pCH3Br(79.02g、0.221モル)を乾燥エー
テル(790ml)に懸濁させ、これに1.67NのBuLi
(128ml、0.214mole)を室温N2気流中にて滴下す
る。1時間撹拌をつづけた后、黄色の懸濁液を5
℃に冷却し、シリル体25.6gのエーテル(50ml)
溶液を4〜5℃にて30分で滴下、つづいて
HMPA(37ml、0.214mole)を一時に加える。6
〜9℃に1時間20分撹拌をつづける。この反応液
に飽和のNH4Cl200mlを20分間に滴下し、不溶物
を取する。取をH2O、食塩水で洗浄し、
MgSO4で乾燥后減圧にて溶媒留去し、油状物質
36gを得る。この油状物質をTHF(260ml)にと
かし氷水下Et4NF・2H2O(25.0g135ミリモル)
を加え5℃で30分、室温で1時間撹拌をつづけ
る。反応液を氷水中に注ぎ、エーテル抽出する。
抽出液をH2O、食塩水で洗浄后、MgSO4乾燥し、
減圧にて溶媒留去し油状物質を得る。これをシリ
カゲルクロマトグラフイーにて分離精製し、8.9
g(49%)のオレフイン体〔8−a〕を得る。
mp.71〜72℃ IR(ヌジヨール):3180、1729、1608、1230、
1027、984cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):1.36(3H、t、
J=7.5Hz、COOCH2 CH 3)、1.5〜1.9(6H、m、
【式】)、3.45〜4.05(2H、m、 【式】)4.30および4.49(2H、 ABq、JAB=15.0Hz、THPOCH 2−)、4.39(2H、
q、J=7.5Hz、COOCH 2CH3)、4.77(1H、brs
【式】)、5.35および5.75(各々S、2H、 オレフインプロトン)、9.47(1H、S、N−
OH)。 (4) ヒドロキシ化合物〔8−a〕の製造 化合物〔8−a〕(1.028g、4.0ミリモル)
のCH3OH(10ml)溶液に、室温にてp−TsOH・
H2O(38mg、0.05モル当量)を加え1時間45分撹
拌する。反応液を減圧にして1/5容量まで濃縮し、
酢酸エチルで希釈する。この溶液に氷冷下
1NNaOHを加えしばらく撹拌する。酢酸エチル
層をH2O、食塩水で洗浄后、乾燥(MgSO4)し、
減圧にて溶媒留去する。残渣をLobarカラムB
(ベンゼン:酢酸エチル4:1〜2:1)で精製
し0.69g(定量的)の化合物〔8−a〕を得
る。mp.38〜45℃ IR(CHCl3):3570、3270、1740、1630、1092、
1032cm-1 1H−NMR(EM−390、CDCl3、δ):1.33(3H、
t、J=7.5Hz、COOCH2 CH 3)、4.36(2H、
brs、HO−C 2)、4.37(2H、q、J=7.5Hz、
COOCH 2CH3)、5.29および5.67(各々s、2H、
オレフインプロトン)、9.90(1H、brS、=N−
OH) 13C−NMR(XL−100、CDCl3、δ):14.1
(COOCH2 H3)、6.21(HOH2−およびCOO
CH2CH3)、120.0(C=H2)、139.1(
CH2)、151.7(=N−OH)、163.8(
OOEt) (5) アゼチジノン化合物〔8−a〕の製造 シリル化したオキサゾリノアゼチジノン化合物
〔6〕(540mg、1.78ミリモル)及び化合物〔8−
a〕(371mg、2.14ミリモル)を無水の酢酸エチ
ル(1.1ml)に溶解し、この溶液にBF3・Et2O
(11μl、0.05モル当量)を加え室温にて1時間撹
拌する。酢酸エチルで希釈后酢酸エチル層を冷
NaHCO3、食塩水で洗浄、乾燥(MgSO4)し、
減圧にて溶媒留去する。残渣をLobarカラム
“B”(ベンゼン:酢酸エチル=4:1)を用いて
クロマトグラフイーを行い化合物〔8−a〕を
595mg(70%)、化合物〔8−a〕を149mg得る。
化合物〔8−a〕のmp72〜74℃。 IR(CHCl3):3560、3260、1755、1740、1663、
1602、1580、1083cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):0.23および0.27
(各々S、6H、【式】)、0.97(9H、S、SiC (CH33)、1.31(3H、t、J=7.5Hz、COOCH2
CH3)、4.29および4.46(2H、ABq、JAB=12Hz、
OCH2−)、4.34(2H、q、J=7.5Hz、COOCH
2CH3)、4.60(1H、d、J=6.5Hz、
【式】)、5.10(1H、S、 【式】)、5.31および5.67(各々S、 2H、オレフインプロトン)、7.2〜7.5および7.6
〜7.9(各々m、6H、芳香族プロトン)、99.4
(1H、brs、N−OH) (6) 化合物〔8c〕の製造 オキシム体〔8−a〕(300mg、0.631ミリモ
ル)を無水CH2Cl3(6mlにとかし−70℃に冷却す
る。この溶液に1.67NのBuLi0.81ml(1.35ミリモ
ル)を10分間に同温度で下する。この溶液に新た
に調製したO−メジチレンスルホルヒドロキシル
アミン285mg(1.35ミリモル)を加え、−70℃で1
時間、−50〜0℃で2時間撹拌をつづける。反応
液に氷水加え、CH2Cl2にて抽出する。抽出液を
H2O、食塩水で洗浄し、乾燥(MgSO4)後、溶
媒を留去し、油状物質を得る。この残渣油状物質
をカラム(B)を用いてクロマトグラフイーを行い、
ジアゾエステル化合物〔8c〕を161mg(54%)、
〔8−a〕を60mg得る。 〔8c〕;IR(CHCl3):3425、〜3300、2090、
1750、1695、1665、1619、1605、1580、1080cm
-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):0.22および0.29
(各々S、6H、【式】)、0.97(9H、S、 【式】1.26(3H、t、J=7.5Hz、 COOCH2 CH 3)、4.24(2H、q、J=7.5Hz、
COOCH 2CH3)、4.44(2H、brS、OCH2−)、
4.68(1H、d、J=6.3Hz、【式】)、4.94 (1H、brS、【式】)、5.19および5.51 (各々S、2H、オレフインプロトン)、7.3〜7.5
および7.7〜8.0(各々m、6H、芳香族プロトン) (7) 化合物〔9c〕の製造 化合物〔8c〕(109mg、0.231ミリモル)のTHF
(0.6ml)溶液に氷冷下(0〜5℃)Et4N+F・
2H2O(64mg、0.345ミリモル)を加え、同温度で
30分撹拌する。反応液に氷水を加え、CH2Cl2
て抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥
(MgSO4)後、減圧で溶媒留去し、油状物質を得
る。この物質をLobarカラム(B)(ベンゼン:酢酸
エチル=1:1)にてクロマトグラフイーを行い
化合物〔9c〕58mg(70%)を得る。 IR(CHCl3):3410、〜3300、2090、1780、1686
〜1666、1617、1580、1094cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):1.24(3H、t、
J=7.5Hz、COOCH2 CH 3)、〜2.5(1H、brS、
【式】)、4.21(2H、q、J=7.5Hz、COOCH2CH3)、4.31(2H、S、OCH2)、4.78(1H、
d、J=7.0Hz【式】)、5.19および5.47 (各々S、3H、オレフインプロトンおよび
【式】)、7.2〜7.5および7.7〜7.9(各々 m、6H、芳香族プロトン) (8) 目的化合物〔10c〕の製造 化合物〔9c〕(55mg、0.153ミリモル)の無水ベ
ンゼン(1.7ml)溶液にRh2(OAc)4(1.3mg、2モ
ル%)を加え加熱還流する。30分后、反応液に酢
酸エチルを加え、食塩水で洗浄、乾燥(MgSO4
し、減圧下で溶媒を留去し、粗〔10c〕を得る。
Lobarカラム(B)(ベンゼン:酢酸エチル=4:
1)にて精製し、化合物〔10c〕20mg(40%)を
得る。 IR(CHCl3):3435、1770、1736、1665cm-1 1H−NMR(EM−390、CDCl3、δ):1.25(3H、
t、J=7.5Hz、COOCH2 CH 3)、4.19(2H、q、
J=7.5Hz、COOCH 2CH3)、5.01(1H、d、J
=7.8Hz、C7−H)、5.04(1H、S、C4−H)、
5.24および5.28(各々S、2H、オレフインプロ
トン)、5.31(1H、S、C6−H)、7.3〜7.6およ
び7.7〜7.9(各々m、各々3H、芳香族プロト
ン)。 13C−NMR(XL−100A、CDCl3、δ):13.9
(COOCH2 CH 3)、55.8(C−4)、62.1(C−1
およびCOOH2CH3)、83.9(C−6)117.2(C
−3′)、133.3(C−3)、164.4(C−8)、167.6
OOC2H5)、168.2(CONH2)、および芳香族
炭素。 実施例 3 7α−ベンズアミド−3−メチレン−1−デチ
ア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステル〔10d〕の合成 (1) オキシム体〔8−b〕の製造 化合物〔3d〕(10g、35.2ミリモル)の酢酸
(10ml溶液にNaNO2(2.67g、38.7ミリモル)の水
溶液(10ml)を10℃にて20分間に滴下する。室温
にて1時間撹拌つづけ、氷水に注ぐ。酢酸エチル
で抽出し、抽出液を食塩水、INの冷NaOH、
H2O食塩水に洗浄する。Mg2SO4で乾燥后減圧に
て溶媒留去し、粗オキシム体〔8−b〕を得
る。メチレンクロリド:n−ヘキサン(1:5)
から結晶化し淡黄色結晶8.27g(75%)得る。
mp.116.5〜118°(分解) IR(CHCl3):3430、3150、1740、1690、1601、
1220、1041、958、698cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、CD3OD(9:1)、
δ):3.37(1H、brS、OH)、4.64(2H、S、HO
CH2−)、7.07(1H、S、CHph2)、7.2〜7.5
(10H、m、芳香族プロトン)、12.07(1H、
brS、=N−OH) (2) 水酸基保護化合物〔8−b〕の製造 化合物〔8−b〕(8g、25.5ミリモル)の
無水CH2Cl2(15ml)溶液に室温にてジヒドロピラ
ン(6.44g、76.6ミリモル)及びピリジニウムp
−トルエンスルホネート(643mg、2.56ミリモル)
を加え、室温にて1時間撹拌をつづける。反応液
を氷水に注ぎ、CH2Cl2にて抽出する。抽出液を
H2O、NaHCO3水、食塩水で洗浄し、乾燥
(MgSO4)する。減圧にて溶媒留去し、油状物質
を得る。シリカゲルクロマトグラフイー
(SiO2150g、ベンゼン;酢酸エチル=4:1)
にて分離精製し、化合物〔8−b〕8.02g(79
%)を得る。一部をエーテル、n−ヘキサンから
再結晶し、mp128〜129℃(分解)の結晶を得る。 IR(ヌジヨール):3180、1747、1703、1626、
1198、1141、1026、694cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):1.3〜1.9(6H、
m、【式】)、3.3〜4.1(2H、m、 【式】)、4.78(2H、S、OCH2−)、 7.07(1H、S、CHph2)、7.2〜7.5(10H、m、
芳香族プロトン)、10.23(1H、brS、=N−OH) (3) ヒドロキシ化合物〔8−b〕の製造 化合物〔8−b〕(7.3g、18.4ミリモル)の
乾燥CH2Cl2(73ml)溶液に氷冷下(0〜3℃)
Et3N(3.3ml)、23.9ミリモル)、t−ブチルジメチ
ルイシリルクロリド(2.91g、19.3ミリモル)を
滴下し、2時間3℃〜室温で撹拌をつづける。反
応液をエーテル:n−ヘキサン(1:1)の混合
溶媒に注ぎ、析出するEt3N・HClを取、液
を乾燥后減圧濃縮し、シリル体を得る。 (C6H5)3P+ C H3Br-(20.4g、57.04ミリモル)
を無水エーテル(200ml)に懸濁させ、1.6Nの
BuLi溶液(34.5ml、55.2ミリモル)を室温にて加
え、45分撹拌する。この黄色の懸濁液を4℃に冷
却し、上述のシリル体のエーテル(70ml)溶液を
4〜6℃で滴下する。次いでHMPA(9.6ml、55.2
ミリモル)を加え、4〜6℃で1時間撹拌する。
反応液に飽和NH4Clを加え酢酸エチル抽出し、
抽出液をH2O、食塩水で洗浄した后、乾燥
(MgSO4)、減圧濃縮し、油状物質を得る。
Lobarカラム“B”(ベンゼン:酢酸エチル=
9:1)にて分離精製し、シリル化されたオレフ
イン体〔8−′b〕6.09g(65%)を得る。IR
(CHCl3)1732、1620、1596cm-1;NMR(CDCl3
δ)0.14(6H、S、−Si(CH32)、0.85(9H、S、
SiC(CH33)、1.2〜1.8(6H、m、
【式】)、3.3〜4.0(2H、m、 【式】)4.24および4.50(2H、ABq、J =15Hz、−CH 2OTHP)、4.66(1H、brS、
【式】)、5.16および5.68(各々S、2H、オ レフインプロトン)、7.09(1H、S、CHPh2)、
7.1〜7.6(10H、m、芳香族プロトン) 化合物〔8−′b〕(6.09g、11.9ミリモル)
を1N HCl−MeOH溶液(350ml)にとかし、0
℃で12hr撹拌する。反応液を約1/3まで減圧濃縮
し、飽和食塩水に注ぎ酢酸エチルで抽出する。抽
出液をNaHCO3、H2O、食塩水で洗浄、乾燥
(MgSO4)后、減圧にて溶媒留去する。残渣を
CH2Cl2−n−ヘキサンから結晶化を行い3.16g
の〔8−b〕(85%)を得る。mp.110〜111℃ IR(ヌジヨール):3400、3230、3170、1715、
1624、1612、1584、1237、995、690cm-1 1H−NMR(EM−390、CDCl3、δ):2.98(1H、
brS、CH2O)、4.29(2H、brS、−CH 2OH)、
5.03および5.48(各々S、2H、オレフインプロ
トン)7.10(1H、S、CHph2)、〜7.3(10H、
brS、芳香族プロトン)、9.38(1H、brS、=N−
OH)。 13C−NMR(XL−100A、CDCl3、δ):62.7(−
CH2OH)、78.6(COOHph2)、120.7(C=
CH2)、138.9(=CH2)、151.7(=N−
OH)、162.4(−O2CHph2)、127.5、128.3、
128.5、および139.1(芳香族炭素)。 (4) アゼチジノン化合物〔8−b〕の製造 オキサゾリン化合物〔6〕(303mg、1.0ミリモ
ル)、および化合物〔8−b〕(327mg、1.05ミ
リモル)を無水酢酸エチル(0.6ml)にとかし、
この溶液にBF3・Et2O 6.3μ(0.05ミリモル)
を加えN2気流中、室温で50分撹拌する。反応液
を酢酸エチルで希釈し、冷NaHCO3、H2O、食
塩水で洗浄、乾燥(MgSO4)し、減圧にて溶媒
留去し油状物質を得る。Lobarカラム“B”(ベ
ンゼン:酢酸エチル=4:1)にて分離、精製を
行い、エーテル−石油エーテルから再結晶を行い
化合物〔8−b〕を結晶として417mg(74%)
得る。クロマト時に化合物〔8−b〕も96mg得
る。mp.146〜7℃ IR(ヌジヨール):〜3200、1740、1635、1225、
1080cm-1 NMR(EM−390、d6−アセトン、δ):0.25およ
び0.28(各々S、6H、Si(CH32)、0.99(9H、
S、SiC(CH33)、4.42および4.47(2H、ABq、
J=13.5Hz、−OCH2−)、4.81(1H、d、J=
7.5Hz、【式】)、5.12(1H、S、 【式】)、5.26および5.65(各々S、2H、 オレフインプロトン)、7.11(1H、S、CH
ph2)、7.2〜7.6および7.8〜8.0(各々m、15H、
芳香族プロトン)、8.45(d、J=7.5Hz、
CONH) (5) 化合物〔8d〕の製造 化合物〔8−b〕(390mg、0.635ミリモル)
の無水CH2Cl2(8ml)溶液を−65℃に冷却し、
N2気流中、1.67NのBuLi(820μ、1.37ミリモ
ル)を5分間に加える。この懸濁液にO−メジチ
レンスルホニルヒドロキシルアミン(287mg、
1.34ミリモル)を−70℃にて20分間に加え、同温
度で1時間、−40〜−35°で1時間、−30°〜0℃で
2時間撹拌をつづける。反応液を氷水中に注ぎ、
酢酸エチル抽出し、抽出液をH2O、食塩水で洗
浄し、乾燥(MgSO4)、減圧濃縮し、残渣を
Lobarカラム“B”にて(ベンゼン:酢酸エチル
=9:1〜4:1)分離、精製し化合物〔8d〕
を淡黄色泡状体として198mg(51%)得る。同時
に出発物質〔8−b〕も52mg(13%)得る。 IR(CHCl3):3430〜3310、2098、1754、1702、
1670、1618、1602、1582、1080cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):0.15および0.23
(各々S、6H、Si(CH32)、0.93(9H、S、SiC
(CH33)、4.47(2H、S、−OCH2−)、4.64
(1H、d、J=6.5Hz、【式】)、4.87 (1H、S、【式】)、5.21および5.57 (各々S、2H、オレフインプロトン)、6.99
(1H、SCHph2)、7.2〜7.5および7.7〜7.9(各々
m、15H、芳香族プロトン)。 (6) 化合物〔9d〕の製造 化合物〔8d〕(160mg、0.262ミリモル)の無水
THF(1.6ml)溶液に氷冷下Et4N+F-・2H2O(58
mg、0.314ミリモル)を加え同温度で55分撹拌す
る。反応後を飽和食塩水に注ぎCH2Cl2で抽出す
る。抽出液をH2O、食塩水で洗浄后、乾燥
(MgSO4)し、溶媒留去し、残渣油状物質を
Lobarカラム“B”(ベンゼン:酢酸エチル=
2:1)にて分離精製し96mg(74%)の化合物
〔9d〕を得る。 IR(CHCl3):3410、2085、1781、1692、1670、
1615、1601、1580、1070cm-1 NMR(EM−390、CDCl3、δ):2.17(1H、br
【式】)4.25(2H、brS、−CH2O)、4.70 (1H、d、J=6.5Hz、【式】)、5.12 (2H、brS、【式】およびオレフインプロ トン)、5.45(1H、S、オレフインプロトン)、
6.93(1H、S、CHph2)、7.1〜7.9(16H、m、
CONHおよび芳香族プロトン)。 (7) 目的化合物〔10d〕の製造 化合物〔9d〕(84mg、0.169ミリモル)の無水ベ
ンゼン(1.7ml)溶液にRh2(OAC4(1.3mg、1.7%
モル当量)を加え加熱還流する。15分でN2の発
生が止まり反応は完結する。溶媒を留去しLobar
カラム“B”(ベンゼン:酢讃エチル=2:1)
にて分離を行い、エーテルから再結晶を行い化合
物〔10d〕34mg(43%)の結晶を得る。mp.155〜
6℃ IR(CHCl3):3440、3330、1775、1742、1670、
1602、1584、1170、1065、908cm-1 1H−NMR(EM−390、CDCl3、δ):4.19(2H、
brs、C2−2H)、4.99(1H、d、J=7.5Hz、C7β
−H)、5.14(1H、S、C4β−H)、5.25、5.28お
よび5.31(各々S、3H、C6α−Hおよびオレフ
インプロトン)、6.84(1H、S、Cph2)、7.2
〜7.5および7.7〜7.9(各々m、16H、CONHお
よび芳香族プロトン)。 13C−NMR(XL−100A、CDCl3、δ):56.0(C
−4)、64.3(C−7)、67.8(C−2)、78.8
(CHph2)、84.0(C−6)、117.6(C−3′)、
132.9(C−3)、163.4(OOCHph2)、167.1(C
−8)、167.4(CONH)および芳香族炭素。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式: で示される2−ジアゾ−3−置換−4−(2−オ
    キソ−3−アミドアゼチジン−4−イル)オキシ
    酢酸エステルをカルベノイド挿入反応に付して
    式: で表わされる7−アミド−1−デチア−1−オキ
    サ−セフアム−4−カルボン酸誘導体を製造する
    方法 [式中、Rはカルボキシ保護基、R1は置換基を
    有していてもよいアルキル、アラルキルまたはア
    リール基、Xは置換基を有していてもよいメチレ
    ン基を表わす。ただし、式[10]において、=X
    の二重結合は環内に移動して3−セフエム環を形
    成していてもよい。]。 2 式: で示されるオキサゾリノアゼチジノン化合物に
    式: で示されるジアゾ酪酸エステル化合物を作用させ
    て式: で示される化合物を得、Z基を水素原子に変換し
    て得た式: で示される2−ジアゾ−3−置換−4−(2−オ
    キソ−3−アミドアゼチジン−4−イル)オキシ
    酢酸エステルをカルベノイド挿入反応に付して
    式: で表わされる7−アミド−1−デチア−1−オキ
    サ−セフアム−4−カルボン酸誘導体を製造する
    第1項に記載の方法 [式中、Yはハロゲン原子またはヒドロキシ基、
    Zは水素原子またはアミノ保護基を表わし、X、
    R1およびRは前記と同意義である。ただし、式
    [10]において、=Xの二重結合は環内に移動して
    3−セフエム環を形成していてもよい。]。 3 式: で示されるオキサゾリノアゼチジノン化合物に
    式: で示されるヒドロキシ酪酸エステル化合物を作用
    させて式: で示される3−置換−4−(2−オキソ−3−ア
    ミドアゼチジン−4−イル)オキシ酪酸化合物と
    し、これをジアゾ化して式: で示される化合物を得、Z基を水素原子に変換し
    て得た式: で示される2−ジアゾ−3−置換−4−(2−オ
    キソ−3−アミドアゼチジン−4−イル)オキシ
    酢酸エステルをカルベノイド挿入反応に付して
    式: で表わされる7−アミド−1−デチア−1−オキ
    サ−セフアム−4−カルボン酸誘導体を製造する
    第1項に記載の方法 [式中、R、R1、X、YおよびZは前記と同意
    義である。ただし、式[10]において、=Xの二
    重結合は環内に移動して3−セフエム環を形成し
    ていてもよい。]。
JP57147268A 1982-08-24 1982-08-24 1−オキサセフアム化合物の製造方法 Granted JPS5936684A (ja)

Priority Applications (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57147268A JPS5936684A (ja) 1982-08-24 1982-08-24 1−オキサセフアム化合物の製造方法
GR72205A GR78932B (ja) 1982-08-24 1983-08-12
US06/523,414 US4539148A (en) 1982-08-24 1983-08-16 Production of 1-oxacephams and intermediates
GB08322116A GB2126223B (en) 1982-08-24 1983-08-17 4-substituted butyric acid derivatives
IE1936/83A IE55873B1 (en) 1982-08-24 1983-08-18 4-substituted butyric acid derivatives
DE8383401689T DE3377276D1 (en) 1982-08-24 1983-08-19 A novel production of 1-oxacephams
EP83401689A EP0102893B1 (en) 1982-08-24 1983-08-19 A novel production of 1-oxacephams
DK385983A DK385983A (da) 1982-08-24 1983-08-23 Fremgangsmaade til fremstilling af 1-oxacephamer
IL69546A IL69546A (en) 1982-08-24 1983-08-23 3-hydroxymethyl-3-butenoic acid derivatives,processes for their preparation and process for the preparation of antibacterial 1-oxacepham derivatives using them
HU832963A HU191875B (en) 1982-08-24 1983-08-23 Process for producing 7-alpha-/acyl-amino/-3-/exomethylene or oxo/-1-dethia-1-oxacephame-4-carboxylic acid esters
CA000435289A CA1227482A (en) 1982-08-24 1983-08-24 Production of l-oxacephams
KR1019830003960A KR900004149B1 (ko) 1982-08-24 1983-08-24 1-옥사세팜 화합물의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57147268A JPS5936684A (ja) 1982-08-24 1982-08-24 1−オキサセフアム化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5936684A JPS5936684A (ja) 1984-02-28
JPH0355475B2 true JPH0355475B2 (ja) 1991-08-23

Family

ID=15426375

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57147268A Granted JPS5936684A (ja) 1982-08-24 1982-08-24 1−オキサセフアム化合物の製造方法

Country Status (12)

Country Link
US (1) US4539148A (ja)
EP (1) EP0102893B1 (ja)
JP (1) JPS5936684A (ja)
KR (1) KR900004149B1 (ja)
CA (1) CA1227482A (ja)
DE (1) DE3377276D1 (ja)
DK (1) DK385983A (ja)
GB (1) GB2126223B (ja)
GR (1) GR78932B (ja)
HU (1) HU191875B (ja)
IE (1) IE55873B1 (ja)
IL (1) IL69546A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0115770B2 (en) * 1983-01-07 1996-06-19 Takeda Chemical Industries, Ltd. Thiazole Derivatives
JPH0830051B2 (ja) * 1986-05-21 1996-03-27 武田薬品工業株式会社 4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミドの製造法
US4775745A (en) * 1986-12-08 1988-10-04 National Distillers And Chemical Corporation Diazonium compounds useful as components for nucleic acid probes
GB8707515D0 (en) * 1987-03-30 1987-05-07 Fujisawa Pharmaceutical Co Amino acid derivatives

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1345081A (en) * 1973-09-14 1974-01-30 Lonza Ag Process for the preparation of ypsilon-alkoxy-acetoacetic esters
US4011216A (en) * 1975-04-11 1977-03-08 Bristol-Myers Company Δ2,3-0-2-Isocephem-4-carboxylic acid and derivatives thereof as antibacterial agents
GB1533049A (en) * 1976-04-15 1978-11-22 Bristol Myers Canada Ltd O-2-isocephem compounds and their preparation
JPS604811B2 (ja) * 1976-07-28 1985-02-06 塩野義製薬株式会社 メチルケトンのハロゲン化
JPS5398951A (en) * 1977-02-08 1978-08-29 Shionogi & Co Ltd Azetidinone derivatives and process for their preparation
CH649984A5 (de) * 1981-06-17 1985-06-28 Lonza Ag 4-hydroxyacetessigsaeureethylester.
JPS58103391A (ja) * 1981-12-11 1983-06-20 Meiji Seika Kaisha Ltd 1−オキサデチア−セフエム誘導体の製造法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0102893A1 (en) 1984-03-14
IE55873B1 (en) 1991-02-14
DK385983A (da) 1984-02-25
KR900004149B1 (ko) 1990-06-16
IL69546A (en) 1988-03-31
IL69546A0 (en) 1983-11-30
KR840005815A (ko) 1984-11-19
GB2126223A (en) 1984-03-21
DE3377276D1 (en) 1988-08-11
IE831936L (en) 1984-02-24
GB8322116D0 (en) 1983-09-21
CA1227482A (en) 1987-09-29
GR78932B (ja) 1984-10-02
US4539148A (en) 1985-09-03
HU191875B (en) 1987-04-28
EP0102893B1 (en) 1988-07-06
DK385983D0 (da) 1983-08-23
JPS5936684A (ja) 1984-02-28
GB2126223B (en) 1986-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5874581A (en) 2-silyloxy-tetrahydrothienopyridine, salt thereof and process for preparing the same
JP3717053B2 (ja) プロスタサイクリン誘導体の立体選択的合成法
JP3771566B2 (ja) 1−オキサセファロスポリン−7α−メトキシ−3−クロルメチル誘導体の製法
Gordon et al. Sulfenyl transfer rearrangement of sulfenimines (thiooximes). A novel synthesis of 7. alpha.-methoxycephalosporins and 6. alpha.-methoxypenicillins
JPS5892672A (ja) チアゾリン化合物およびその製造法
US4443373A (en) Process for the production of antibiotic penems
JPH0246593B2 (ja)
JPH0355475B2 (ja)
US5162524A (en) Processes for making cephems from allenylazetidinone derivatives
JPH0327554B2 (ja)
US5162521A (en) Processes for making cephems from allenylazetidinone derivatives
US4845257A (en) 4-halogeno-2-oxyimino-3-oxobutyric acids and derivatives
US5412091A (en) 16-methyl-Δ1,4-pregnadiene-3,20-dione
JPS6228786B2 (ja)
US4595750A (en) Process for chiral synthesis of 1-β-methylcarbapenem intermediates
US4558124A (en) Preparation of cephalosporin intermediate compounds
US5266691A (en) Processes for making cephems from allenylazetidinone derivatives
EP0971919B1 (en) Process for preparation of 4h-4-oxo-quinolizine-3-carboxylic acid derivatives
US4640798A (en) Intermediates for the preparation of penicillin and cephalosporin compounds
US4235779A (en) Bicyclic lactones
JPH03385B2 (ja)
JPH0558638B2 (ja)
JPH0354110B2 (ja)
JPH04279564A (ja) スルホニル化合物およびビタミンaまたはそのエステルを製造する方法における中間体としての前記化合物使用
CA1240985A (en) Preparation of cephalosporins