JPH0354750A - 光磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体とその製造方法Info
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- JPH0354750A JPH0354750A JP19076289A JP19076289A JPH0354750A JP H0354750 A JPH0354750 A JP H0354750A JP 19076289 A JP19076289 A JP 19076289A JP 19076289 A JP19076289 A JP 19076289A JP H0354750 A JPH0354750 A JP H0354750A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は，情報の記録、読みだしを、光ビームを介して
行う光磁気記録媒体の製造方法に係わり、特に光磁気記
録媒体の寿命の改善に関する．〔発明の概要ｊ 本発明は、希土類及び遷移金属から成る光磁気記録層と
、その保護層として、アラミド繊維及びポリペリレンを
含有する薄膜層とを有する光磁気記録媒体と，その製造
方法に関するちのである．前記保護層は、次の特徴をも
っていること、また記録層形成と相前後して，この保護
層を形成することが極めて容易である． ｌ）Ｑ膨張係数等の記録層に近い為に記録層との密着性
が優れている． ２）記録層と同等かそれ以上に緻密であり、気体をほと
んど通過しない． ３）それ自体安定な炭化物あるいは、炭素又は窒素との
混合物を形成しｉｌｉ１酸化性、耐候性、ｉｉ１熱性、
耐湿性等に優れた特性を有する． ［従来の技術１ 希土類及び、遷移金属からなる非晶質合金薄膜層は、光
磁気記録媒体として以下の優れた特徴を有している． ｌ）非晶質故に粒界雑音が無い． ２）広い組成範囲で垂直田気異方性を有する．３）特に
基板材料に限定されず、ガラス、シリコンウエハーある
いは、アクリル等の有機材料といった安価な基板を使う
事ができる。
行う光磁気記録媒体の製造方法に係わり、特に光磁気記
録媒体の寿命の改善に関する．〔発明の概要ｊ 本発明は、希土類及び遷移金属から成る光磁気記録層と
、その保護層として、アラミド繊維及びポリペリレンを
含有する薄膜層とを有する光磁気記録媒体と，その製造
方法に関するちのである．前記保護層は、次の特徴をも
っていること、また記録層形成と相前後して，この保護
層を形成することが極めて容易である． ｌ）Ｑ膨張係数等の記録層に近い為に記録層との密着性
が優れている． ２）記録層と同等かそれ以上に緻密であり、気体をほと
んど通過しない． ３）それ自体安定な炭化物あるいは、炭素又は窒素との
混合物を形成しｉｌｉ１酸化性、耐候性、ｉｉ１熱性、
耐湿性等に優れた特性を有する． ［従来の技術１ 希土類及び、遷移金属からなる非晶質合金薄膜層は、光
磁気記録媒体として以下の優れた特徴を有している． ｌ）非晶質故に粒界雑音が無い． ２）広い組成範囲で垂直田気異方性を有する．３）特に
基板材料に限定されず、ガラス、シリコンウエハーある
いは、アクリル等の有機材料といった安価な基板を使う
事ができる。
４）蒸着法、スパッタ法等簡便な製膜技術が適応でき、
量産性が高い。
量産性が高い。
しかしながら、大気中で容易に酸化され易く存命の点か
ら信頼性に欠ける短所がある．媒体の記録特性を損なう
事なく、前記した短所を改善するためには、希土類遷移
金属合金層の上に酸化防止を目的とした保護層を被覆す
るのが、効果的であると知られている。
ら信頼性に欠ける短所がある．媒体の記録特性を損なう
事なく、前記した短所を改善するためには、希土類遷移
金属合金層の上に酸化防止を目的とした保護層を被覆す
るのが、効果的であると知られている。
従来技術では、かかる保護層として蒸着法または、スバ
ック法で形成した硅素第一酸化物あるいは、硅素第二酸
化物、ないしスビナー法で形成した有機材料が用いられ
ている． しかしながら、かかる従来技ｉホｉにおいては保訝層の
材料しいては、物性が、記録層と大幅に７４なるために
次の欠点があった。
ック法で形成した硅素第一酸化物あるいは、硅素第二酸
化物、ないしスビナー法で形成した有機材料が用いられ
ている． しかしながら、かかる従来技ｉホｉにおいては保訝層の
材料しいては、物性が、記録層と大幅に７４なるために
次の欠点があった。
１）保護層の厚さを、Ｉｕｍ以上にすると♀リ離し易い
。
。
２）保護層が緻密さ１こ欠落し，保謹層の厚さが、ｌｕ
ｍ程度では記録層の酸化を回避できない。
ｍ程度では記録層の酸化を回避できない。
［発明が解決しようとする課題１
本発明は、Ｉｉ７１記した従来技術の問題点を解決する
為になされたちのであり、記録層と保護層とを具備する
光磁気記録媒体において、記録層との密日性が良好で、
充分な緻密性を有し、かつそれ自身副酸化性、耐熱性に
優れた保護層を有する光６ｉ１気記録媒体とその媒体を
簡便に製造する方法を提供する６のである． ［課題を解決するための手段］ 本発明の光＆ｆｉ気記録媒体は、 ■希土類及び遷移金属を含有する非晶質合金からなり、
かつ基板面に垂直に磁化容易軸を有する記緑層となる薄
膜層と、保護層となる薄膜層とを、具備した光磁気記録
媒体において、前記保護層が、真空成膜法により形成さ
れたアラミド繊維及びポリペリレンからなることを特徴
とする．■前記真空成膜法が熱蒸着法であることを特徴
とする． ■前記真空成膜法が、スバンタｌ去であることを特徴と
する． 本発明の先磁気記録媒体の製造方法は、■希土類及び遷
移金属を含有する非晶質合金からなり、かつ基盤面に垂
直に！ｉｎ化容易軸を有する記録層となる薄膜層と、保
護層となる薄模層とを具備した光記録媒体の製造方法に
おいて，前記保謹層が、アラミド繊維及びポリペリレン
を用いた真空成摸注により形成されることを特徴とする
。
為になされたちのであり、記録層と保護層とを具備する
光磁気記録媒体において、記録層との密日性が良好で、
充分な緻密性を有し、かつそれ自身副酸化性、耐熱性に
優れた保護層を有する光６ｉ１気記録媒体とその媒体を
簡便に製造する方法を提供する６のである． ［課題を解決するための手段］ 本発明の光＆ｆｉ気記録媒体は、 ■希土類及び遷移金属を含有する非晶質合金からなり、
かつ基板面に垂直に磁化容易軸を有する記緑層となる薄
膜層と、保護層となる薄膜層とを、具備した光磁気記録
媒体において、前記保護層が、真空成膜法により形成さ
れたアラミド繊維及びポリペリレンからなることを特徴
とする．■前記真空成膜法が熱蒸着法であることを特徴
とする． ■前記真空成膜法が、スバンタｌ去であることを特徴と
する． 本発明の先磁気記録媒体の製造方法は、■希土類及び遷
移金属を含有する非晶質合金からなり、かつ基盤面に垂
直に！ｉｎ化容易軸を有する記録層となる薄膜層と、保
護層となる薄模層とを具備した光記録媒体の製造方法に
おいて，前記保謹層が、アラミド繊維及びポリペリレン
を用いた真空成摸注により形成されることを特徴とする
。
■前記真空成１１Ｊｉ法が，熱蒸着法であることを特徴
とする。
とする。
■前記真空成膜法が，スバソタ法であることを特徴とす
る６ ［要 施 例］ 以下、本発明について実施例に基づいて詳細に説明する
． 第１図は、本発明の光ｍ気記録媒体の製造装置である．
一実施例の構成図である。
る６ ［要 施 例］ 以下、本発明について実施例に基づいて詳細に説明する
． 第１図は、本発明の光ｍ気記録媒体の製造装置である．
一実施例の構成図である。
第１図は、スパッタ装置であり、１は密閉性に優れた容
器．２はアラミド繊維及びポリペリレンを含むターゲッ
ト源粒，３は基板，４はＲＦ電源、５はアルゴン（Ａｒ
）ガス導入系，６も同じくアルゴン（Ａｒ）ガス導入系
、７はガス排気系である． 以上の容器１内をｌ ＊ １ ０ −’Ｔｏｒｒ （な
いし１・３ ＊ １ ０−’Ｐａ）以下に真空排気した
後、一定流量のＡｒガスを５を介して導入した容器１内
部のガス圧力を２ ０ ｍＴｏｒｒに維持した．そして
、電源４を投入しＲＦ電力２００ｗで、基板３の上にＴ
ｂ−Ｆｅ合金よりなる記録膜を形成した．次に一旦電源
４をオフにし、２のアラミド繊維及びポリペリレンを含
むターゲット源粒をセットし，再度ＲＦ電力２００Ｗを
投入して、前記した記録膜上にスパッタ源粒であるアラ
ミド繊維及びボリベリレンからなる厚さ５００Ａの保謹
層を形成した． 第２図は、上記した方法で制作した光磁気記録媒体の構
成図である． １３はガラス基板，１２は膜厚１ ０００ＡのＴｂ−Ｆ
ｅ合金からなる記録層、１ｌは膜厚５００人のアラミド
ｍ維及びポリペリレンがらなる保護層である． かかる構成の光記録磁気媒体の情報の記録，読みだし用
の光ビームは基板を介して照射される．第２図に示した
光記録５ｎ気媒体のヒステリシスルーブを、振動試料型
Ｅｎ力計を用いて測定した．測定を前記媒体作成直後及
び温度４０℃，温度９８％の恒温恒湿槽中に１０時間放
置した後で試みた結果、両者で有意差は見られながった
．比較の為に１０００スのＴｂ−Ｆｅ記録層を形成した
単層記録媒体（例−１とする）及び、例−１と同一の．
Ｔｂ−Ｆｅ膜上にスパッタ法でシリコン酸化物膜を保
護層として被覆した２層の記録媒体（例−２とする）を
制作し前記実施例と同一の測定を行った． その結果媒体作製直後の測定では，例−ｌ、例＝２共前
記実施例と同一のヒステリシスルーブを示したが、恒温
恒湿槽内（４０℃、９０％）に１０時間放置した後の測
定では、例−１の場合、飽和磁化、保磁力共ほとんど消
失し、例−２の場合、飽和ｍ化は媒体作製直後の測定値
の約２／３，保磁力は同じ比較で約１７２に低下した．
この比較例からも明らかなように，本発明における保護
層を使用した光磁気記録媒体の寿命は、従来の６のと比
べ格段に耐腐食性が向上していることがわかる． 第３図は、本発明による光磁気記録媒体の他の実施例で
ある．２４はアクリル基板，２３は膜厚ｌＯＯ入以下の
，アラミド繊維及びボリベリレンからなる第一の保護層
，２２は、丁ｂ−Ｆｅ合金からなる記録層，２１は膜厚
５００人のアラミド繊維及びポリペリレンからなる第二
の保護層である。
器．２はアラミド繊維及びポリペリレンを含むターゲッ
ト源粒，３は基板，４はＲＦ電源、５はアルゴン（Ａｒ
）ガス導入系，６も同じくアルゴン（Ａｒ）ガス導入系
、７はガス排気系である． 以上の容器１内をｌ ＊ １ ０ −’Ｔｏｒｒ （な
いし１・３ ＊ １ ０−’Ｐａ）以下に真空排気した
後、一定流量のＡｒガスを５を介して導入した容器１内
部のガス圧力を２ ０ ｍＴｏｒｒに維持した．そして
、電源４を投入しＲＦ電力２００ｗで、基板３の上にＴ
ｂ−Ｆｅ合金よりなる記録膜を形成した．次に一旦電源
４をオフにし、２のアラミド繊維及びポリペリレンを含
むターゲット源粒をセットし，再度ＲＦ電力２００Ｗを
投入して、前記した記録膜上にスパッタ源粒であるアラ
ミド繊維及びボリベリレンからなる厚さ５００Ａの保謹
層を形成した． 第２図は、上記した方法で制作した光磁気記録媒体の構
成図である． １３はガラス基板，１２は膜厚１ ０００ＡのＴｂ−Ｆ
ｅ合金からなる記録層、１ｌは膜厚５００人のアラミド
ｍ維及びポリペリレンがらなる保護層である． かかる構成の光記録磁気媒体の情報の記録，読みだし用
の光ビームは基板を介して照射される．第２図に示した
光記録５ｎ気媒体のヒステリシスルーブを、振動試料型
Ｅｎ力計を用いて測定した．測定を前記媒体作成直後及
び温度４０℃，温度９８％の恒温恒湿槽中に１０時間放
置した後で試みた結果、両者で有意差は見られながった
．比較の為に１０００スのＴｂ−Ｆｅ記録層を形成した
単層記録媒体（例−１とする）及び、例−１と同一の．
Ｔｂ−Ｆｅ膜上にスパッタ法でシリコン酸化物膜を保
護層として被覆した２層の記録媒体（例−２とする）を
制作し前記実施例と同一の測定を行った． その結果媒体作製直後の測定では，例−ｌ、例＝２共前
記実施例と同一のヒステリシスルーブを示したが、恒温
恒湿槽内（４０℃、９０％）に１０時間放置した後の測
定では、例−１の場合、飽和磁化、保磁力共ほとんど消
失し、例−２の場合、飽和ｍ化は媒体作製直後の測定値
の約２／３，保磁力は同じ比較で約１７２に低下した．
この比較例からも明らかなように，本発明における保護
層を使用した光磁気記録媒体の寿命は、従来の６のと比
べ格段に耐腐食性が向上していることがわかる． 第３図は、本発明による光磁気記録媒体の他の実施例で
ある．２４はアクリル基板，２３は膜厚ｌＯＯ入以下の
，アラミド繊維及びボリベリレンからなる第一の保護層
，２２は、丁ｂ−Ｆｅ合金からなる記録層，２１は膜厚
５００人のアラミド繊維及びポリペリレンからなる第二
の保護層である。
かかる構成においてら第２図の構成と同様、記録、読み
だし用の光ビームの照射を基板を介して行う．この場合
は、第一の保護層の厚さを１００人以下にすることで、
入射光ビームのほとんどを第一の保護層を透過させ．記
録層に至らしもことが可能である． しかるに、本発明における保護層は、気体透過性を有す
るアクリル等の有機樹脂材料よりなる基板を用いた場合
にも有効で、基板を透過する大気中の酸素分子による酸
化を防止するための保護層としてち使用できる． 尚，上記実施例には、記録層及び保護層中の希土類とし
てＴｂ、遷移金属としてＦｅ、また保護層中の希土類と
してＴｂ． ｉｌｌ移金属としてＦｅを用いた例のみを
述べたが、本発明は，丁ｂ以外の希土類（例えばＧｄ．
Ｄｙ． ｝Ｉｏ等） Ｆｅ以外の遷移金属（例えばＣ
ｏ． Ｎｉ等）の各組合せよりなる記録層を使用する際
にも有効であることは，明かである。
だし用の光ビームの照射を基板を介して行う．この場合
は、第一の保護層の厚さを１００人以下にすることで、
入射光ビームのほとんどを第一の保護層を透過させ．記
録層に至らしもことが可能である． しかるに、本発明における保護層は、気体透過性を有す
るアクリル等の有機樹脂材料よりなる基板を用いた場合
にも有効で、基板を透過する大気中の酸素分子による酸
化を防止するための保護層としてち使用できる． 尚，上記実施例には、記録層及び保護層中の希土類とし
てＴｂ、遷移金属としてＦｅ、また保護層中の希土類と
してＴｂ． ｉｌｌ移金属としてＦｅを用いた例のみを
述べたが、本発明は，丁ｂ以外の希土類（例えばＧｄ．
Ｄｙ． ｝Ｉｏ等） Ｆｅ以外の遷移金属（例えばＣ
ｏ． Ｎｉ等）の各組合せよりなる記録層を使用する際
にも有効であることは，明かである。
保護層の構成材料としてアラミド繊維及びポリペリレン
を用いた例を示したがアラミド繊維及びボリベリレン以
外の高分子を用いる事６可能である。又、保護層中の安
定化元素として炭素を用いたが、炭素の代わりに窒素を
用いた場合に６前記実施例と同様に、耐腐食性向上の効
果がみもれた．尚，スパッタ法の実施例と同じ（ ｐ）
Ａ蒸＠装置を用いて保護層を形成する方法でち、同様の
成果を得ることができた． 〔発明の効果］ 以上述べたように６本発明は耐熱性、耐腐食性高分子物
質を保護膜材ｆ４とし、容易に耐ｐ々性、耐腐食性に優
れた特性をもつ光磁気記録媒体の保護膜を生成すること
を可能にした．
を用いた例を示したがアラミド繊維及びボリベリレン以
外の高分子を用いる事６可能である。又、保護層中の安
定化元素として炭素を用いたが、炭素の代わりに窒素を
用いた場合に６前記実施例と同様に、耐腐食性向上の効
果がみもれた．尚，スパッタ法の実施例と同じ（ ｐ）
Ａ蒸＠装置を用いて保護層を形成する方法でち、同様の
成果を得ることができた． 〔発明の効果］ 以上述べたように６本発明は耐熱性、耐腐食性高分子物
質を保護膜材ｆ４とし、容易に耐ｐ々性、耐腐食性に優
れた特性をもつ光磁気記録媒体の保護膜を生成すること
を可能にした．
第１図は、本発明の光６ｎ気記録媒体の製造方法の一実
施例の構成図． 第２図は、本発明の光ｍ気記録媒体の一実施例構成図． 第３図は、本発明の光磁気記録媒体の他の一実施例の構
成図． ・・密閉容器 ・・ターゲット ・基板 ・・電源 ・・ガス導入系 ・・ガス導入系 ・・排気系 １ｌ １ ２ ・ １ ３ ・ １ ４ ・ ２ １ ・ ２ ２ ・ ２ ３ ・ ２ ４ ・ ２ ５ ・ ・・保謹層 ・・記録層 ・・基板 レーザ光 ・・第二の保護層 ・・記録層 ・・第一の保謬層 ・基板 ・レーザ光
施例の構成図． 第２図は、本発明の光ｍ気記録媒体の一実施例構成図． 第３図は、本発明の光磁気記録媒体の他の一実施例の構
成図． ・・密閉容器 ・・ターゲット ・基板 ・・電源 ・・ガス導入系 ・・ガス導入系 ・・排気系 １ｌ １ ２ ・ １ ３ ・ １ ４ ・ ２ １ ・ ２ ２ ・ ２ ３ ・ ２ ４ ・ ２ ５ ・ ・・保謹層 ・・記録層 ・・基板 レーザ光 ・・第二の保護層 ・・記録層 ・・第一の保謬層 ・基板 ・レーザ光
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）希土類及び遷移金属を含有する非晶質合金からなり
、かつ基板面に垂直に磁化容易軸を有する記録層となる
薄膜層と、保護層となる薄膜層とを、具備した光磁気記
録媒体において、前記保護層が、真空成膜法により形成
されたアラミド繊維及びポリペリレンからなることを特
徴とする光磁気記録媒体。 ２）前記真空成膜法が熱蒸着法であることを特徴とする
請求項１記載の光磁気記録媒体。 ３）前記真空成膜法が、スパッタ法であることを特徴と
する請求項１記載の光磁気記録媒体。 ４）希土類及び遷移金属を含有する非晶質合金からなり
、かつ基盤面に垂直に磁化容易軸を有する記録層となる
薄膜層と、保護層となる薄膜層とを、具備した光記録媒
体の製造方法において、前記保護層が、アラミド繊維及
びポリペリレンを用いた真空成膜法により形成されるこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法。 ５）前記真空成膜法が、熱蒸着法であることを特徴とす
る請求項４記載の光磁気記録媒体の製造方法。 ６）前記真空成膜法が、スパッタ法であることを特徴と
する請求項４記載の光磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19076289A JPH0354750A (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 光磁気記録媒体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19076289A JPH0354750A (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 光磁気記録媒体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0354750A true JPH0354750A (ja) | 1991-03-08 |
Family
ID=16263305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19076289A Pending JPH0354750A (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 光磁気記録媒体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0354750A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4752809B2 (ja) * | 2007-05-22 | 2011-08-17 | パナソニック電工株式会社 | スキンケア装置 |
-
1989
- 1989-07-24 JP JP19076289A patent/JPH0354750A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4752809B2 (ja) * | 2007-05-22 | 2011-08-17 | パナソニック電工株式会社 | スキンケア装置 |
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