JPH02282949A - 光磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野１ 本発明は、情報の記録、読み出しを、光ビームを介して
行う光磁気記録媒体の製造方法に係わり、特に光磁気記
録媒体の寿命の改善に関する。

［発明の概要］ 本発明は、希土類及び遷移金属から成る光…気記録層と
、その保護層として、グラファイト、ボッイミド及びＰ
’ＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン−（ＣＦｚ　Ｃ
Ｆｚ　］−ｎ）を含有する薄膜層とを有する光磁気記録
媒体と、その製造方法に関するものである。

前記保護層は、次の特徴ともっていること、また記録層
形成と相部後して、この保護層を形成することが極めて
容易である。

１）ｇ膨張係数等の記録層に近い為に記録層との密着性
が優れている。

２）記録層と同等かそれ以上に緻密であり、気体をほと
んど通過しない。

３）それ自体安定な炭化物あるいは、炭素又は窒素との
混合物を形成し耐酸化性、耐候性、耐熱性、耐湿性等に
優れた特性を有する。

［従来の技術］ 希土類及び、遷移金属からなる非晶質合金薄膜層は、光
磁気記録媒体として以下の優れた特徴を有している。

１）非晶質故に粒界雑音が無い。

２）広い組成範囲で垂直磁気異方性を有する。

３）特に基板材料に限定されず、ガラス、シリコンウェ
ハーあるいは、アクリル等の有機材料といった安価な基
板を使う事ができる。

４）蒸着法、スパック法部簡便な製膜技術が適応でき、
量産性が高い。

しかしながら、大気中で容易に酸化され易く寿命の点か
ら信頼性に欠ける短所がある、媒体の記録特性を損なう
事なく、前記した短所を改善するためには、希土類遷移
金属合金層の土に酸化防止を目的とした保護層を被覆す
るのが、効果的であると知られている。

従来技術では、かかる保護層として蒸着法または、スパ
ッタ法で成形した硅素第一酸化物あるいは、硅素第二酸
化物、ないしスピナー法で成形した有機材料が用いられ
ている。

しかしながら、かかる従来技術においては保護層の材料
しいては、物性が、記録層と大幅に異なるために次の欠
点があった。

ｌ）保護層の厚さを、１μｍ以上にすると剥離し易い。

２）保護層が緻密さに欠落し、保護層の厚さが、１μｍ
程度では記録層の酸化を回避できない。

【発明が解決しようとする課題］ 発明は、前記した従来技術の問題点を解決する為になさ
れたものであり、記録層と保護層とを具備する光磁気記
録媒体において、記録層との密着性が良好で、充分な緻
密性を有し、かつそれ自身耐酸化性、　ｉｉ４熱性に優
れた保護層を有する光磁気記録媒体とその媒体を簡便に
製造する方法を提供するものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明の光磁気記録媒体とその製造方法は、ｌ）希土類
、及び遷移金属を含有する非晶質合金からなり、かつ基
板面に垂直に磁化容易軸を有する記録層となる薄膜層と
、保護層となる薄膜層とを、具備した光磁気記録媒体に
おいて、前記保護層が、グラファイト、ポリイミド及び
ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン−［ＣＦ２ＣＦ
、］　＋、）を用いた真空成膜法により形成されている
ことを特徴とする。

２）第１項記載の保護層において、熱蒸着法を使用し、
蒸発源としてグラファイト、ポリイミド及びＰＴＦＥ　
（ポリテトラフルオロエチレン−［ＣＦヨＣＦａ］−１
）を用いて、保護の薄膜層を形成する事を特徴とする。

３）第１項記載の保護層において、スパッタ法を使用し
、ターゲット源粒としてグラファイト、ポリイミド及び
ＰＴＦＥ　（ポリテトラフルオロエチレン−［ＣＦ、ｃ
ｔ；ｔ　］　＋、、）を用いて、保護の薄膜層を形成す
る事を特徴とする。

〔実　施　例１ 以下、本発明について実施例に基づいて詳細に説明する
。

第１は１本発明の光磁気記録媒体の製造装置である、一
実施例の構成図である。

第１図は、熱蒸着装置であり、１は真空槽、２はガラス
基板、３はグラファイト、ポリイミド及びＰＴＦＥ　（
ポリテトラフルオロエチレン−［ＣＦ２ＣＦ２　］　−
０）を含む蒸着源、４は蒸着源を加熱するヒータ、５は
排気系である。。

以上の容器１内を１＊１０−’Ｔｏｒｒ　（ないし１．
釦１０−’Ｐａ）以下の高温真空中で、薄膜材料である
グラファイト、ポリイミド及びＰＴＦＥ　（ポリテトラ
フルオロエチレン−［ＣＦ２ＣＦ２　］　−１）を加熱
して、この蒸発粒子を基板上に沈着させて保護層である
薄膜を形成する。

第２図は、上記した方法で制作した光ｍ気記録？、ｐ媒
体の構成図である。

１３はガラス基板、１２は膜厚１０００人のＴｂ−Ｆｅ
合金からなる記録層、１１は膜厚５００人のグラファイ
ト、ポリイミド及びＰＴＦＥ　（ポリテトラフルオロエ
チレン−［ＣＦ２　ＣＦ、］０）からなる保護層である
。

かかる構成の光記録ｍ気媒体の情報の記録、読みだし用
の光ビームは基板を介して照射される。

第２図に示した光記録磁気媒体のヒステリシスループを
、振動試料型ｍ力計を用いて測定した。

測定を前記媒体作成直後及び温度４０℃、湿度９８％の
恒温恒（！Ａ槽中に１０時間ｈり置した後で試みた結果
、両者で有意差は見られなかった。

比較の為に１０００人のＴｂ−Ｆｅ記録層を形成した単
層記録媒体（例−１とする）及び、例−１と同一の、Ｔ
ｂ−Ｆｅ１！ｉ上にスパッタ法でシリコン酸化物膜を保
護層として被フした２層の記録媒体（例−２とする）を
制作し前記実施例と同一の測定を行った。

その結果媒体作製直後の測定では、例−１、例−２共前
記実施例と同一のヒステリシスループを示したが、恒温
恒湿槽内（４０℃、９０％）に１０時間放置した後の測
定では、例−１の場合、飽和６ｎ化、保磁力共はとんど
消失し、例−２の場合、飽和ｍ化は媒体作製直後の測定
値の約２／３、保磁力は同じ比較で約１／２に低下した
。

この比較例からも明らかなように、本発明における保護
層を使用した光ｍ気記録媒体の寿命は、従来のものと比
べ格段に耐腐食性が向上していることがわかる。

第３図は、本発明による光磁気記録媒体の他の実施例で
ある。２４はアクリル基板、２３は膜厚１００Å以下の
、グラファイト、ポリイミド及びＰＴＦＥ　（ポリテト
ラフルオロエチレン−［ＣＦ２ＣＦ２　］−０）からな
る第一の保護層、２２はＴ　ｂ　−Ｆ　ｅ合金からなる
記録層、２１は膜厚５００Ａのグラファイト、ポリイミ
ド及びＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン−［ＣＦ
２ＣＦ、］−７）からなる第二の保護層である。かかる
構成においても第２図の構成と同様、記録、読みだし用
の光ビームの照射を基板を介して行う。

この場合は、第一の保護膜の厚さを１００Å以下にする
ことで、入射光ビームのほとんどを第一の保護層を透過
させ、記録層に至らしもことが可能である。

しかるに１本発明における保護層は、気体透過性を有す
るアクリル等の有機樹脂材料よりなる基板を用いた場合
にも有効で、基板を透過する大気中の酸素分子による酸
化を防止するための保護層としても使用できる。

尚、上記実施例には、記録層及び保護層中の希土類とし
てＴｂ、遷移金属としてＦｅ、また保護層中の希土類と
してＴｂ、遷移金属としてＦｅを用いた例のみを述べた
が、本発明は、Ｔｂ以外の希土類（例λばＧｄ、ｐｙ、
Ｈａ等）Ｆｅ以外の遷移金属（例λばＣｏ、Ｎｉ等）の
各組合せよりなる記録層を使用する際にも有効であるこ
とは、明らかである。

保護層の構成材料としてグラファイト、ポリイミド及び
ＰＴＦＥ　（ポリテトラフルオロエチレン−［ｃｉ’ｚ
　ＣＦ２　］−、、）を用いた例を示したがグラファイ
ト、ポリイミド及びＰＴＦＥ　（ポリテトラフルオロエ
チレン−［ＣＦ２ＣＦ２］−１，）以外の高分子を用い
る事も可能である。

又、保護層中の安定化元素として炭素を用いたが、炭素
の代わりに窒素を用いた場合にも前記実施例と同様に、
耐腐食性向上の効果がみられた。

尚、熱蒸着装置の実施例と同じくスパッタ法を用いて保
護層を形成する方法でも、同様の成果を得ることができ
た。

［発明の効果］ 以上述べたように、本発明は耐熱性、対腐食性高分子物
質を保護膜材料とし、容易に耐熱性、耐腐食性にｆ憂れ
た特性をもつ光ｍ気記録媒体の保護膜を生成することを
可能とした。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光磁気記録媒体の製造方法の一実施
例の構成図。 第２図は、本発明の光磁気記録媒体の一実施例の構成図
。 第３図は、本発明の光磁気記録媒体の他の一実施例の構
成図。 １４　・ ２１　・ ２５　・

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）希土類及び遷移金属を含有する非晶質合金からなり
   、かつ基板面に垂直に磁化容易軸を有する記録層となる
   薄膜層と、保護層となる薄膜層とを、具備した光磁気記
   録媒体において、前記保護層が、真空成膜法により形成
   されたグラファイト、ポリイミド及びＰＴＦＥ（ポリテ
   トラフルオロエチレン−［ＣＦ＿２ＣＦ＿２］−＿ｎ）
   からなることを特徴とする光磁気記録媒体。 ２）前記真空成膜法が熱蒸着法であることを特徴とする
   請求項１記載の光磁気記録媒体。 ３）前記真空成膜法が、スパッタ法であることを特徴と
   する請求項１記載の光磁気記録媒体。 ４）希土類及び遷移金属を含有する非晶質合金からなり
   、かつ基板面に垂直に磁化容易軸を有する記録層となる
   薄膜層と、保護層となる薄膜層とを、具備した光記録媒
   体の製造方法において、前記保護層が、グラファイト、
   ポリイミド及びＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン
   −［ＣＦ＿２ＣＦ＿２］−＿ｎ）を用いた真空成膜法に
   より形成されることを特徴とする光記録媒体の製造方法
   。 ５）前記真空成膜法が、熱蒸着法であることを特徴とす
   る請求項４記載の光磁気記録媒体の製造方法。 ６）前記真空成膜法が、スパッタ法であることを特徴と
   する請求項４記載の光磁気記録媒体の製造方法。