JPS60189704A - 周期性を有する酸化物多層膜 - Google Patents
周期性を有する酸化物多層膜Info
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- JPS60189704A JPS60189704A JP59046364A JP4636484A JPS60189704A JP S60189704 A JPS60189704 A JP S60189704A JP 59046364 A JP59046364 A JP 59046364A JP 4636484 A JP4636484 A JP 4636484A JP S60189704 A JPS60189704 A JP S60189704A
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- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
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- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シリコン酸化物膜と金属酸化物膜とからなる
、周期性を有する酸化物多層膜に関す乙ものである。
、周期性を有する酸化物多層膜に関す乙ものである。
一般に酸化物ｌｌ！Ｊは数百１以下になると、その電気
的、磁気的、光学的性質が著【７〈変化することが知ら
れており、実用上も望ましい性質が超薄膜で得られる場
合がある。【７か［７単層の超薄膜では物理量が小さす
ぎて、実用化は出来ない。このために他物質を間にはさ
んで層数を多くして、物理に安定といわれている酸化物
でも、薄くするとその酸化物を分離する薄膜（スペーサ
ー）との反応性が高まり、その結果、目的とする酸化物
の特性が劣化し、たりする。これは一般の酸化物に対［
７て保護効果の高い薄膜物質が見出されていたいととに
よる７ スペーサーは、また、充分に薄くｌ−でも連続膜になっ
てスペーサーの役割を果すことが望ｔ Ｌい。
的、磁気的、光学的性質が著【７〈変化することが知ら
れており、実用上も望ましい性質が超薄膜で得られる場
合がある。【７か［７単層の超薄膜では物理量が小さす
ぎて、実用化は出来ない。このために他物質を間にはさ
んで層数を多くして、物理に安定といわれている酸化物
でも、薄くするとその酸化物を分離する薄膜（スペーサ
ー）との反応性が高まり、その結果、目的とする酸化物
の特性が劣化し、たりする。これは一般の酸化物に対［
７て保護効果の高い薄膜物質が見出されていたいととに
よる７ スペーサーは、また、充分に薄くｌ−でも連続膜になっ
てスペーサーの役割を果すことが望ｔ Ｌい。
それはスペーサーの厚さが増すと連続膜のゝ形成は容易
であるが、多層膜全体の厚さを増加させるだけで、有用
な物理量の増加が期待出来ないからである。
であるが、多層膜全体の厚さを増加させるだけで、有用
な物理量の増加が期待出来ないからである。
本発明者は、スペーサーに要求される諸物性を満す材料
について、研究を行なった結果、シリコン酸化物が該肖
することを見出し、本発明に到ったものである。
について、研究を行なった結果、シリコン酸化物が該肖
することを見出し、本発明に到ったものである。
即ち本発明はシリコン酸化物と金属酸化物とを夫々一定
の膜厚として交互に積層ｔ〜たことを特徴とする、周期
性を有する酸化物多層膜に係るものまたはｓｉｏを真空
蒸着、スパータリング、イオンビーム蒸着、イオンブレ
ーティングなどによって形成出来るもので、その膜の組
成はＳｉＯ−ＳｉＯ□の間の組成をとることが多い（以
後Ｓ １０ ｘとして表示する。、）。
の膜厚として交互に積層ｔ〜たことを特徴とする、周期
性を有する酸化物多層膜に係るものまたはｓｉｏを真空
蒸着、スパータリング、イオンビーム蒸着、イオンブレ
ーティングなどによって形成出来るもので、その膜の組
成はＳｉＯ−ＳｉＯ□の間の組成をとることが多い（以
後Ｓ １０ ｘとして表示する。、）。
５１０Ｘは薄膜の研究によってよく知られた材料である
。その特性としては、非晶質であって、電気絶縁体であ
り、金属に対１７て密着性がよく、均一な膜を作り易く
、耐４１性被膜としてよく用いられているー この特性は数百へ以上の膜厚に関するものであって本発
明のスペーサーに要求される薄膜での特性は明らかでな
い。
。その特性としては、非晶質であって、電気絶縁体であ
り、金属に対１７て密着性がよく、均一な膜を作り易く
、耐４１性被膜としてよく用いられているー この特性は数百へ以上の膜厚に関するものであって本発
明のスペーサーに要求される薄膜での特性は明らかでな
い。
特に多層膜の場合にどのような挙動を示すかは、本発明
によって初めて明らかになったものである。
によって初めて明らかになったものである。
酸化物は種々のものが使用出来るが、応用によって広く
最適材料を選択出来るのも特徴である。
最適材料を選択出来るのも特徴である。
例えば磁気記録媒体と１７てはＦｅ、０４、ｙ−Ｆｅ２
０３ＣＯＦｅ Ｏなどまたレザー光を用いる光記録媒体
４ としてはＦｅ３Ｏ４，１−Ｆｅ２Ｏ，、Ｉｎ２Ｏ５、Ｔ
ｅ０１Ｎｉｐ。
０３ＣＯＦｅ Ｏなどまたレザー光を用いる光記録媒体
４ としてはＦｅ３Ｏ４，１−Ｆｅ２Ｏ，、Ｉｎ２Ｏ５、Ｔ
ｅ０１Ｎｉｐ。
Ｃｏｏなど各種の酸化物が選べる。又Ｘ−線の単色化ま
だはマスク材と１７では前記酸化物に加え、ＷＯ，、Ｍ
ｏＯ５、ＰｂＯなとの重金属酸化物を用いることが出来
る。Ｘ−線応用の具体例として、Ｘ線回折装置のフィル
ター、微細パターン形成用Ｘ線露光装置のマスクパター
ンなどが挙げられる。
だはマスク材と１７では前記酸化物に加え、ＷＯ，、Ｍ
ｏＯ５、ＰｂＯなとの重金属酸化物を用いることが出来
る。Ｘ−線応用の具体例として、Ｘ線回折装置のフィル
ター、微細パターン形成用Ｘ線露光装置のマスクパター
ンなどが挙げられる。
さらに電気伝導材料または抵抗材料と１７てＦｅ３Ｏ４
゜Ｉｎ ＯＳｎＯＶＯＴｉｅ、 ＷＯ３が使用出来る。
゜Ｉｎ ＯＳｎＯＶＯＴｉｅ、 ＷＯ３が使用出来る。
２５− ２’ ２％
特に５ｉＯｒ、Ｑ数十Ａ以下の膜厚になると電気伝導性
を示すようになるから、スペーサーおよび金属酸化物の
膜厚を変えることによって容易に抵抗値を制御し得る。
を示すようになるから、スペーサーおよび金属酸化物の
膜厚を変えることによって容易に抵抗値を制御し得る。
本発明にか−る周期性とは、金属酸化物膜とスペーサー
膜がそれぞれ一定の膜厚で交互に積層されていることを
意味する。金属酸化物の各層の厚さを一定にするのは、
金属酸化物膜の特性が厚さに依存するためであり、多層
膜の特性を制御する場合、各層の特性が一′定である方
が望ま１．いことに因っている。同様な意味で、スペー
サー膜の各層での厚さも一定である方が望寸しい。金属
酸化物膜の一層の厚さは、前述した応用により異なるが
概ね５００ Ａ以下が望ま１．い。それは、金属酸化物
膜の場合、５００Ｘ前後を境と１〜で結晶構造、微細構
造が変化１７、応用上望ま［７い特性が得られるからで
ある一スペーサー模の厚さは、多層膜の物理特性を検出
する方法を考慮ｌ−て決定されなければなら々いが、通
常は２００Ｘ以下の値が望まし−い、多層膜の周期性を
確認する最も一般的な方法は、Ｘ線回折を使用すること
である。金属酸化物膜とスペーサー膜がそれぞれ均一に
作成されかつ明瞭に層間分離された場合、２ｄｓｉｎ０
＝ｎ久（（１４面間距離、０２回折角、ｎ：反射次数、
χ：Ｘ線波長）を満足するＸ線回折ピークが得られる。
膜がそれぞれ一定の膜厚で交互に積層されていることを
意味する。金属酸化物の各層の厚さを一定にするのは、
金属酸化物膜の特性が厚さに依存するためであり、多層
膜の特性を制御する場合、各層の特性が一′定である方
が望ま１．いことに因っている。同様な意味で、スペー
サー膜の各層での厚さも一定である方が望寸しい。金属
酸化物膜の一層の厚さは、前述した応用により異なるが
概ね５００ Ａ以下が望ま１．い。それは、金属酸化物
膜の場合、５００Ｘ前後を境と１〜で結晶構造、微細構
造が変化１７、応用上望ま［７い特性が得られるからで
ある一スペーサー模の厚さは、多層膜の物理特性を検出
する方法を考慮ｌ−て決定されなければなら々いが、通
常は２００Ｘ以下の値が望まし−い、多層膜の周期性を
確認する最も一般的な方法は、Ｘ線回折を使用すること
である。金属酸化物膜とスペーサー膜がそれぞれ均一に
作成されかつ明瞭に層間分離された場合、２ｄｓｉｎ０
＝ｎ久（（１４面間距離、０２回折角、ｎ：反射次数、
χ：Ｘ線波長）を満足するＸ線回折ピークが得られる。
周期性が良好になるにつれて回折ピークの半値巾は狭く
なり、かつ高次の回折ピークも観測されるようになる。
なり、かつ高次の回折ピークも観測されるようになる。
このことから、多層膜の周期性の品質が判定できる、回
折ピーク強度は金属酸化物膜とスペーサー膜の材質によ
り変化するが、主として２種類の物質量のＸ線に対する
原子散乱因子の差が太きくなるにつれて強度も強くなる
と考えられている。
折ピーク強度は金属酸化物膜とスペーサー膜の材質によ
り変化するが、主として２種類の物質量のＸ線に対する
原子散乱因子の差が太きくなるにつれて強度も強くなる
と考えられている。
月１下本発明を実施例により詳細に説明・する。
実施例 １
交互積層膜の形成に用いた装置は第１図に示すような真
空蒸着機である。上方に基板（１）を置き、基板の加熱
用としてヒータ（２）を設けるか、まだは冷却用とＬ７
て水冷管を設けるようにしたものである。下部には２個
の蒸発源（３１）、（′５２）がありそれぞれＳｉＯと
ＣＯを蒸発させる。 基板をガラスとしこれを水冷によ
って冷却する。１ず、真空度１Ｑ−６Ｔｏｒｒ以上の高
真空でｓｉｏを蒸発させて５ｉｏｘ膜を生成させた後、
シャンターを閉じ、排気口（４）から排気（一つつ、ガ
ス導入口（５）から酸素を導入１〜で４’ｘ １０−’
Ｔｏｒｒの酸素算囲気に［７、ＣＯを蒸発させてＣＯＯ
膜を生成させる。膜厚ば水晶発振式膜厚計（６）で測定
し７、各層を所定の膜厚に制御する。またＣｏｏ、ｓｉ
ｏ共にｉ Ａ ／Ｆ３ｅｃ程度の付着速度で蒸着させる
。このようにしてＳｉＯは真空で、ＣｃＯの生成は酸素
算囲気中で交互に蒸着させることによって周期性多層膜
を得ることが出来る。
空蒸着機である。上方に基板（１）を置き、基板の加熱
用としてヒータ（２）を設けるか、まだは冷却用とＬ７
て水冷管を設けるようにしたものである。下部には２個
の蒸発源（３１）、（′５２）がありそれぞれＳｉＯと
ＣＯを蒸発させる。 基板をガラスとしこれを水冷によ
って冷却する。１ず、真空度１Ｑ−６Ｔｏｒｒ以上の高
真空でｓｉｏを蒸発させて５ｉｏｘ膜を生成させた後、
シャンターを閉じ、排気口（４）から排気（一つつ、ガ
ス導入口（５）から酸素を導入１〜で４’ｘ １０−’
Ｔｏｒｒの酸素算囲気に［７、ＣＯを蒸発させてＣＯＯ
膜を生成させる。膜厚ば水晶発振式膜厚計（６）で測定
し７、各層を所定の膜厚に制御する。またＣｏｏ、ｓｉ
ｏ共にｉ Ａ ／Ｆ３ｅｃ程度の付着速度で蒸着させる
。このようにしてＳｉＯは真空で、ＣｃＯの生成は酸素
算囲気中で交互に蒸着させることによって周期性多層膜
を得ることが出来る。
第２図（ａ）は１３５入Ｃｏｏ−１５入Ｓ ｉＱＸを１
０回線返１７、合ｔ？ｔ １ｓｏｏ Ｘの膜厚とした周
期性多層膜の、ＣｄＫａ線を用いたＸ線回折図である。
０回線返１７、合ｔ？ｔ １ｓｏｏ Ｘの膜厚とした周
期性多層膜の、ＣｄＫａ線を用いたＸ線回折図である。
こ＼で２ｅＪ−１，２°附近と１，７°附近に回折ピー
クが現われているが、こればｃｏｏの１３５１と８１０
×の１５１の膜厚の合計１５０Ａを周期と１７だ回折ピ
ークであり、２θ＝、２ｏ附近は２ｄｓｉｎ（／＝ｎ入
から計算した場合、ｎ＝２、また１、７°附近のピーク
はｎ＝３に相当する。２次のピークから算出し７！ｒ、
１４７Ａは実験で設定し７た１５１’ｌ＾とほぼ同じ値
に々っている。
クが現われているが、こればｃｏｏの１３５１と８１０
×の１５１の膜厚の合計１５０Ａを周期と１７だ回折ピ
ークであり、２θ＝、２ｏ附近は２ｄｓｉｎ（／＝ｎ入
から計算した場合、ｎ＝２、また１、７°附近のピーク
はｎ＝３に相当する。２次のピークから算出し７！ｒ、
１４７Ａは実験で設定し７た１５１’ｌ＾とほぼ同じ値
に々っている。
これは、予想通すＣｏｏ −５ｉｎｘ膜が周期的に繰返
していることを意味する。
していることを意味する。
合計９ダ昌の膜厚と１〜だ周期性多層膜のＸ線回外には
ピークがみられなかった）ピークが強すものであること
がわかる。
ピークがみられなかった）ピークが強すものであること
がわかる。
実施例 ２
実施例１のＣｏのかわりにＮｉを用いた場合、ＮｉＯ−
５ｉＯＸノ多層膜が得らレル。３ｏ″ＡＮｉＯ−３０λ
５ｉＯＸを２０回積層１−で得だ１２００λの多層膜の
回折ピークはやけりｎ＝５まであられれ予想通り回折ピ
ークは強い。
５ｉＯＸノ多層膜が得らレル。３ｏ″ＡＮｉＯ−３０λ
５ｉＯＸを２０回積層１−で得だ１２００λの多層膜の
回折ピークはやけりｎ＝５まであられれ予想通り回折ピ
ークは強い。
実施例 ６
実施例１のＣＯのかわりにＦｅを用いた場合、基板温度
が室温でけＦｅ２Ｏ３−８１０ｘの多層膜が、捷た１５
０°ＣではＦｅ、０４−８ｉ０Ｘの多層膜が得られる。
が室温でけＦｅ２Ｏ３−８１０ｘの多層膜が、捷た１５
０°ＣではＦｅ、０４−８ｉ０Ｘの多層膜が得られる。
回折ピークはやけりｎ ＝ ５まであられれる。
以上Ｃ０１Ｎｉ、 Ｆｅについて述べたが、反応蒸着や
真空蒸着で酸化物の生成が可能な５ｎＯ１Ｉ ｎ ２０
ｓ、Ｓ ｎ Ｏ２、Ｍｎ、０４、ＭｏＯ２、ＷＯ５、
Ａｇ２Ｏ３、ＴｌＯ２、ｖ２ｏ５なども同じようにＳｉ
Ｏｘとの組合せで多層膜を合成出来るものと考えられる
。
真空蒸着で酸化物の生成が可能な５ｎＯ１Ｉ ｎ ２０
ｓ、Ｓ ｎ Ｏ２、Ｍｎ、０４、ＭｏＯ２、ＷＯ５、
Ａｇ２Ｏ３、ＴｌＯ２、ｖ２ｏ５なども同じようにＳｉ
Ｏｘとの組合せで多層膜を合成出来るものと考えられる
。
ト述のＣｏｏ −５ｉｎｘ、 Ｎ１Ｏ−８ｉｎＸ、 Ｆ
ｅ２０．−８ｉｎｘ。
ｅ２０．−８ｉｎｘ。
Ｆｅ 、 ０４− Ｓ ｉ ＯＸの多層膜・ば経時変化
せず、６ケ月を経ても回折ピークは同じであった。更に
Ｆｅ、０４を除いて２００°Ｃ１時間空気中加熱１〜で
もやけり同じであり、安定であった。
せず、６ケ月を経ても回折ピークは同じであった。更に
Ｆｅ、０４を除いて２００°Ｃ１時間空気中加熱１〜で
もやけり同じであり、安定であった。
実施例１．２３で作った多層膜の光学的性質は表１に示
す通りである。これは８２０ ｎｍのレザー光を表面入
射した場合に得られた値を示１７ている。
す通りである。これは８２０ ｎｍのレザー光を表面入
射した場合に得られた値を示１７ている。
表１ 光学的性質
試 料 反射率部）吸収率（イ）透過率（働（１５λ５
ｉＯｘ−４ＱＸ Ｆ’５２０５） Ｘ ２Ω １７．７
９ ２，８２ ７９．３８（ｉ５ＡｂｌＯｘ８０＾Ｃｏ
ｏ）ｘ＋ｏ ｔ３．１［］ ２６．１４ ６０．７６（
１５久ｂ１．Ｏｘ ８０λＮｉ０）ｘ＋０ ２８．８＋
２２．１５ ５４．［１４Ｆ ｅ２０ 、け２，８２
％という低い吸収率であるがＣＯＯ１ＮｉＯは２０チ以
上の値を示している。これはレザー光を吸収して温度が
上昇１〜得る光メモリーと１．ての機能をもっていると
考えられる、 ５ｉｎｘ−Ｆｅ２０５多層膜はＮ２によって２００°Ｃ
’＋０分で還元されてＦｅ、Ｑ４になる。これはガスに
対して非常に敏感であり、ガスセンサーと１〜で有用で
あることを示１７ている。特に５１０ｘ−ｒ−Ｆｅ２０
５にすればこの特性は更によくなると考えられる。
ｉＯｘ−４ＱＸ Ｆ’５２０５） Ｘ ２Ω １７．７
９ ２，８２ ７９．３８（ｉ５ＡｂｌＯｘ８０＾Ｃｏ
ｏ）ｘ＋ｏ ｔ３．１［］ ２６．１４ ６０．７６（
１５久ｂ１．Ｏｘ ８０λＮｉ０）ｘ＋０ ２８．８＋
２２．１５ ５４．［１４Ｆ ｅ２０ 、け２，８２
％という低い吸収率であるがＣＯＯ１ＮｉＯは２０チ以
上の値を示している。これはレザー光を吸収して温度が
上昇１〜得る光メモリーと１．ての機能をもっていると
考えられる、 ５ｉｎｘ−Ｆｅ２０５多層膜はＮ２によって２００°Ｃ
’＋０分で還元されてＦｅ、Ｑ４になる。これはガスに
対して非常に敏感であり、ガスセンサーと１〜で有用で
あることを示１７ている。特に５１０ｘ−ｒ−Ｆｅ２０
５にすればこの特性は更によくなると考えられる。
第１図は真空蒸着機の説明図、第２図（ａ）、第２図（
ｂ）は、Ｃｏ０−８１０ｘ多層膜のＸ線回折図、第５図
けＮ１０−Ｆｅ２Ｏ５多層膜のＸ線回折図を夫々示す。 第１図中、１・・・・基板、２・・・・ ヒーター、３
１．３２・・・・蒸発源、４・・・・排気口、５・・・
・ガス導入口、６・・・・水晶振動式膜厚計、特許出願
人 坂 東 尚 周 代 理 人 城１図 １ ２ ３２ｅ ２ ３ ４ ５２θ
ｂ）は、Ｃｏ０−８１０ｘ多層膜のＸ線回折図、第５図
けＮ１０−Ｆｅ２Ｏ５多層膜のＸ線回折図を夫々示す。 第１図中、１・・・・基板、２・・・・ ヒーター、３
１．３２・・・・蒸発源、４・・・・排気口、５・・・
・ガス導入口、６・・・・水晶振動式膜厚計、特許出願
人 坂 東 尚 周 代 理 人 城１図 １ ２ ３２ｅ ２ ３ ４ ５２θ
Claims (1)
- ■シリコン酸化物と金属酸化物とを夫々一定の膜厚と１
〜て交互に積層１．たことを特徴とする、周期性を有す
る酸化物多層膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59046364A JPH0672298B2 (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 周期性を有する酸化物多層膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59046364A JPH0672298B2 (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 周期性を有する酸化物多層膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60189704A true JPS60189704A (ja) | 1985-09-27 |
| JPH0672298B2 JPH0672298B2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
ID=12745097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59046364A Expired - Lifetime JPH0672298B2 (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 周期性を有する酸化物多層膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0672298B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61114844A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-02 | コニカ株式会社 | 導電性積層体 |
| JPH0364449A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-19 | Reiko Co Ltd | 透明蒸着フィルム |
| CN105088199A (zh) * | 2015-09-23 | 2015-11-25 | 哈尔滨工业大学 | 一种制备具有表面有序微结构的vo2纳米薄膜的方法 |
| CN105088200A (zh) * | 2015-09-23 | 2015-11-25 | 哈尔滨工业大学 | 一种颜色随角度变化的SiO2/VO2热致相变薄膜的制备方法 |
| CN108585054A (zh) * | 2018-05-15 | 2018-09-28 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种VO2(M)-CoFe2O4复合材料及其制备方法 |
| CN115094388A (zh) * | 2022-07-08 | 2022-09-23 | 广东信大科技有限公司 | 加热管镀膜方法及其制备得到的玫瑰金管及黄金管 |
Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| JPS54138878A (en) * | 1978-04-13 | 1979-10-27 | Litton Systems Inc | Method of manufacturing multiilayer optical film |
| JPS5633609A (en) * | 1979-08-27 | 1981-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of color separating filter |
| JPS5749903A (en) * | 1980-09-11 | 1982-03-24 | Toshiba Corp | Stripe filter and image pickup device using said filter |
| JPS58144804A (ja) * | 1981-12-04 | 1983-08-29 | ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング | 多色の微細構造を有する、特に微細地図の形式の記録支持体とその製法 |
| JPS58217901A (ja) * | 1982-06-14 | 1983-12-19 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 透過型光学部材 |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP59046364A patent/JPH0672298B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
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| CN108585054B (zh) * | 2018-05-15 | 2020-05-29 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种VO2(M)-CoFe2O4复合材料及其制备方法 |
| CN115094388A (zh) * | 2022-07-08 | 2022-09-23 | 广东信大科技有限公司 | 加热管镀膜方法及其制备得到的玫瑰金管及黄金管 |
| CN115094388B (zh) * | 2022-07-08 | 2024-02-09 | 广东信大科技有限公司 | 加热管镀膜方法及其制备得到的玫瑰金管及黄金管 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0672298B2 (ja) | 1994-09-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |