JPS61253654A - 光熱磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
光熱磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS61253654A JPS61253654A JP9480885A JP9480885A JPS61253654A JP S61253654 A JPS61253654 A JP S61253654A JP 9480885 A JP9480885 A JP 9480885A JP 9480885 A JP9480885 A JP 9480885A JP S61253654 A JPS61253654 A JP S61253654A
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- Japan
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- film
- sputtering
- substrate
- torr
- magnetic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば光凪気メモリー、磁気記録、表示素
子などに用いられる光熱磁気記録媒体に関するもので、
特に伝気カー効果およびファラデー効果などの磁気光学
効果を用いて読み出すことのできる光熱ａ”ｉ記録媒体
の製造方法に関する。
子などに用いられる光熱磁気記録媒体に関するもので、
特に伝気カー効果およびファラデー効果などの磁気光学
効果を用いて読み出すことのできる光熱ａ”ｉ記録媒体
の製造方法に関する。
従来、光熱磁気記録媒体としては、Ｋｎ］３１ 、 Ｍ
ｎＣｕＢ１等の多結晶体薄膜ＧｄＣｏ ＧｄＥ”ｅ Ｔ
ｈＦｅ ＧｄＴｂＣｏ 、ＴｂＦｅＣｏ 等の非晶質薄
膜、Ｇｄ工Ｇ等の単結晶薄膜等が知られている。
ｎＣｕＢ１等の多結晶体薄膜ＧｄＣｏ ＧｄＥ”ｅ Ｔ
ｈＦｅ ＧｄＴｂＣｏ 、ＴｂＦｅＣｏ 等の非晶質薄
膜、Ｇｄ工Ｇ等の単結晶薄膜等が知られている。
これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で
製造する１Ｍ膜性、信号と小さを光熱エネルギーで書き
込むための書き込み効率、薔き込まれた信号をｓ ／
Ｎよく読み出すための読み出し効率等１に勘案し、最近
では、前記非晶質薄膜が光熱磁気記録媒体として優れて
いると考えられている。
製造する１Ｍ膜性、信号と小さを光熱エネルギーで書き
込むための書き込み効率、薔き込まれた信号をｓ ／
Ｎよく読み出すための読み出し効率等１に勘案し、最近
では、前記非晶質薄膜が光熱磁気記録媒体として優れて
いると考えられている。
然しなからＧｄＣｏ 、 ＧｄＴｂＣｏ系の非晶質薄膜
にあっては、薄膜製造時に基板（膜の支持体）に直流バ
イアス電圧を印加することが行なわれている。
にあっては、薄膜製造時に基板（膜の支持体）に直流バ
イアス電圧を印加することが行なわれている。
しかし基板はプラスチックやガラスが使用されるので金
属製の基板ホルダーには電圧を印加し得ても基板にまで
電圧がかかることがない。その先め蒸着膜が成長して膜
が基板ホルダーと接触するまでの間、電圧がかからず生
成膜は垂直磁気異方性を示し峨い。そこで従来にも基板
上に予めＡｕ、ＡＩ％ＡＩ等の金属薄膜を形成させてお
くか、基板周囲に帯状に導電性塗膜を形成させておく方
法が提案されている。
属製の基板ホルダーには電圧を印加し得ても基板にまで
電圧がかかることがない。その先め蒸着膜が成長して膜
が基板ホルダーと接触するまでの間、電圧がかからず生
成膜は垂直磁気異方性を示し峨い。そこで従来にも基板
上に予めＡｕ、ＡＩ％ＡＩ等の金属薄膜を形成させてお
くか、基板周囲に帯状に導電性塗膜を形成させておく方
法が提案されている。
しかしながらいずれの方法にせよ基板を予め処理するこ
とは、製造コストの上昇を招き好ましくないばかりでな
く、…Ｊ者の方法では金属薄膜の几めに、形成された磁
性膜に対して基板側からレーザー光線で書き込み読み出
しをすることが不可能になり後者の方法では、導電性塗
膜を同曲だけに形成させるので蒸着層が全体に形成する
までＩ／′ｉ、電圧がかからず、従って基板界面近くの
磁性膜は完全な生血磁気異方性を示さずそのためにカー
効果を利用して記録情報を読み出す場合、界面からの反
射光分利用するのでそれは好ましくない。
とは、製造コストの上昇を招き好ましくないばかりでな
く、…Ｊ者の方法では金属薄膜の几めに、形成された磁
性膜に対して基板側からレーザー光線で書き込み読み出
しをすることが不可能になり後者の方法では、導電性塗
膜を同曲だけに形成させるので蒸着層が全体に形成する
までＩ／′ｉ、電圧がかからず、従って基板界面近くの
磁性膜は完全な生血磁気異方性を示さずそのためにカー
効果を利用して記録情報を読み出す場合、界面からの反
射光分利用するのでそれは好ましくない。
又、特開昭５８−２１５０１３号公報に示したように、
単に導電性ホルダーに高周波バイアス電圧を印加するこ
とにより、基板界面から完全な当直磁化膜を形成させる
方法が提案されているが、プラスチック基板を用いた場
合、バイアス電圧印加による基板温度上昇によって基板
が変形することもあり好ましくない。又、ＧｃｌＣｏ
、ＧｄＴｔ＞Ｇｏ系は磁気的補償点を利用した書き込み
を行うので書込み効率を均一にするためＫは製膜条件の
厳しい管理が必要であり、バイアス電圧を可児するとい
う条件が必要な場合、工程管理が一層厳しくなるという
問題点があった。
単に導電性ホルダーに高周波バイアス電圧を印加するこ
とにより、基板界面から完全な当直磁化膜を形成させる
方法が提案されているが、プラスチック基板を用いた場
合、バイアス電圧印加による基板温度上昇によって基板
が変形することもあり好ましくない。又、ＧｃｌＣｏ
、ＧｄＴｔ＞Ｇｏ系は磁気的補償点を利用した書き込み
を行うので書込み効率を均一にするためＫは製膜条件の
厳しい管理が必要であり、バイアス電圧を可児するとい
う条件が必要な場合、工程管理が一層厳しくなるという
問題点があった。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、基板にノ（イアスミ圧を印」しなくとも、基板界
面から完全な垂直磁化膜が得られる光熱磁気記録媒体の
製造方法を得ることを目的とする。
ので、基板にノ（イアスミ圧を印」しなくとも、基板界
面から完全な垂直磁化膜が得られる光熱磁気記録媒体の
製造方法を得ることを目的とする。
この発明の光熱磁気記録媒体の製造方法は、膜面に垂直
方向に磁化容易軸を有するＧｄ−Ｔｂ−Ｃｏ３元系非晶
質磁性合金より成る磁性層を、基板にバイアス電圧を印
加しない状急で、スパッタ圧力をｌ Ｘ １Ｏ−２Ｔｏ
ｒｒ以下で、基板上にスパッタリングにより形成する方
法である。
方向に磁化容易軸を有するＧｄ−Ｔｂ−Ｃｏ３元系非晶
質磁性合金より成る磁性層を、基板にバイアス電圧を印
加しない状急で、スパッタ圧力をｌ Ｘ １Ｏ−２Ｔｏ
ｒｒ以下で、基板上にスパッタリングにより形成する方
法である。
この発明においては、単にスパッタリング中のスパッタ
圧力をｌ Ｘ １Ｏ−２Ｔｏｒｒ以下の条件に設定する
だけで、基板界面から良好な垂直磁化膜が得られるため
、基板に余分な処理を施す必要がない。
圧力をｌ Ｘ １Ｏ−２Ｔｏｒｒ以下の条件に設定する
だけで、基板界面から良好な垂直磁化膜が得られるため
、基板に余分な処理を施す必要がない。
実施例１
スパッタ装置において、８インチ−のプラスチックを基
板として、ターゲットとして８インチ−のＣＯ上に１６
：のＧｄ、’ｆ’ｂ片を均一に並べたものを使用した。
板として、ターゲットとして８インチ−のＣＯ上に１６
：のＧｄ、’ｆ’ｂ片を均一に並べたものを使用した。
チャンノ（−内を１Ｏ−７Ｔｏｒｒ以下になるまで真空
排気した後、Ａｒガスを導入し、真空排気系のメインノ
（ルプを操作することにより、Ａｒ圧を８ Ｘ ＩＩＪ
−３Ｔｏｒｒにした。スパッタ電力３００Ｗで成膜を行
った。このようにしてできた膜厚１２ｏｏＸの磁性膜は
、膜面に垂直方向に磁化容易軸を有し、またＸ線的に非
晶質であった。なおこのときのターゲット組成は、面積
比で（ＧｄＯ，８４Ｔｂｏ、ｌｅ） ０，２０ ｃＯＮ
８０であった。カーループは、発振波長６３３ｍのＨｅ
−Ｎ ｅレーザーで測定した。カー回転角は残留値で
０．３度であった。
排気した後、Ａｒガスを導入し、真空排気系のメインノ
（ルプを操作することにより、Ａｒ圧を８ Ｘ ＩＩＪ
−３Ｔｏｒｒにした。スパッタ電力３００Ｗで成膜を行
った。このようにしてできた膜厚１２ｏｏＸの磁性膜は
、膜面に垂直方向に磁化容易軸を有し、またＸ線的に非
晶質であった。なおこのときのターゲット組成は、面積
比で（ＧｄＯ，８４Ｔｂｏ、ｌｅ） ０，２０ ｃＯＮ
８０であった。カーループは、発振波長６３３ｍのＨｅ
−Ｎ ｅレーザーで測定した。カー回転角は残留値で
０．３度であった。
第１図は、横軸が磁界Ｅｔ、Ｍ軸がカー回転角θにで表
わす、上記磁性膜を基板側から測定したカーループを示
す特性図である。
わす、上記磁性膜を基板側から測定したカーループを示
す特性図である。
実施例２〜４
実施例１におけるＡｒ圧を下記の表に示すように良化さ
せる以外は、実施例１と同様な方法でこの発明の実施例
による磁性膜を作成し、そのカー回転角の残留値も同じ
く下記表に示す。
せる以外は、実施例１と同様な方法でこの発明の実施例
による磁性膜を作成し、そのカー回転角の残留値も同じ
く下記表に示す。
表
実施例 Ａｒ圧 カー回転角２
５ＸＩＵ Ｔｏｒｒ Ｏ，３１’３ ３
Ｘ１０ Ｔｏｒｒ Ｏ，３１’４ １Ｘ
ＩＵ Ｔｏｒｒ Ｏ，３２゜比較例 メ施例１におけるＡｒ圧を３ Ｘ １０ ”Ｔｏｒｒに
する以外は、実施例１と同様な方法で磁性膜を作成した
。そのカー回転角の残留値は０．０８° であった。第
２図は、上記磁性膜を基板側から測定したカーループを
示す特性図である。
５ＸＩＵ Ｔｏｒｒ Ｏ，３１’３ ３
Ｘ１０ Ｔｏｒｒ Ｏ，３１’４ １Ｘ
ＩＵ Ｔｏｒｒ Ｏ，３２゜比較例 メ施例１におけるＡｒ圧を３ Ｘ １０ ”Ｔｏｒｒに
する以外は、実施例１と同様な方法で磁性膜を作成した
。そのカー回転角の残留値は０．０８° であった。第
２図は、上記磁性膜を基板側から測定したカーループを
示す特性図である。
以上のことから、スパッタ圧がＩ Ｘ １０ Ｔｏｒ
ｒ以下の場合、基板にバイアス電圧を印加しなくとも基
板界面から完全な垂直磁化膜が得られることが解る。
ｒ以下の場合、基板にバイアス電圧を印加しなくとも基
板界面から完全な垂直磁化膜が得られることが解る。
なお、上記実施例ではスパッタ圧力をＡｒガスにより調
節したが、他の不活性ガス例えばヘリウム、ネオンを用
いても良い。
節したが、他の不活性ガス例えばヘリウム、ネオンを用
いても良い。
［発明の効果〕
この発明は以上説明したとおり、膜面に垂直方向に磁化
容易軸を有するＧ ｄ −Ｔｂ −Ｃｏ ３元系非晶質
磁性合金より成る磁性層を基板にバイアス電圧を印加し
ない状態で、スパッタ圧力をＩ×１０Ｔｏｒｒ以下で、
基板上にスパッタリングにより形成することにより、基
板にバイアス電圧印加用の余分な処理を施すことなく、
基板界面から良好な垂直磁化膜が得られる光熱磁気記録
媒体の製造方法を得ることができる。
容易軸を有するＧ ｄ −Ｔｂ −Ｃｏ ３元系非晶質
磁性合金より成る磁性層を基板にバイアス電圧を印加し
ない状態で、スパッタ圧力をＩ×１０Ｔｏｒｒ以下で、
基板上にスパッタリングにより形成することにより、基
板にバイアス電圧印加用の余分な処理を施すことなく、
基板界面から良好な垂直磁化膜が得られる光熱磁気記録
媒体の製造方法を得ることができる。
第１図は、この発明の一実施例による光熱磁気記録媒体
の磁性膜のカーループを示す特性図、第２図は、比較例
の磁性膜のカーループを示す特性図である。
の磁性膜のカーループを示す特性図、第２図は、比較例
の磁性膜のカーループを示す特性図である。
Claims (1)
- 膜面に垂直方向に磁化容易軸を有するＧｄ−Ｔｂ−Ｃ
ｏ３元系非晶質磁性合金より成る磁性層を基板にバイア
ス電圧を印加しない状態で、スパッタ圧力を１×１０＾
−＾２Ｔｏｒｒ以下で、基板上にスパッタリングにより
形成する光熱磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9480885A JPS61253654A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 光熱磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9480885A JPS61253654A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 光熱磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61253654A true JPS61253654A (ja) | 1986-11-11 |
Family
ID=14120354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9480885A Pending JPS61253654A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 光熱磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61253654A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01263959A (ja) * | 1988-04-14 | 1989-10-20 | Hitachi Maxell Ltd | 光磁気記録媒体の製造法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58125251A (ja) * | 1982-01-21 | 1983-07-26 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 光磁気記録媒体 |
| JPS6029956A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Kyocera Corp | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6035354A (ja) * | 1983-10-26 | 1985-02-23 | Kyocera Corp | 光磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-04-30 JP JP9480885A patent/JPS61253654A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58125251A (ja) * | 1982-01-21 | 1983-07-26 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 光磁気記録媒体 |
| JPS6029956A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Kyocera Corp | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6035354A (ja) * | 1983-10-26 | 1985-02-23 | Kyocera Corp | 光磁気記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01263959A (ja) * | 1988-04-14 | 1989-10-20 | Hitachi Maxell Ltd | 光磁気記録媒体の製造法 |
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