JPH0351663B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0351663B2 JPH0351663B2 JP61013723A JP1372386A JPH0351663B2 JP H0351663 B2 JPH0351663 B2 JP H0351663B2 JP 61013723 A JP61013723 A JP 61013723A JP 1372386 A JP1372386 A JP 1372386A JP H0351663 B2 JPH0351663 B2 JP H0351663B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- starting material
- optical fiber
- base material
- distribution
- porous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 10
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 33
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 7
- 229940119177 germanium dioxide Drugs 0.000 description 7
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 6
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 6
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- -1 but at the same time Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01406—Deposition reactors therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
本発明は所定の屈折率分布を正確に再現し得る
多孔質光フアイバ母材の製造装置に関する。
多孔質光フアイバ母材の製造装置に関する。
＜従来の技術＞
光フアイバの多孔質母材の作成法は種種知られ
ている。例えばVAD法とよばれるものは、通常、
酸水素炎中に四塩化硅素を投入し、火炎加水分解
により微細な二酸化硅素の粒子を出発材の長手方
向に積層させて多孔質母材を形成する方法であ
る。この場合、四塩化硅素と燃焼ガスとを噴出反
応させるバーナを多重管構造に分割し、その一部
より四塩化ゲルマニウム等の添加物を同時に噴出
反応させて二酸化ゲルマニウム等を作り、二酸化
硅素と二酸化ゲルマニウム等との所定の半径方向
の空間的濃度分布のものを得るようにしている。
ている。例えばVAD法とよばれるものは、通常、
酸水素炎中に四塩化硅素を投入し、火炎加水分解
により微細な二酸化硅素の粒子を出発材の長手方
向に積層させて多孔質母材を形成する方法であ
る。この場合、四塩化硅素と燃焼ガスとを噴出反
応させるバーナを多重管構造に分割し、その一部
より四塩化ゲルマニウム等の添加物を同時に噴出
反応させて二酸化ゲルマニウム等を作り、二酸化
硅素と二酸化ゲルマニウム等との所定の半径方向
の空間的濃度分布のものを得るようにしている。
また、外付け法とよばれるものは、通常酸水素
炎中に四塩化硅素と添加物である四塩化ゲルマニ
ウム等とを所定の混合比にて供給し、この火炎を
出発材の側面に吹き付けて長手方向に出発材を移
動させ、四塩化硅素と四塩化ゲルマニウムとの混
合比を次第に変えて、所望の二酸化ゲルマニウム
等の半径方向分布をもつ多孔質光フアイバ母材を
作成するものである。
炎中に四塩化硅素と添加物である四塩化ゲルマニ
ウム等とを所定の混合比にて供給し、この火炎を
出発材の側面に吹き付けて長手方向に出発材を移
動させ、四塩化硅素と四塩化ゲルマニウムとの混
合比を次第に変えて、所望の二酸化ゲルマニウム
等の半径方向分布をもつ多孔質光フアイバ母材を
作成するものである。
また屈折率変化を与える添加物として四塩化ゲ
ルマニウムの例について説明したが、この他の添
加物でもよく複数の添加物を混合させる場合もあ
る。
ルマニウムの例について説明したが、この他の添
加物でもよく複数の添加物を混合させる場合もあ
る。
また火炎反応の際、添加物を混入して反応させ
る例について説明したが、純粋の酸化硅素SiO2
の多孔質体を作り、焼結時に添加物を注入する方
法も知られている。＜発明が解決しようとする問
題点＞ 光フアイバ母材は以上のように作られるが、い
ずれの方法においても、光フアイバの品質を決定
するのは、多孔質母材作製時の製造条件の安定性
あるいは一様性である。
る例について説明したが、純粋の酸化硅素SiO2
の多孔質体を作り、焼結時に添加物を注入する方
法も知られている。＜発明が解決しようとする問
題点＞ 光フアイバ母材は以上のように作られるが、い
ずれの方法においても、光フアイバの品質を決定
するのは、多孔質母材作製時の製造条件の安定性
あるいは一様性である。
即ち、VAD法においては、添加物の空間濃度
分布の安定化が必須であり、この安定化が変動す
ると母材内の屈折率分布が変り、よい特性が得ら
れない。又、多孔質ガラスの嵩密度分布が一様で
あることも重要であり、この分布が一様でないと
焼結時に外径が変動したり、極端な場合は熱応力
によつて母材が割れる。
分布の安定化が必須であり、この安定化が変動す
ると母材内の屈折率分布が変り、よい特性が得ら
れない。又、多孔質ガラスの嵩密度分布が一様で
あることも重要であり、この分布が一様でないと
焼結時に外径が変動したり、極端な場合は熱応力
によつて母材が割れる。
また外付け法の場合には添加物の出発材上への
堆積の経時変化がないことが要求され、この変化
があると多孔質光フアイバ母材の屈折率分布が変
動する。又、多孔質ガラスの嵩密度分布が一様で
あることもVADの場合と同様に重要であり、こ
れが一様でないと外径が変動したり、極端な場合
は熱応力によつて母材が割れる。
堆積の経時変化がないことが要求され、この変化
があると多孔質光フアイバ母材の屈折率分布が変
動する。又、多孔質ガラスの嵩密度分布が一様で
あることもVADの場合と同様に重要であり、こ
れが一様でないと外径が変動したり、極端な場合
は熱応力によつて母材が割れる。
この嵩密度分布は、添加物を全く含まない純粋
な二酸化硅素のみを堆積させる場合においても、
焼結後の最終的寸法を規定する意味で重要であ
る。従つて、安定した堆積を行うことはこの種の
技術にとつて必須の重要な技術である。
な二酸化硅素のみを堆積させる場合においても、
焼結後の最終的寸法を規定する意味で重要であ
る。従つて、安定した堆積を行うことはこの種の
技術にとつて必須の重要な技術である。
ところで、いずれの方法においても上述した変
動は焼結ガスや四塩化硅素及び添加物の供給量を
厳密に制御していても起こる。その原因は火炎に
よつてガラス微粒子が生成される際、たとえ火災
中の各種のガスの濃度が均一であつても、火災が
ゆらいだり、火災の方向が変動したりして、堆積
対象と火災の関係位置が変動するためである。
動は焼結ガスや四塩化硅素及び添加物の供給量を
厳密に制御していても起こる。その原因は火炎に
よつてガラス微粒子が生成される際、たとえ火災
中の各種のガスの濃度が均一であつても、火災が
ゆらいだり、火災の方向が変動したりして、堆積
対象と火災の関係位置が変動するためである。
この点につき更にVAD法の例で説明する。
第３図は従来のVAD法を実施する多孔質光フ
アイバ母材の製造装置の構成を示す概略図であ
る。
アイバ母材の製造装置の構成を示す概略図であ
る。
バーナ５より噴出した燃焼ガスと四塩化硅素お
よび添加物は、火災中で反応し、二酸化硅素の微
粒子を形成するが、同時に副生成物として通常塩
化水素等の有毒ガスを発生するため、このような
反応は通常密閉したマツフル４内で行われる。図
において１は回転チヤツクであり、回転しつつ上
方へ引き上げられる。２は出発材であつてチヤツ
ク１に固定される。３は多孔質光フアイバ母材で
微細な二酸化硅素の粒子及び添加物の堆積微粒子
である。マツフル４は出発材２との間に若干のク
リヤランスが有るが、実質的に密閉構造となつて
おり、バーナ５には燃焼ガス用配管７と、酸素用
配管８と塩化硅素のガス用配管９と、添加物のガ
ス用配管１０とがそれぞれ接続している。６は排
気口である。バーナ５によつて配管７，８によつ
て供給された水素及び酸素は酸水素炎を形成し、
ここに配管９より四塩化硅素が加わると火災加水
分解反応により二酸化硅素が得られ、配管１０よ
り添加物、例えば四塩化ゲルマニウムが供給され
ると水蒸気と反応して二酸化ゲルマニウムが生成
される。これら二酸化硅素及び二酸化ゲルマニウ
ムは混合状態で出発材２上にて堆積される。出発
材２は回転しつつ徐々に上方に引き上げられるの
で第３図に示すような多孔質光フアイバ母材３が
形成される。
よび添加物は、火災中で反応し、二酸化硅素の微
粒子を形成するが、同時に副生成物として通常塩
化水素等の有毒ガスを発生するため、このような
反応は通常密閉したマツフル４内で行われる。図
において１は回転チヤツクであり、回転しつつ上
方へ引き上げられる。２は出発材であつてチヤツ
ク１に固定される。３は多孔質光フアイバ母材で
微細な二酸化硅素の粒子及び添加物の堆積微粒子
である。マツフル４は出発材２との間に若干のク
リヤランスが有るが、実質的に密閉構造となつて
おり、バーナ５には燃焼ガス用配管７と、酸素用
配管８と塩化硅素のガス用配管９と、添加物のガ
ス用配管１０とがそれぞれ接続している。６は排
気口である。バーナ５によつて配管７，８によつ
て供給された水素及び酸素は酸水素炎を形成し、
ここに配管９より四塩化硅素が加わると火災加水
分解反応により二酸化硅素が得られ、配管１０よ
り添加物、例えば四塩化ゲルマニウムが供給され
ると水蒸気と反応して二酸化ゲルマニウムが生成
される。これら二酸化硅素及び二酸化ゲルマニウ
ムは混合状態で出発材２上にて堆積される。出発
材２は回転しつつ徐々に上方に引き上げられるの
で第３図に示すような多孔質光フアイバ母材３が
形成される。
この場合、二酸化硅素と二酸化ゲルマニウムと
の火災中の分布を一定にしておけば、多孔質光フ
アイバ母材３中のこれらの分布も一定となり、こ
れを焼結することにより所望の屈折率分布をもつ
透明ガラス化した光フアイバ母材を得ることがで
きる。多孔質光フアイバ母材３に堆積しなかつた
余剰の二酸化硅素及び二酸化ゲルマニウムの微粒
子及び塩化水素は排気口６から外部に排出され
る。このときのマツフル４内の気流の流れは第３
図中、矢印Ｍのような流れが支配的であるが、反
応装置全体はマツフル４によつて密閉されている
ため、矢印S1、S2等のうず流が発生する。これら
のうず流の移動がバーナ５と多孔質光フアイバ母
材３間の火災の流れを乱し、火災内のガラス微粒
子の分布と堆積された多孔質光フアイバ母材３中
の二酸化硅素に対する二酸化ゲルマニウムの濃度
分布が対応しなくなる。また矢印S1のごときうず
流は未堆積の二酸化硅素及び二酸化ゲルマニウム
の微粒子をマツフル４の内壁に附着させる。この
附着したガラス微粒子が時として壁面からはが
れ、落下して多孔質光フアイバ母材に附着するこ
とが起こると、多孔質光フアイバ母材３の形状の
異常や屈折率分布の異常等の原因となるばかりで
なく、局所的嵩密度の不整が生じる。
の火災中の分布を一定にしておけば、多孔質光フ
アイバ母材３中のこれらの分布も一定となり、こ
れを焼結することにより所望の屈折率分布をもつ
透明ガラス化した光フアイバ母材を得ることがで
きる。多孔質光フアイバ母材３に堆積しなかつた
余剰の二酸化硅素及び二酸化ゲルマニウムの微粒
子及び塩化水素は排気口６から外部に排出され
る。このときのマツフル４内の気流の流れは第３
図中、矢印Ｍのような流れが支配的であるが、反
応装置全体はマツフル４によつて密閉されている
ため、矢印S1、S2等のうず流が発生する。これら
のうず流の移動がバーナ５と多孔質光フアイバ母
材３間の火災の流れを乱し、火災内のガラス微粒
子の分布と堆積された多孔質光フアイバ母材３中
の二酸化硅素に対する二酸化ゲルマニウムの濃度
分布が対応しなくなる。また矢印S1のごときうず
流は未堆積の二酸化硅素及び二酸化ゲルマニウム
の微粒子をマツフル４の内壁に附着させる。この
附着したガラス微粒子が時として壁面からはが
れ、落下して多孔質光フアイバ母材に附着するこ
とが起こると、多孔質光フアイバ母材３の形状の
異常や屈折率分布の異常等の原因となるばかりで
なく、局所的嵩密度の不整が生じる。
本発明はかかる従来技術の欠点に鑑みてなされ
たもので、バーナ５の火炎中におけるガラス微粒
子の分布と、堆積された多孔質光フアイバ母材中
のガラス微粒子の分布とが一対一に関連するよう
な多孔質光フアイバ母材の製造装置を提供するこ
とを目的とする。
たもので、バーナ５の火炎中におけるガラス微粒
子の分布と、堆積された多孔質光フアイバ母材中
のガラス微粒子の分布とが一対一に関連するよう
な多孔質光フアイバ母材の製造装置を提供するこ
とを目的とする。
＜問題点を解決するための手段＞
本発明による多孔質光フアイバ母材の製造装置
は、ガスが整流状態で一様に流れる竪型の反応容
器と、この反応容器に連結されて当該反応容器に
ガス流を発生させる手段と、前記反応容器にて前
記ガス流を横切る方向に往復動自在に支持され且
つ多孔質ガラスが堆積する棒状の出発材と、この
出発材に堆積するガラス微粒子の生成度合に応じ
て該出発材を駆動回転させながら軸方向へ引き上
げる回転手段と、前記出発材の外周に下方からガ
ラス微粒子を生成させて前記出発材に付着成長さ
せるバーナとを具えたものである。
は、ガスが整流状態で一様に流れる竪型の反応容
器と、この反応容器に連結されて当該反応容器に
ガス流を発生させる手段と、前記反応容器にて前
記ガス流を横切る方向に往復動自在に支持され且
つ多孔質ガラスが堆積する棒状の出発材と、この
出発材に堆積するガラス微粒子の生成度合に応じ
て該出発材を駆動回転させながら軸方向へ引き上
げる回転手段と、前記出発材の外周に下方からガ
ラス微粒子を生成させて前記出発材に付着成長さ
せるバーナとを具えたものである。
＜作用＞
バーナからの燃焼ガス中にガラス原料を特定の
空間的分布で供給し、一様な整流ガス中で出発材
上にガラス微粒子を噴出させることによつて、火
災はゆらぐことなく所定の形状を保ち、出発材上
には所望の濃度分布をもつガラス微粒子が堆積す
る。
空間的分布で供給し、一様な整流ガス中で出発材
上にガラス微粒子を噴出させることによつて、火
災はゆらぐことなく所定の形状を保ち、出発材上
には所望の濃度分布をもつガラス微粒子が堆積す
る。
＜実施例＞
本発明による多孔質光フアイバ母材の製造装置
をVAD法に応用した実施例の概念を表す、第１
図に示すように、マツフル１１を貫通してこのマ
ツフル１１外に設けられた回転チヤツク１によつ
て把持された棒状の純石英で形成された出発材２
には多孔質光フアイバ母材３が棒状に堆積してお
り、その生成度合に応じて出発材を駆動回転させ
ながら軸方向へ引き上げている。また、前記マツ
フル１１中には燃焼ガス中にガラス原料を特定の
空間的分布で供給してガラス微粒子を生成させる
酸水素炎バーナ５が出発材２の先端部に下方から
対向するように配置され、これによつて回転する
出発材２の先端に、燃焼ガス中のガラス原料の空
間的分布に対応して、半径方向に特定の成分分布
をもつ多孔質光フアイバ母材３を出発材２の軸方
向に成長させるマツフル１１内はフイルタ１２を
通じてごみを除去され、矢印に示すように均一に
整流された空気あるいは窒素等のガス流が供給さ
れ、出発材２並びに出発材２の先端に堆積された
多孔質光フアイバ母材３は乱流のない均一なガス
流中に保たれる。
をVAD法に応用した実施例の概念を表す、第１
図に示すように、マツフル１１を貫通してこのマ
ツフル１１外に設けられた回転チヤツク１によつ
て把持された棒状の純石英で形成された出発材２
には多孔質光フアイバ母材３が棒状に堆積してお
り、その生成度合に応じて出発材を駆動回転させ
ながら軸方向へ引き上げている。また、前記マツ
フル１１中には燃焼ガス中にガラス原料を特定の
空間的分布で供給してガラス微粒子を生成させる
酸水素炎バーナ５が出発材２の先端部に下方から
対向するように配置され、これによつて回転する
出発材２の先端に、燃焼ガス中のガラス原料の空
間的分布に対応して、半径方向に特定の成分分布
をもつ多孔質光フアイバ母材３を出発材２の軸方
向に成長させるマツフル１１内はフイルタ１２を
通じてごみを除去され、矢印に示すように均一に
整流された空気あるいは窒素等のガス流が供給さ
れ、出発材２並びに出発材２の先端に堆積された
多孔質光フアイバ母材３は乱流のない均一なガス
流中に保たれる。
このため酸水素炎バーナ５から噴出するガラス
原料を含む燃焼ガスの火災はきわめて安定し、出
発材２の先端に所定の成分分布をもつ多孔質光フ
アイバ母材３が付着堆積する。尚、出発材２ある
いは多孔質光フアイバ母材３の先端部に堆積され
なかつたガラス微粒子は、反応ガスと共に排気ガ
ス流となり、マツフル１１と一体のダクト１３を
経て流出する。
原料を含む燃焼ガスの火災はきわめて安定し、出
発材２の先端に所定の成分分布をもつ多孔質光フ
アイバ母材３が付着堆積する。尚、出発材２ある
いは多孔質光フアイバ母材３の先端部に堆積され
なかつたガラス微粒子は、反応ガスと共に排気ガ
ス流となり、マツフル１１と一体のダクト１３を
経て流出する。
本発明による多孔質光フアイバ母材の製造装置
の他の一実施例を表す第２図に示すように、一方
のダクト１４より図示しない高性能フイルタによ
つて清浄化された空気あるいは窒素ガスを一様な
ガス流としてマツフル１１内に供給し、反応ガス
も一様なガス流としてダクト１３を経て外部に放
出するようにしても良い。なお、多孔質光フアイ
バ母材３の生成過程は第１図に示す実施例の場合
と変わらない。
の他の一実施例を表す第２図に示すように、一方
のダクト１４より図示しない高性能フイルタによ
つて清浄化された空気あるいは窒素ガスを一様な
ガス流としてマツフル１１内に供給し、反応ガス
も一様なガス流としてダクト１３を経て外部に放
出するようにしても良い。なお、多孔質光フアイ
バ母材３の生成過程は第１図に示す実施例の場合
と変わらない。
以上説明した実施例はVAD法の例について説
明したが、外付け法の例についても全く同様に半
径方向並びに長手方向に、所望のガラス成分分布
をもつ多孔質ガラス母材を出発材の外周面に形成
することができる。なお、この場合には酸水素炎
バーナに代えてメタンバーナを利用するようにし
ても良い。
明したが、外付け法の例についても全く同様に半
径方向並びに長手方向に、所望のガラス成分分布
をもつ多孔質ガラス母材を出発材の外周面に形成
することができる。なお、この場合には酸水素炎
バーナに代えてメタンバーナを利用するようにし
ても良い。
＜発明の効果＞
本発明の多孔質光フアイバ母材の製造装置によ
れば、反応容器内での火災のゆらぎを全くなくす
ることにより多孔質光フアイバ母材の半径方向並
びに長手方向に所望の成分分布をもつものが得ら
れた。かかる多孔質光フアイバ母材を焼結し、こ
れを紡糸することによつて、所望の屈折率分布を
もつ品質の優れた光フアイバが得られるようにな
つた。
れば、反応容器内での火災のゆらぎを全くなくす
ることにより多孔質光フアイバ母材の半径方向並
びに長手方向に所望の成分分布をもつものが得ら
れた。かかる多孔質光フアイバ母材を焼結し、こ
れを紡糸することによつて、所望の屈折率分布を
もつ品質の優れた光フアイバが得られるようにな
つた。
第１図は本発明による多孔質光フアイバ母材の
製造装置の一実施例の概略図、第２図は本発明の
他の実施例装置の概略図、第３図は従来の多孔質
光フアイバ母材の製造装置の概略図である。 図面中、１は回転チヤツク、２は出発材、３は
多孔質光フアイバ母材、５は酸水素災バーナ、１
１はマツフル、１２はフイルタ、１３，１４はダ
クトである。
製造装置の一実施例の概略図、第２図は本発明の
他の実施例装置の概略図、第３図は従来の多孔質
光フアイバ母材の製造装置の概略図である。 図面中、１は回転チヤツク、２は出発材、３は
多孔質光フアイバ母材、５は酸水素災バーナ、１
１はマツフル、１２はフイルタ、１３，１４はダ
クトである。
Claims (1)
- １ ガスが整流状態で一様に流れる竪型の反応容
器と、この反応容器に連結されて当該反応容器に
ガス流を発生させる手段と、前記反応容器にて前
記ガス流を横切る方向に往復動自在に支持され且
つ多項質ガラスが堆積する棒状の出発材と、この
出発材に堆積するガラス微粒子の生成度合に応じ
て該出発材を駆動回転させながら軸方向へ引き上
げる回転手段と、前記出発材の外周に下方からガ
ラス微粒子を生成させて前記出発材に付着成長さ
せるバーナとを具えた多孔質光フアイバ母材の製
造装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61013723A JPS62171939A (ja) | 1986-01-27 | 1986-01-27 | 多孔質光フアイバ母材の製造装置 |
| AU67893/87A AU589488B2 (en) | 1986-01-27 | 1987-01-21 | Apparatus for the production of porous preform of optical fiber |
| DE8787101120T DE3778170D1 (de) | 1986-01-27 | 1987-01-27 | Vorrichtung fuer die herstellung von poroesen vorformen optischer fasern. |
| ES198787101120T ES2031458T3 (es) | 1986-01-27 | 1987-01-27 | Aparato para la produccion de preforma porosa para una fibra optica. |
| US07/007,377 US4740226A (en) | 1986-01-27 | 1987-01-27 | Apparatus for the production of porous preform of optical fiber |
| EP87101120A EP0231022B1 (en) | 1986-01-27 | 1987-01-27 | Apparatus for the production of porous preform of optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61013723A JPS62171939A (ja) | 1986-01-27 | 1986-01-27 | 多孔質光フアイバ母材の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62171939A JPS62171939A (ja) | 1987-07-28 |
| JPH0351663B2 true JPH0351663B2 (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=11841164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61013723A Granted JPS62171939A (ja) | 1986-01-27 | 1986-01-27 | 多孔質光フアイバ母材の製造装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4740226A (ja) |
| EP (1) | EP0231022B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62171939A (ja) |
| AU (1) | AU589488B2 (ja) |
| DE (1) | DE3778170D1 (ja) |
| ES (1) | ES2031458T3 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5028246A (en) * | 1986-02-03 | 1991-07-02 | Ensign-Bickford Optical Technologies, Inc. | Methods of making optical waveguides |
| FR2647778B1 (fr) * | 1989-06-05 | 1992-11-20 | Comp Generale Electricite | Procede et dispositif de depot externe par plasma de silice exempte d'ions hydroxyles |
| US5318611A (en) * | 1992-03-13 | 1994-06-07 | Ensign-Bickford Optical Technologies, Inc. | Methods of making optical waveguides and waveguides made thereby |
| JP2803510B2 (ja) * | 1993-02-10 | 1998-09-24 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法および装置 |
| WO1997010182A1 (en) * | 1995-09-12 | 1997-03-20 | Corning Incorporated | Furnace, method of use, and optical product made by furnace in producing fused silica glass |
| JP3832008B2 (ja) * | 1997-02-28 | 2006-10-11 | 株式会社ニコン | 石英ガラスの製造装置 |
| JP3557070B2 (ja) * | 1997-03-06 | 2004-08-25 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材製造装置 |
| JP3386354B2 (ja) * | 1997-12-03 | 2003-03-17 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
| JP3796561B2 (ja) * | 1999-04-21 | 2006-07-12 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラスの製造方法 |
| KR100651146B1 (ko) * | 1999-07-02 | 2006-11-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 유리 모재를 제조하는 장치 및 그 방법 |
| US6314766B1 (en) * | 2000-01-19 | 2001-11-13 | Corning Incorporated | Apparatus for minimizing air infiltration in the production of fused silica glass |
| DE10111733B4 (de) * | 2001-03-09 | 2007-02-08 | Heraeus Tenevo Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines SiO2-Rohlings |
| EP1256553B1 (en) * | 2001-05-08 | 2011-03-23 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus and method for producing a glass preform for optical fibres by deposition |
| JP2003034540A (ja) * | 2001-07-18 | 2003-02-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス微粒子堆積体製造装置 |
| US20050199014A1 (en) * | 2001-07-18 | 2005-09-15 | Motonori Nakamura | Apparatus for producing glass particles deposit |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5414753A (en) * | 1977-07-06 | 1979-02-03 | Takehiko Shimauchi | Depolarizer |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4162908A (en) * | 1975-08-16 | 1979-07-31 | Heraeus Quarzschmelze Gmbh | Method of producing synthetic quartz glass, apparatus for the practice of the method, and use of the synthetic quartz glass |
| JPS57100930A (en) * | 1980-12-12 | 1982-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of base material for optical fiber |
| JPS57100934A (en) * | 1980-12-12 | 1982-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacturing of optical fiber preform |
| JPS57100933A (en) * | 1980-12-12 | 1982-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of base material for optical fiber |
| US4390357A (en) * | 1981-10-29 | 1983-06-28 | Western Electric Company, Inc. | Methods of and system for clean air delivery to lightguide fiber drawing apparatus |
| JPS6046940A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光学系ガラス母材の製造方法とその装置 |
| JPS6090844A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光学系ガラス微粉末の堆積方法 |
| DE3420790A1 (de) * | 1984-06-04 | 1985-12-05 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer vorform fuer lichtwellenleiter |
| FR2569180B1 (fr) * | 1984-08-14 | 1992-06-19 | Fibres Optiques Ind | Procede de preparation de silice synthetique, notamment pour la fabrication de fibres optiques, silice synthetique et fibres optiques obtenues |
-
1986
- 1986-01-27 JP JP61013723A patent/JPS62171939A/ja active Granted
-
1987
- 1987-01-21 AU AU67893/87A patent/AU589488B2/en not_active Ceased
- 1987-01-27 EP EP87101120A patent/EP0231022B1/en not_active Expired
- 1987-01-27 ES ES198787101120T patent/ES2031458T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-01-27 US US07/007,377 patent/US4740226A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-01-27 DE DE8787101120T patent/DE3778170D1/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5414753A (en) * | 1977-07-06 | 1979-02-03 | Takehiko Shimauchi | Depolarizer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU589488B2 (en) | 1989-10-12 |
| EP0231022A3 (en) | 1989-01-04 |
| ES2031458T3 (es) | 1992-12-16 |
| US4740226A (en) | 1988-04-26 |
| EP0231022A2 (en) | 1987-08-05 |
| JPS62171939A (ja) | 1987-07-28 |
| AU6789387A (en) | 1987-07-30 |
| EP0231022B1 (en) | 1992-04-15 |
| DE3778170D1 (de) | 1992-05-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0351663B2 (ja) | ||
| JPH039047B2 (ja) | ||
| JP2003226544A (ja) | 光ファイバ多孔質母材の製造方法 | |
| JP2003226543A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法およびこれを用いた光ファイバ母材製造用バーナ装置 | |
| JP2006182624A (ja) | ガラス棒状体の製造方法 | |
| JP3651129B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造装置及び製造方法 | |
| KR100630117B1 (ko) | 기상 외부 증착 방법에 의한 광섬유 모재 제작 장치 | |
| JPS6048456B2 (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0369527A (ja) | 光ファイバ用多孔質母材合成用トーチ | |
| JPS62162637A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPH0222137A (ja) | 合成石英母材の製造方法 | |
| JPS6044258B2 (ja) | 合成ト−チ | |
| JPS61151031A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPS6041627B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPS63282137A (ja) | 多孔質石英ガラス母材の製造法 | |
| KR930001938B1 (ko) | 광파이버용 다공질모재의 제조방법 | |
| JPH10330129A (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス体の製造方法 | |
| JPH0331657B2 (ja) | ||
| JP3169503B2 (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JP3758598B2 (ja) | 多孔質ガラス母材の製造方法及び装置 | |
| JP2003054957A (ja) | 多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JPS63242939A (ja) | ガラス微粒子合成ト−チ | |
| JPS62162646A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
| KR870000609B1 (ko) | 광파이버모재(母材)의 제조방법 | |
| JP2559489B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |