JPH03501965A - 高純度の低砒素フッ化水素の製造方法 - Google Patents

高純度の低砒素フッ化水素の製造方法

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JPH03501965A JP1508034A JP50803489A JPH03501965A JP H03501965 A JPH03501965 A JP H03501965A JP 1508034 A JP1508034 A JP 1508034A JP 50803489 A JP50803489 A JP 50803489A JP H03501965 A JPH03501965 A JP H03501965A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 の 、フ・・ 5.のI゛告 パ  ロス1 レンス この出願は1987年2月12日出願の同時係属出願第014.422号の一部 継続出願である。
見墾Ω立野 本発明は砒素不純物が低レベルである高純度無水フッ化水素(HF)の製造に関 する。さらに詳しくは、本発明は工業等級のフッ化水素またはフッ化水素製造プ ロセス中に得られる中間生成物を、モリブデン、モリブデン化合物、バナジウム およびバナジウム化合物から成る群から選択される成分とリン酸塩化合物との触 媒量から成る触媒の存在下で砒素不純物を酸化するために過酸化水素と接触させ て、揮発性の三価砒素不純物を不揮発性の三価砒素化合物に酸化し、生成した混 合物を蒸留して高純度無水フッ化水素を回収することから成る製造方法に関する 。このようにして回収されたHFは低レベルの砒素不純物を有する。
見咀Ω宜景 フッ化水素の製造に一般に用いられた方法はホタル石と硫酸との混合物を回転炉 中で加熱することを含む。炉を出る粗フッ化水素ガスを洗浄して、含まれる固体 を除去し、冷却し、凝縮して、−次組生成物を得る。少なくとも95重量%のH Fを含む、形成された一次粗生成物は種々な好ましくない不純物を含むため、分 溜によってこれらを除去して、99.95$HF以上の純度を有する工業等級の 無水フッ化水素を得る。このようにして得られた工業等級の無水フッ化水素は例 えば砒素のような好ましくない不純物を多量にまだ含む、工業等級の無水フッ化 水素中に存在する砒素不純物量は無水フッ化水素の製造原料であるホタル石中の 砒素不純物に依存する。工業等級の無水フッ化水素は一般に約50〜5oopp −の砒素不純物を含有する。このようなレベルでの無水フッ化水素中の砒素不純 物の存在は多くの用途にとって非常に好ましくない、無水フッ化水素は精製工業 および化学製造工業に用いられており、無水フッ化水素中の砒素不純物は触媒の 効力を減じ、製品を汚染し、製品の品質に不利に影響する。エレクトロニクス産 業では、トランジスターの製造に用いられる。前記電子産業製品をフッ化水素に よって洗浄またはエツチングした後にこれらの製品の表面上に少量の砒素不純物 が残留することを阻止するためには、無水フッ化水素が高度に純粋であり、砒素 が非常に低レベルであることが必要である。
工業等級の無水フッ化水素から砒素を除去するために、幾つかのプロセスが提案 されている。これらには、フッ素樹脂製装置での多重分留を含むプロセスカτ存 在する。しかし、このような方法は少量の高純度無水フッ化水素の製造にのみ適 しており、営利的な量の製造に経済的であるとは考えられない。
米国特許第3.166.379号は例えば過マンガン酸塩またはクロム酸塩のよ うな酸化剤によって、または酸化剤とハロゲン、好ましくはヨウ素とによって砒 素不純物を不揮発性化合物に変える処理によって、高純度無水フ・y化水素を製 造する方法を開示する。この方法は無水フッ化水素酸の精製に適しているが、無 水フッ化水素を蒸留する場合にマンガン化合物およびクロム化合物によって汚染 されるという欠点を有している。
上記問題に対する解決法は米国特許第3.689.370号で特許を請求されて おり、この特許は過マンガン酸塩またはクロム酸塩処理後に過剰な酸化剤を除去 するために無水フッ化水素に無機第1鉄塩を添加することを述べている。しか過 マンガン酸塩またはクロム酸塩処理後に過剰な酸化剤を減するために例えば過酸 化水素のような重金属を含まない試薬を無水フッ化水素へ添加することを含む方 法を述べている。この方法は非常に敏感であり、連続操作には不便である。
上記特許の系では、フッ化水素酸水溶液から過マンガン酸塩水溶液を用いて砒の 添加は砒素除去のために無水フッ化水素に固体の過マンガン酸カリウムを加える ことによって克服することができる。しかし、この方法はプランド操作中爆発の 危険が起りうるという問題を伴っている。
ダブりニー・ローランド(W、 Roland)等は東独特許第62.309号 (1968年6月20日)において、40〜60℃の30%H2O,によって8 0〜90%HF水溶液から砒素を除去することを特許請求している。彼らは、8 0〜90%HFおよび40〜60℃に維持した反応器に無水フッ化水素と適当な 濃度の過酸化水素溶液とを連続添加することによって、無水フッ化水素からの砒 素除去を達成することも特許請求している0反応器の中味を蒸留し、水に吸収さ せると、HF生成物の精製水溶液が得られる。この方法はHF生成物の水溶液の 製造に限定され、精製無水フッ化水素の製造には好ましくない。
米国特許第4,083,9451号は、0〜75℃における0、7gH2O2と 0.61メタノールとの添加による無水フッ化水素からの砒素除去を特許請求し ている。
しかし、この方法は異物(foreign material)をプロセスに導 入するという欠点を有している。
米国特許第4,491,570号は塩化水素またはフッ化物塩または両方による 処理および次の、不揮発性砒素化合物からの蒸留による精製無水フッ化水素の分 離による無水フッ化水素からの砒素の除去を特許請求している。この方法も精製 無水フッ化水素中に異物を導入する可能性を有している。
米国特許第3,687,622号は低砒素無水フッ化水素を製造するための11 5psia以上の圧力における高圧蒸留方法を述べているにの方法の主な欠点は 蒸留に非常な高圧を要することである。
上記の先行技術の砒素除去方法の全てでは、精製無水フッ化水素に異物を導入す る危険性がある。それ故、検知されうる量の異物を精製無水フッ化水素に導入せ ず、また爆発の危険性も無い、連続ベースの簡単で経済的な砒素除去方法が要求 されている。
几叫凶要り 本発明では、最終生成物に異物を導入せず、しかも連続操作に適合した、砒素不 純物が低レベルである高純度無水フッ化水素の製造方法を提供する。この方法は (i)モリブデン、モリブデン化合物、バナジウムおよびバナジウム化合物から 成る群から選択した要素と(ii)リン酸塩化合物との触媒量から成る触媒の存 在下で工業等級の無水フッ化水素または製造プロセスで得られる中間生成物を有 効量の過酸化水素と、無水フッ化水素中の揮発性三価砒素不純物を不揮発性の三 価砒素化合物に酸化するために充分な温度および時間において接触させ、生成す る混合物を蒸留し、砒素不純物レベルの減少した高純度無ホフッ化水素を回収す ることから成る。フッ化水素中の有機汚染物の存在は砒素不純物の過酸化水素酸 化を妨げることが判明している。この場合に、この反応を例えば硝酸または硝酸 塩のような、有機汚染物の酸化剤の存在下で実施することによってこのような妨 害が避けられることが判明している。
い の、l tよ 本発明の実施では、過酸化水素、酸化剤および本発明による特定の触媒を砒素除 去反応器に個別にまたは混合して供給する。高レベルの砒素不純物を含む工業等 級無水フッ化水素または無水フッ化水素製造で得られる中間生成物を砒素除去反 応器に連続的に供給する。砒素除去反応器では、揮発性三価砒素不純物が不揮発 性三価砒素化合物に酸化される。砒素除去反応器からの反応生成物を次に連続蒸 留塔に供給する。砒素不純物レベルの低下した高純度無ホフツ化水素を蒸留塔の 頂部から生成物として取出す、蒸留塔の底部からは高レベルの砒素不純物を含む 廃棄物流を取出す、廃棄物流をさらに処理して揮発性)(Fを回収する。不揮発 性砒素不純物を分離して、適当なやり方で廃棄する。
本発明のプロセスでは、低濃度または高濃度のいずれで存在するとしても、実質 的に全ての砒素不純物が無水フッ化水素から除去される。ここでのr無水フッ化 水素」なる表現は少なくとも95重量%、好ましくは少なくとも99.9重量% のフッ化水素から成るフッ化水素を意味する。
過酸化水素試薬は揮発性の三価砒素不純物を次の反応に従って不揮発性の三価砒 素化合物に酸化する: Asす+H2O2+2H” As 4!+2H2O反応の副生成物としては水の みが形成される。上記反応に必要な化学量論量の過酸化水素では、三価砒素不純 物の全てを三価砒素に転化するために充分ではない、妥当な反応時間で実質的な 転化を達成するためには、大きく過剰な、好ましくは化学量論量の少なくとも約 3倍の過酸化水素が好ましい、上記反応に用いられない過剰な過酸化水素は分解 して、H2Oと02を形成する。
H2O2H2O+1/2 Ch 過酸化水素が反応の終了時に完全にまたは実質的に分解するため、最終生成物を 汚染しないことが判明している。市販のいずれの過酸化水素も本発明の方法に用 いることができ、過酸化水素は試薬等級または商用等級のどちらであってもよい 、さらに、この過酸化物は他の化学薬品製造の副生成物であってもよい、市販の 70重皿%までの過酸化水素を用いることができるが、他の濃度のいずれの過酸 化水素も本発明の方法に用いることができる。水中50〜70重量%の過酸化水 素を用いることが好ましい、このような過酸化水素は最少量の水をプロセスに導 入するにすぎないからである。
種々な等級の市販過酸化水素が存在するが、試薬等級と商用等級との差は本発明 のプロセスにとって重要である。試薬等級過酸化水素は安定剤が殆んど加えられ ていない純粋な化合物である。他方では、商用等級の過酸化水素は実質的な量の 安定剤が加えられている。商用等級過酸化水素に一般に用いられる安定剤はスズ 酸ナトリウムおよびリン酸塩を含む化合物である。それ故、リン酸塩安定剤を含 む商用当等級の過酸化水素を本発明のプロセスに用いる場合には、触媒のリン酸 塩成分を別に加える必要がない。
本発明のプロセスへの好ましい過酸化水素使用量は無水HFの重量を基準にして 約0.1〜約1.5重量%、さらに好ましくは約0.1〜約0.55重1%の範 囲内である。
本発明の方法に用いる過酸化水素の上限は経済性、扱い易さおよび装置腐食問題 によってのみ限定されるにすぎない0本発明の方法に用いる過酸化水素の有効量 は最初のフッ化水素中に存在する砒素不純物量に有意に依存し、最終の無水フッ 化水素生成物に要求される砒素不純物レベルにも依存する。
本発明の方法は満足できる結果を達成するために触媒を必要とする。触媒は反応 速度を高め、それによって反応の完成に必要な反応時間および温度を低下させ、 砒素除去に必要な過酸化水素量をも減する。触媒は揮発性砒素不純物を不揮発性 砒素化合物に転化する速度をも高める。
我々は、適当な触媒がモリブデン、モリブデン化合物、バナジウムまたはバナジ ウム化合物およびリン酸塩化合物を含むものであることを発見した。
モリブデン成分はモリブデン金属、例えばアセチルアセトン酸モリブデンすなわ ちMoot[CH3C0CHCOCH3] 3のような有機モリブデン化合物ま たは例えばモノ−もしくはポリ−モリブデン酸アルカリ金属、酸化モリブデンま たはモノ−もしくはポリ−モリブデン酸アンモニウムのような無機モリブデン化 合物である。好ましいモリブデン成分はモリブデン酸アンモニウムすなわち(N H,)IMoフ024−4H20である。
バナジウム成分はバナジウム金属、例えば酢酸バナジウムすなわちVo [00 CCH3] 2のような有機バナジウム化合物または例えばモノ−もしくはポリ −バナジン酸アルカリ金属、酸化バナジウムまたはモノ−もしくはポリ−バナジ ン酸アンモニウムのような無機バナジウム化合物である。好ましいバナジウム成 分はメタバナジン酸ナトリウムすなわちNaVO,、オルトバナジン酸ナトリウ ムすなわちNa5VO,およびバナジン酸アンモニウムすなわちN H、Vo、 である。
適当なリン酸塩成分にはリン酸と、例えばモノ−もしくはポリ−リン酸アルカリ 金属およびモノ−もしくはポリ−リン酸アンモニウムのような無機リン酸塩とが ある。好ましいリン酸塩成分はビロリン酸ナトリウム、N a + P 207 10 H20である。
成分の割合を含めた、本発明の方法に必要な触媒量は揮発性砒素不純物の不揮発 性砒素化合物への転化の満足できる速度を達成するために有効な量と割合である 。このような量と割合は操作者の目的と選択した特定の成分とによって変化する が、当業者によって容易に定められる。
一般に少なくとも約3.7ppm (100%フッ化水素を基準にして)の金属 成分が必要であり、少なくとも約3.5ppmのリン酸塩成分が必要である。し かし、触媒成分の一つの最少量を用いる場合には、他の成分は最少量の少なくと も3〜4倍の量で存在することが好ましい、金属成分の好ましいIは約10〜6 5ppmである。
リン酸塩成分の好ましい量は約25〜40p四であり、特に好ましい量はリン酸 約100〜400pp+oであり、さらに好ましい量はピロリン酸ナトリウム約 10〜55pp+*である0本発明の方法には多量め各触媒成分を用いることが できるが、このような量は経済的でなく、扱い易くない。
本発明の方法は約15〜75℃の範囲内の温度で実施することが好ましい、約1 5℃未満では、反応は一最に非実用的な速度にまで緩慢化する。温度が上昇する につれて、反応速度も上昇する0反応は約75℃より高い温度において実施する ことができたが、これは不必要に非常に高い圧力の装置を必要とするので、経済 的ではない6本発明の方法にとって最も好ましい温度範囲は50〜65℃である 。フッ化水素の沸点は19.54℃である0反応を19.54℃より高い温度で 実施する場合には、フッ化水素を液状に維持し、反応を液相で実施するために圧 力装置が必要である。約57℃においてフッ化水素を液相に維持するために必要 な標準圧力は約3.4気圧である。
フッ化水素中の有機汚染物はここに述べる接触砒素除去プロセスを妨害すること が判明している。このような有機汚染物の出所にはフッ化水素およびフッ化水素 の製造原料の輸送に用いるポンプからのグリースがある。それ故、本発明の1実 施B様では、砒素不純物の過酸化水素酸化を妨害するような量の有機汚染物を含 まないフッ化水素を用いる0反応混合物中の1100pp程度の少ない有機汚染 物が砒素不純物の過酸化水素酸化を妨害することが確認されたが、限界値は確認 されない、しかし、実iには、過酸化水素による砒素不純物の酸化反応は効果的 には進行しない場合には、妨害量の有機汚染物が存在することが考えられ、この 場合には本発明の次の実施態様を実施することができない。
このような有機汚染物の妨害量が存在する場合には、有機汚染物に対する有効量 の酸化剤を加えることによって接触砒素除去プロセスのこのような妨害を回避ま たは最小にすることが判明している1選択する酸化剤は存在する有機汚染物の酸 化に有効であるが、砒素不純物の過酸化水素酸化を妨害しないような酸化物であ るべきである。
有機汚染物の適当な酸化剤には硝酸と例えばアルカリ金属塩およびアンモニウム 塩のような硝酸塩とがある。好ましい塩は硝酸ナトリウムである。他の適当な有 機汚染物に対する酸化剤の添加時点は重要ではないが、触媒の添加前にフッ化水 素流に加えることが好ましい。
有機汚染物に対する酸化剤の使用量は存在する有機汚染物の性質と量とに依存す る。一般に、有機汚染物100部につき酸化剤約2〜10部、好ましくは有機汚 染物100部につき酸化剤5〜10部を用いるべきである。一定のフッ化水素材 料と共に用いる一定の酸化剤のfi適量はルーチンの実験によって当業者が容易 に決定することができる。
本発明の方法の完成に必要な反応時間は広範囲に変動する。反応は2分閏程度で 実施されるが、通常は3分間より長い滞留時間で実施される0本発明の方法に用 いる好ましい滞留時間は30〜60分間である0反応は60分間より長い如何な る滞留時間においても実施することができるが、このようにすることは不必要で あり、経済的に無意味である。
本発明の方法は、反応装置の外部の物質による汚染を避けるために、無水フッ化 水素によって侵されない装置内で実施しなければならない、従って、フッ化水素 と接触する反応器、蒸留塔、塔バッキングおよび受器の全表面はHFに対して不 活性でなければならない、′s当な構成材料は例えば低炭素鋼、ステンレス鋼、 ニッケル、ニラゲル合金、および白金のような金属である。これらの中で低炭素 鋼が経済性の観点から好ましい0例えば、商業的に入手可能なポリエチレン、ポ リ塩化ビニル、およびフルオロカーボンポリマーのようなポリマー材料も用いる ことができる。フルオロカーボンポリマーが好ましい。
砒素不純物は不揮発性砒素化合物またはフッ化水素に比べて低揮発性の残渣に転 化される。それ故、フッ化水素から不揮発性砒素化合物を分離するために入念な 分留は不必要である。このように、大気圧での蒸留を用いて不揮発性砒素不純物 を分離し、低レベルの砒素不純物を含む高純度の無水フッ化水素を製造すること ができる。
本発明は主として低レベルの砒素不純物を含む高純度無水フッ化水素の製造を目 的とするが、電子工業によって必要とされる無水フッ化水素のような重要な用途 向けの高純度無水フッ化水素の製造に利用することも可能である6本発明を実施 例に関連してさらに説明する0%および部の表現は、他に指示しない限り、10 0%HFを基準とした重量によるものである0表において、RGは試薬等級H, O,を意味する。CGは商用等級H2O2を意味する。TGは工業等級H202 を意味し、DGは希釈等級H2O2を意味する。また、実施例では工業等級無水 フッ化水素の製造プロセス中に得られる中間生成物についても述べる。この中間 生成物は工業等級無水フッ化水素の二基式精製系における第1蒸留塔のリボイラ ー出口から得られる無水フッ化水素である。過酸化水素と砒素の分析には標準分 析方法を用いた。過酸化水素分析は遊離ヨウ素の標準化チオ硫酸塩滴定によって 実施した。砒素分析はピリジン中のジエチルジチオカルバミン酸銀による吸収と 、標準試薬との分光測光性比較とによって実施した。
実験室試験に用いた装置は約800cc容量の円筒形の軟鋼またはテフロン(登 録商標Teflon)被覆反応器から成るものである。この反応器は温度制御の ために熱水および冷水の環境用ジャケット付きである。
実験室実験は工業等級の無水フッ化水素または無水フッ化水素の製造で得られる 中間生成物のいずれかを用いて実施した1反応前のこれらの生成物中の砒素不純 物の初期値はAs金属としての砒素500〜9001)I]−の範囲内であった 。一般に、実験室実験の終了後に、最終的に反応した反応混合物を蒸留せずに高 純度無ホフッ化水素が得られた。しかし、実際の営利的な実施では、反応混合物 を蒸留して、高純度無ホフッ化水素生成物を得る。蒸留した高純度無水フッ化水 素をAs″3に関して分析する代りに最終的に反応した反応混合物をAs”に関 して分析した。蒸留した高純度無水フッ化水素中に存在するAs″3が最終的に 反応した反応混合物中に存在するAs″3以下であることが発見された。
下記の例1〜4は過酸化水素のみ(触媒なしに)では砒素除去において充分な量 の砒素が除去されないことを説明する。
医1 上記実験室用反応器に30%試薬等級過酸化水素を用いることによって、工業等 級無水フッ化水素から砒素不純物を除去しようと試みた。この無水フッ化水素は 最初は500〜800ppm A s ”の範囲内の砒素不純物を含んでいた0 反応器に無水フッ化水素400gと30%試薬等級過酸化水素6.7蒙1とを装 入し、約57℃において45分間反応させた。過酸化水素は反応の終了時に完全 には分解し、なかった0反応の終了時に得られた反応混合物はAs″’620p p+iを含んだ、結果は第1表に示す。
己ユ 上記実験室用反応器に50%商用等級過酸化水素を用いることによって、工業等 級無水フッ化水素から砒素不純物を除去しようと試みた。この無ホフッ化水素は 最初は500〜800ppmAs″3の範囲内の砒素不純物き含んでいた0反応 器に無水フッ化水素398gと50%商用等級フッ化水素8.hlとを装入し、 約57℃において45分間反応させた。過酸化水素は反応の終了時に完全に分解 した。
反応後の最終反応混合物は、As″’2659p−を含んだ、結果は下記第1表 に示す。
胆 上記実験室用反応器に30%試薬等級過酸化水素を用いることによって、中間生 成物から砒素不純物を除去しようと試みた。中間生成物は最初は500〜800 pp醜As″5の範囲内の砒素不純物を含んでいた0反応器に中間生成物400 gと30%試験等級過酸化水素6.7mlとを装入した0反応物質を約57℃に おいて45分間反応させた。過酸化水素は反応の終了時に完全には分解しなかっ た0反応後に得られた最終反応混合物はAs″’470ppm+を含んだ、結果 は下記第1表に示す。
伝庄 上記実験室用反応器に50%商用等級過酸化水素を用いて中間生成物から砒素不 純物を除去しようと試みた。この中間生成物は最初は500〜800ppmAs ″3の範囲内の砒素不純物を含んでいた0反応器に無水フッ化水素387gと5 0%商用等級過酸化水素8.71とを装入した6反応物質は、約57℃において 45分間反応させた。過酸化水素は反応の終了時に完全に分解した。反応後に得 られた反応混合物はAs″’265ppmを含んだ、結果は次の第1表に示す。
!よ宍 実施例 HF H,0,F120. H2O,^S゛コNo、 IL 3LL  JIIMX ]13 」lu匹吐I Tnd、 30% 0.5 0.54 6 20八〇F RG 2 1nd、 50% 1.1 0.03 265八〇F CC 31nt、 30$ 0.5 0.41 470Prod、 RC 4Int、 50g 1.1 <0.01 265Prod、 CG 上記第1表に示した結果は、過酸化水素酸化剤のみ(触媒なし)の使用によって は妥当な滞留時間内に無水フッ化水素からの砒素除去が不充分であることを示唆 する。
例5〜6は特許請求した触媒成分の1種類のみの存在下で過酸化水素を用いるこ とによって、無水フン化水素から砒素不純物が満足に除去されないことを説明す る。
己旦 この例では、上記実験室用反応器内で30%過酸化水素を触媒としてのモリブデ ン酸アンモニウムを用いて中間生成物から砒素不純物を除去することを試みた。
中間生成物は最初に500〜800pp鋼As”の範囲内の砒素不純物を含有し た。
反応器に中間生成物419g、30%試薬等級過酸化水素(すなわちリン酸塩安 定剤を殆んどまたは全く含有せず) 7.0mlおよびモリブデン酸アンモニウ ム15.5mgを装入した。反応物質は、約57℃において30分間反応させた 。過酸化水素は反応の終了時に完全には分解しなかった。反応後の最終反応混合 物は、As″3640pp論を含んだ、結果は下記第2表に示す。
区立 この例では、上記実験室用反応器内で30%試薬等級過酸化水素(すなわちリン 酸塩安定剤を殆んどまたは全く含有せず)と触媒としてのどロリン酸ナトリウム とを用いて中間生成物から砒素不純物を除去することを試みた。中間生成物は最 初に500〜800ppm A s ”の範囲内の砒素不純物を含有した1反応 器に中間生成物450g、30%試薬等級過酸化水素7.5mlおよびビロリン 酸23.0mgを装入した0反応物質は、約57℃において45分間反応させた 。過酸化水素は、反応の終了時にほぼ完全に分解した0反応後に最終反応混合物 は、As“3640ppmを含んだ、結果は下記第2表に示す、SPはピロリン 酸ナトリウムを表す。
例7〜9は、本発明による触媒混合物の存在下で過酸化水素を用いることによっ て無水フッ化水素から砒素不純物が充分に除去されることを説明する。
但ヱ この例では、上記実験室用反応器内で30%試薬等級過酸化水素と触媒としての モリブデン酸アンモニウムとピロリン酸ナトリウムとを用いて中間生成物から砒 素不純物を除去することを試みた。中間生成物は最初に500〜800pp+m As″3の範囲内の砒素不純物を含有した0反応器に、中間生成物400g、3 0%試薬等級過酸化水素6.7ml、モリブデン酸アンモニウム14.7mg及 びピロリン酸ナトリウム20.5mgを装入した0反応物質を約57℃において 45分間反応させた。
過酸化水素は、反応終了時に完全に分解した0反応後に最終反応混合物は、5p pm未溝のAs″コを含んだ、結果は下記第2表に示す。
但旦 この例で、上記実験反応器内で50%商用等級過酸化水素(すなわちリン酸安定 剤を含む)及び触媒としてモリブデン酸アンモニウムを用いて中間生成物から砒 素不純物を除去しようと努力した。中間生成物は最初に500〜800ppmA sりの範囲内の砒素不純物を含有した0反応器に、中間生成物399g、50% 商用等級過酸化水素4.0ml及び触媒としてモリブデン酸アンモニウム18. 4mgを装入した0反応物質は約57℃において30分間反応させた。過酸化水 素は反応の終了時に完全に分解した0反応後に最終反応混合物はs ppm未満 のAs″3を含有した。結果は下記第2表に示す。
3皇 この例で、上記実験室用反応器内で50%試薬等級過酸化水素と触媒としてモリ ブデン酸アンモニウムとリン酸ナトリウムを用いて工業用等級無水フ・ノ化水素 から砒素不純物を除去しようと努力した。工業用等級無水フッ化水素は、最初は 500〜800pp+nAs″2の範囲内の砒素不純物を含んでいた0反応器に 無水フッ化水素398g、50%試薬等級過酸化物4.0謡1、モリブデン酸ア ンモニウム7.3mg及びリン酸ナトリウム10.2mgを装入した。反応物質 は約57℃において45分間反応させた。過酸化水素は反応終了時にほぼ完全に 分解した0反応後に最終反応混合物はs ppm未満のAs″3を含有した。結 果は下記第2表に示す。
策ユ去 触媒 6 1nt、30$ 0.5 0 51 0.01 640Prod、 Rに 7 1nt、301 0.5 37 51 <0.01 <5Prod、 RG 8 Int、50$ 0.5 46 0 <0.01 <5Prod、 C(1 ; 9 1nd、50$ 0.5 Is 26 0.01 <s^)IF Rに 上記結果は安定剤を殆んど加えられていない試薬等級の過酸化水素と共に用いる モリブデン酸アンモニウムのみでは本発明の方法に対する触媒ではないことを示 す(例5)。ピロリン酸ナトリウムのみでは本発明の方法に対する触媒ではない (例6)、モリブデン酸アンモニウムとピロリン酸ナトリウム(またはポリリン 酸ナトリウム)とは共に本発明の方法に対する触媒として作用する(例7)。
例8では、モリブデン酸アンモニウム単独は商用等級の過酸化水素と併用した場 合には、商用等級の過酸化水素が安定剤としてリン酸塩を含み、本発明の方法に とって好ましい触媒を供給するので、触媒として作用するように、で、ゎれる。
例9では、本発明の方法が中間生成物に適用されるのみでなく、工業等級の無水 フッ化水素にも適用されることおよびモリブデン・酸アンモニウムとピロリン酸 ナトリウムと力哄に触媒として作用することを示す。
例10.11および12はモリブデン金属と種々なモリブデン化合物がポリリン 酸塩と共に本発明の方法に対する触媒として作用することを説明する。
区1旦 この例では、上記実験室用反応器において30%試薬等級H202および触媒と してのモリブデン酸ナトリウム(N a 2 M o O4)とピロリン酸ナト リウムを用いることによって、工業等級の無水フッ化水素がら砒素不純物を除去 しようと試みた。工業等級の無水フッ化水素は最初に500〜800ppmAs ″3の範囲内の砒素不純物を含んでいた0反応器に工業等級無水フッ化水素40 0g、30%商用等級H,O□6.7ml、モリブデン酸ナトリウム20.2m gおよびピロリン酸ナトリウム20.5mgを装入した6反応物質を約57℃に おいて35分間反応させた0反応の終了時にH2O,は完全に分解した0反応後 の最終反応混合物は5 ppm未満のAs”を含有したにすぎない、結果は下記 第3表に示す、SPはピロリン酸ナトリウムこの例では、上記の実験室用反応器 に30%試薬等級H,O,と触媒としての三酸化モリブデン(M o O3)お よびピロリン酸ナトリウムとを用いることによって、工業等級の無水フッ化水素 (AI(F)がら砒素不純物を除去することを試みた。工業等級AHFは最初に 500〜800ppm A s″3の範囲内の砒素不純物を含有した0反応器に 工業等級AHF400g、30%試薬等taH:(h 6.7ml、M o O h 30.0+a8およびビロリン酸ナトリウム20.5mgを装入した1反応 物質を約57℃において300分間反応せた。反応め終了時に、H20□は完全 に分解した。
反応後の最終反応混合物は52978未満のAs″3を含んだ、結果は下記第3 表に示す。
己工l この例では、上記装置において30%試薬等級H202と、触媒としてのそりプ デン金属およびピロリン酸ナトリウムとを用いることによって、工業等級無水フ ッ化水素から砒素不純物を除去することを試みた。工業等級AHFは最初に50 0〜800ppmAs″3の範囲内の砒素不純物を含んでいた0反応器に工業等 級へ〇F400g、30%試薬等級H2O26,7ml、モリブデン金属500 mgおよびピロリン酸ナトリウム20.5mgを装入した1反応物質を約57℃ において300分間反応せた0反応の終了時に、H2O2は完全に分解した。反 応後の最終反応混合物はs ppa+未満のAs”を含有した。結果は下記第3 表に示す。
第1表 触媒 実施例 HF H2O2H20z No SP 8202 R終^S″コ11  1ncl 301 0.5 75 51 <0.01 <5^HF RG 80 03 12 lad 30g 0.5 1250 51 <o、ot <sへ〇F R G No金属 上記表の結果はモリブデン金属および種々なモリブデン化合物がビロリン酸塩と 共に、本発明の方法に対する触媒として作用することを示す。
例13と14は、触媒としてのモリブデン醇アンモニウムとモノリン酸塩との存 在下で酸化剤として過酸化水素を用いることによって、本発明の方法において無 水フッ化水素から砒素不純物が除去されることを示す。
但1旦 この例では、上記実験室用反応器において30%試薬等級過酸化水素と触媒とし てのモリブデン酸アンモニウムおよびリン酸とを用いることによって、中間生成 物から砒素不純物を除去しようと試みた。この中間生成物は最初に、500〜8 00pp+*As″3の範囲内の砒素不純物を含有した0反応器に中間生成物4 00 g、30%試薬等級過酸化水素6.7ml、モリブデン酸アンモニウム2 0.5mgおよびリン酸160mgを装入した0反応物質を約57℃において3 00分間反応せた8反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解した6反応後の最 終反応混合物は5ppm未満のAs”を含有した。結果は下記第4表に示す。P Aはリン酸を示す。
区1A この例では、上記実験室用反応器において30%試薬等級過酸化水素と、触媒と してのモリブデン酸アンモニウムおよびリン酸とを用いることによって中間生成 物から砒素不純物を除去することを試みた。この中間生成物は最初に500〜8 00ppmAs”の範囲内の砒素不純物を含有した0反応器に中間生成Th70 0g、30%試薬等級過酸化水素7.2m1.モリブデン酸アンモニウム18. 0mgおよびリン酸115mgを含有した。反応物質を約57℃において45分 間反応させた。
反応の終了時に過酸化水素は完全に分解した0反応後に最終反応混合物は5 p pm未満のAs”を含んだ、結果は下記の第4表に示す。
14 rnt、 301 0.3 26 164 <0.01 <5Prod、  R[: 上記結果は、モリブデン酸とリン酸(モノリン酸塩)が本発明の方法に対する触 媒として共に作用することを示唆する。
例15〜18は本発明の過程の充分な作用のために必要な過酸化水素酸化剤の量 を説明する。
匣工旦 この例では、上記装置内でごく少量の50%商用等級H202、モリブデン酸ア ンモニウム及び触媒としてリン酸ナトリウムを用いることによって工業等級へH Fから砒素不純物を除去しようと努力した。この工業等級AHFは最初は500 〜800ppmAs″3の範囲内の砒素不純物を含んでいた1反応器にAHF4 00g、50%商用等級H2O20,5111、モリブデン酸アンモニウム14 .7+*g及びビロリン酸ナトリウム20.5mgを装入した。
反応物質は、約57℃において55分間反応させた0反応の終了時に、H2O2 は完全に分解した0反応後の最終反応混合物は5ppm未満のAs″3を含んだ 、結果は下記第5表に示す、SPはピロリン酸ナトリウムを表す。
倒土五 この例では、上記装置内で少量の50%商用等級過酸化水素(すなわちリン酸安 定剤を含有する)と触媒としてモリブデン酸アンモニウムを用いることによって 、中間生成物から砒素不純物を除去しようと努力した。中間生成物は、最初は5 00〜800ppm As”の範囲内の砒素不純物を含んでいた。反応器に中間 生成物403g、50%商用等級過酸化水素2.0ml及びモリブデン酸アンモ ニウム7.51を装入した。反応物質は、約57℃において300分間反応せた 0反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解した1反応後に最終反応混合物は、 59pm未満のAs”を含んだ。これらの結果は下記第5表に示す。
何1ヱ この例では、上記装置内で中等量の50%商用等級過酸化水素(すなわちリン酸 安定剤を含有する)と触媒としてモリブデン酸アンモニウムを用いることによっ て中間生成物から砒素不純物を除去しようと努力した。中間生成物は、最初は5 00〜800ppm A s″3の範囲内の砒素不純物を含んでいた8反応器に 中間生成物402g、5026商用等級過酸化水素4.0ml及びモリブデン酸 アンモニウム14.8mgを装入した0反応物質は、約57℃において300分 間反応せた。反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解した0反応後に最終反応 混合物は、5 p9Ta未満のAs″5を含んだ、結果は下記第5表に示す。
信1互 この例では、上記装置内で多量の50%商用等級過酸化水素(すなわちリン酸安 定剤を含有する)と触媒としてモリブデン酸アンモニウムを用いることによって 中間生成物から砒素不純物を除去しようと努力した。中間生成物は、最初は50 0〜800ppm A sりの範囲内の砒素不純物を含んでいた0反応器に中間 生成物400g、50%商用等級過酸化水素9.0+el及びモリブデン酸アン モニウム36、hgを装入した0反応物質を約57℃において300分間反応せ た0反応の終工時に、過酸化水素は完全に分解した0反応後に!&終反応混合物 は、5pp−未満のAs″3を含んだ、結果は下記第5表に示す。
第旦去 触媒 AHF CG 16 Int、50$ 0.2518 0 <0.01 <5Prod、 CG 17 1nt、 50W 0.5 37 0 <0.01 <5Prod、 C (: 18 Int、 501 1.1 92 0 <0.01 <5Prod、 C G 上記結果は、本発明の方法に用いられる過酸化水素の量が、過酸化水素0.1〜 1.1重量%の範囲内であることを示唆する。下限は化学量論量の約3倍に対応 する0本発明の方法に用いられる過酸化水素の最も好ましい量は過酸化水素o、 25〜0.5重量%の範囲である1本発明の方法が1.11より多い過酸化水素 に対して充分に作用することが計画されている0本発明の方法に用いられる過酸 化水素の上限は、経済性と扱い易さによってのみ限定される。
例19〜22は、本発明の方法が如何なる種類または出所の8.02の使用に間 して限定されていないことを説明する1本発明の方法に必要な触媒は、別々に又 は市販の8202中にすでに存在する安定剤を介して加えることができる。
叫 上記装置内で70%希釈等級過酸化水素とモリブデン酸アンモニウム及び触媒と してピクリン酸ナトリウムを用いることによって中間生成物から砒素不純物を除 去するためにこの例を実施した。中間生成物は最初は500〜800ppm+A sりの範囲内の砒素不純物を含んでいた0反応器に中間生成物402g、7゜% 希釈等級過酸化水素2.Sn1.モリブデン酸アンモニウム7.41及びビロリ ン酸ナトリウム10.2mgを装入した8反応物質は、約57℃において45分 間反応させた。
反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解した0反応後に最終反応混合物は、5 gpI11未満の砒素を含有した。結果は下記第6表に示す、SPはピロリン酸 ナトリの範囲内の砒素不純物を含んでいた0反応器に中間生成物400g、70 %工業等級過酸化水素2.hl、モリブデン酸アンモニウム7.4mgg及びビ ロリン酸ナトリウム10.2mgを装入した。反応物質を約57℃において50 分間反応させた1反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解しな。反応後に最終 反応混合物は、5 pp11未満の砒素を含んだ、結果は下記第6表に示す。
ニウムとピロリン酸ナトリウムを用いることによって中間生成物から砒素不純物 トリウム10.5mgを装入した0反応物質を約57℃において45分間反応さ せた。
反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解した。反応後に最終反応混合物は、5 ppva未満の砒素を含んだ、結果は下記第6表に示す。
医ス旦 上記装置内で50%商用等級″ihB化水素と触媒としてモリブデン酸アンモニ ウムを用いることによって中間生成物から砒素不純物を除去するためにこの例を 実施した。中間生成物は最初は500〜800ppmAs″ffの範囲内の砒素 不純物を含んでいた0反応器に中間生成物406g、50%商用等級過酸化水素 2.6ml及びモリブデン酸アンモニウム7.5s+gを装入しな0反応物質は 約57℃において15分間反応させた1反応の終了時に、過酸化水素は完全に分 解した0反応後の最終反応混合物は5pp−未満の砒素を含んだ、結果は下記第 6表に示す。
策丘去 Prod、 DC 20Ink、 )OS 0.5 18 26 <0.01 <5Prod、 T C 211nt、50% 0.5 18 26 <o、oi <5Prod、 RC 22rnt、 501 0.3 18 0 <0.01 <5Prod、 Cに 上記表の結果は本発明の方法が試験した全ての種類の過酸化水素によって充分に 作用することを示す。
次の例は本発明の方法が充分に作用するために好ましい温度を説明する。
伍2旦 この例では、上記装置において50%商用H2O2(すなわちリン酸塩安定剤含 有)と触媒としてのモリブデン酸アンモニウムとを用いて、低温において中間土 g、50%市[H2O,4,2−およびモリブデン酸アンモニウム触媒36.8 mgを装入した0反応物質を約2℃において35分間反応させた0反応の最後に 、!(202は完全に分解しなかった0反応後の最終反応混合物はAs″’58 0ppmを含有した。
結果は下記第7表に示す。
有)と触媒としてのモリブデン酸アンモニウムおよびピロリ〉・酸ナトリウムと を用いて、中等度の低温において工業等級AHFから砒素不純物を除去しようと 努分解した。反応終了時の反応混合物は511GIII未満のAs″3を含有し た。結果は下記第7表に示す、SPはピクリン酸ナトリウムを表す。
伍25 この例では、上記装置において50%商用等級H2Ch(すなわちリン酸塩安定 剤含有)と触媒としてのモリブデン酸アンモニウムおよびピロリン酸ナトリウム とを用いて、中等度の高温において工業等級AHFから砒素不純物を除去しよう わちリン酸塩安定剤含有)4.0ml、モリブデン酸アンモニウム14 、7m ggおよびピロリン酸ナトリウム触jJ20.5m6を装入した0反応物質を約 35℃において45分間反応させた。HzOxは反応の終了時に完全に分解した 1反応終了時の反応混合物は5pp−未満のAs”を含有した。結果は下記第7 表に示す。
医λ旦 この例では、上記実験室用装置において50%商用等級Hash(すなわちリン 酸塩安定剤含有)と、触媒としてのモリブデン酸アンモニウムとを用いて、高温 において中間生成物から砒素不純物を除去しようと試みた。この中間生成物は最 初に500〜800ppmAs”の範囲内の砒素不純物を含有した6反応器に中 間生成物402g、50%商用等級H:Ch 4.0mlおよびモリブデン酸ア ンモニウム14.8I1gを装入した1反応物質を約57℃において30分間反 応させた。 )1,0.は反応の終了時に完全に分解した8反応終了時の反応混 合物は59P11未満のAs″りを含有した。結果は下記第7表に示す。
第ヱ遣 触媒 24 Ind、 50g 0.5 37 51 <0.01 <5AHF CG 25 rnd、 501 0.5 37 51 <0.01 <5AHF CC 261nt、 50% 0.5 37 0 <0.01 <5Prod、 C( 。
上記結果は、砒素が2℃では除去されないが、約15〜75℃の範囲内の如何な る温度においても容易に除去されることを示す。本発明の方法にとって好ましい 温度範囲は約50〜60℃である。砒素は約57℃より高い如何なる温度におい ても容易に除去されると考えられるが、高温は不必要に高い操作圧力を必要とす る。広範囲な操作温度範囲は約15〜75℃であると見積られる。
例27.28および29は本発明の方法の好ましい作用に必要な滞留時間を説こ の例は、上記装置において50%商用等級H2O2と触媒としてのモリブデン酸 アンモニウムおよびピロリン酸ナトリウムとを用いることによって、非常に短い 滞留時間において工業等級AHFから砒素不純物を除去するために実施した。
この工業等級AHFは最初に500〜,8 Q 0ppn A s″3の範囲内 の砒素不純物を含有した。反応器にAHF400g、50%商用等級H2O24 ,0w1l、モリブデン酸アンモニウム14.7mgおよびピロリン酸ナトリウ ム20.5mgを装入した0反応物質を約57℃において3分間反応させた。反 応の終了時に、H2O2は完全に分解した6反応後に得られた反応混合物は5  ppm未満のAs゛3を含有した。結果は下記の第8表に示す。SPはピロリン 酸ナトリウムを表す。
医λ旦 この例は5上記装置において50%商用等級H20,(すなわちリン酸塩安定剤 含有)および触媒としてのモリブデン酸アンモニウムを用いて短い滞留時間で中 間生成物から砒素不純物を除去するために実施した。この中間生成物は最初に5 00〜800pps+As″3の範囲内の砒素不純物を含有した。反応器に中間 生成物406 g、50%商用等級過酸化水素2.6mlおよびモリブデン酸ア ンモニウム7.5mgを装入した0反応物質を約57℃において15分間反応さ せた0反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解した9反応後の反応混合物は5  ppm未満のAs”を含有した。結果は下記第8表に示す。
区λ皇 この例は上記装置において50%商用等級過酸化水素(すなわちリン酸塩安定剤 含有)と触媒としてのモリブデン酸アンモニウムとを用いて長い滞留時間で中間 生成物から砒素不純物を除去するために実施した。この中間生成物は最初に50 0〜800ppmAs”の範囲内の砒素不純物を含有した0反応器に中間生成T h406 g、50%商用等級過酸化水素9.2mlおよびモリブデン酸アンモ ニウム37.4mgを装入した。反応物質を約57℃において45分間反応させ た。反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解した。反応後の反応混合物は51 )I’m未溝の砒素不純物を含有した。結果は下記第8表に示す。
募旦人 触媒 実施例 IF 1202 F1202 MOSP 8202 As゛328 1 nt、 503 0.3 IS O<0.01 <5Prod、 C(: 29 Int、 502 1.1 92 0 <0.01 <5Prod、 C G 上記の結果は、本発明の方法が満足できる作用のためには3分間が充分であるこ とを示唆する。この結果は、又、15分間及び45分間の反応時間て゛満足でき る作用が得られることを示唆する。
3分未満及び45分より長い反応時間で満足できる作用が得られることが予測さ れるが、本発明の方法に長い滞留時間を用いることは経済的ではない0反応時間 を3分未満に減らすことによって得られる利益は大したことはない。本発明の方 法の満足て゛きる作用のために好ましい反応時間は30〜45分間である。
例30,31,32.33及び34は本発明の方法の満足できる作用に必要な触 媒量を説明する。
医ジ旦 この例では、上記装置において、50%商用等級H2O2、モリブデン酸アンモ ニウム及びピロリン酸ナトリウム触媒を用いて低レベルのモリブデン酸アンモニ ウム触媒下で工業等級AHFから砒素不純物を除去しようと努力した。工業等級 AHFは最初は500〜800pp糟As”の範囲内の砒素不純物を含んでいた 。
反応器にAHF400g、50%商用等級8202 4ml 、モリブデン酸ア ンモニウム1.5rmgおよびビロリン酸ナトリウム10.2mgを装入した。
反応物質を約57℃において30分間反応させた。反応の終了時に、H,02は 完全に分解した。反応の終了時に反応温き物は、5 ppm未満のAs゛コを含 んでいた。結果は下記第9表に示す。
饅ユ1 この例では、上記装置において70%工業等級過酸化水素、少量のモリブデン酸 アンモニウムおよびピロリン酸ナトリウム触媒を用いることによって、中間生成 物から砒素不純物を除去することを実施した。中間生成物は最初は500〜Og 、70%工業等級過酸化物2.9m l 、モリブデン酸アンモニウム7.4o +gおよびビロリン酸ナトリウム10.11Igを装入した0反応物質を約57 ℃において50分間反応させた。反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解した 1反応後に得られた最終反応混合物は、59978未満のAs”を含んだ、結果 は下記第9表に示す。
区旦λ この例では、上記装置内で50%商用等級過酸化水素及び触媒としてモリブデン 酸アンモニウノ、を用いることによって中間生成物から砒素不純物を除去しよう と努力した。この場合には、ピロリン酸ナトリウム触媒は商用等級過酸化水素か ら供給された。中間生成物は最初は500〜800ppmAs″3の範囲内の砒 素不純物を含んでいた0反応器に中間生成物403g、509;商用等級過酸化 水素2.0ml及びモリブデン酸アンモニウム触媒7.4rngを装入した。反 応物質を約57℃において30分間反応させた1反応の終了時に、過酸化水素は 完全に分解した。
反応後に得られた最終反応混合物は51)l)M未満のAs゛コを含んだ、結果 は下記第9表に示す、第9表において、*は商用等級過酸化水素に含まれるリン 酸安定剤からの推測値を意味する。
伍ユ旦 この例では、30%試薬等級過酸化水素、触媒として中等量のモリブデン酸アン モニウム及びピロリン酸ナトリウムを用いることによって中間生成物から砒素不 純物を除去しようと努力した。中間生成物は、最初は500〜s o o pp iiAs″3の範囲内の砒素不純物を含んでいた。反応器に中間生成物450g 、30%試薬等級過酸化水素7.5m l 、モリブデン酸アンモニウム16. hε及びビロリン酸ナトリウム触、!23.0mgを装入した0反応物質を約5 7℃において45分間反応させた。反応の終了時に、過酸化水素は完全に分解し た0反応後に得られた反応混合物は、sppm未満のAs゛3を含んだ、結果は 下記第9表に示す。
皿旦」 この倒では、50%商用等級過酸化水素(すなわちリン酸塩安定剤を含有する) 及び多量のモリブデン酸アンモニウム触媒を用いることによって、中間生成物か ら砒素不純物を除去しようと努力した。中間生成物は最初500〜800pp+ iAs″5の範囲内の砒素不純物を含んでいた。反応器に中間生成物399g、 50%商用等級過酸化水素9.3ml及び触媒としてモリブデン酸アンモニウム 257+*g装入した0反応物質を約57℃において45分間反応させた0反応 の終了時に、過酸化水素は完全に分解した0反応後に得られた反応混合物は、5  ppm未満のAs”を含んだ、結果は下記第9表に示す。
第2宍 触媒 ^IIF CG 31 rnt、 701 0.5 18 26 <0.01 <5Prod、  Tに 32 1nt、 50% 0.2518 3.5’ <0.01 <5Prod 、 CG 33 Int、 50% 0.5 37 51 イ0.01 <5Prod、  RG 34 Ink、 50$ 1.2 645 16.4本 <o、ot <5Pr od、 CG 第9表の結果は、本発明の方法の満足できる作用のためにモリブデン酸アンモニ ウム触媒の量が3.7〜645ppmの範囲であることを示す。これらの結果は また、本発明の方法の満足できる作用のためにビロリン酸ナトリウ!、触媒の量 が3.5〜51p四の範囲であることとも示す6本発明の方法の満足できる作用 のために必要な触媒の好ましい量はモリブデン酸アンモニウム15〜40ppm gビロリン酸ナトリウム25〜50p沖である。
区旦至 この例では、上記実験室用装置において30%試薬等級過酸化水素と、触媒とし てモリブデン酸アンモニウムおよびピロリン酸ナトリウムとを用いて潤滑グリー スによって汚染された中間生成物から砒素不純物を除去しようと試みた。この中 間生成物は最初に500〜900pp+sAs”の範囲内の砒素不純物を含有し た。
反応器に中間生成物400g、W滑グリース40.4mg、30%試薬等級過酸 化水素6.7ml、モリブデン酸アンモニウム14.hgおよびピロリン酸ナト リウム20.5111JIを装入した1反応物質を約57℃において45分間反 応させた0反応終了時に過酸化水素は分解しなかった0反応後のfi終反応生成 物は530ppmAs”を含んだ。
結果は下記第10表に示す。
医ユ旦 この例では、上記実験室用反応器において30%試薬等級過酸化水素、触媒とし てのモリブデン酸アンモニウムとピロリン酸ナトリウム、およびグリースの酸化 剤として硝酸からの硝酸塩を用いて、潤滑グリースによって汚染された中間生成 物から砒素不純物を除去しようと試みた。この中間生成物は最初に500〜90 0ppmAs″3の範囲内の砒素不純物を含有した0反応器に中間生成物400 g、潤滑グリース40.0IIg、 30%試薬等級過酸化水素6.7m1−モ リブデン酸アンモニウム14.7+++g、ビロリン酸ナトリウム20.5…ε および硝酸3.4呵を装入した。反応物質を約57℃において300分間反応せ た1反応終了時に過酸化水素は完全に分解した0反応後の最終反応混合物は10 ppm A s ”を含有した。結果は下記第この例では、上記実験室用反応器 において50%商用等級過酸化水素、触媒としてのモリブデン酸アンモニウムと ピロリン酸ナトリウムおよびグリースの酸化剤としての硝酸ナトリウムからの硝 酸塩を用いて、潤滑グリースによって汚染された中間生成物から砒素不純物を除 去しようと試みた。この中間生成物は最初に500〜900ppm A s″3 の範囲内の砒素不純物と含んだ1反応器に中間生成物400g、潤滑グリース1 00mH15Q%商用等級過酸化水素40m1、モリブデン酸アンモニウム14 .7mg、ピロリン酸ナトリウム20.5mgおよび硝酸ナトリウム2.211 11を装入した。反応物質を約57℃において300分間反応せた0反応の終了 時に過酸化水素は完全に分解した1反応後の最終反応混合物は9ppmAs″3 ′!:含有した。結果は下記第10表に示す。
箪よ立前 触媒 36 rot、30g 0.5 100 37 51 8.5Prod、 RG  HNOz 37 1nt、50S O,525037515,5Prod、 CG NaN O3 実施例 H20□ 最終^S゛コ U9−、fifIL■曝と 35 0.5 530 36 <0.01 10 37 <0.01 9 色王二り 例38〜47では、過酸化水素と下記第11表に示した触媒系を用いて、中間生 成物から砒素不純物を除去することを試みた。この中間生成物は工業等級無水フ ッ化水素の製造プロセス中に得られたものであった。この中間生成物は工業等級 無水フッ化水素の二基式精製系の第1蒸留塔のりボイラー出口から得られた無水 フッ化水素であった。過酸化水素と砒素の分析には標準分析方法を用いた。過酸 化水素分析は遊にヨウ素の標準化チオスルフェート滴定によって実施した。砒素 分析はピリジン中のジエチルジチオカルバミンM鎧による砒素吸着と標準試薬に 対する分光測光性比較とによって誕施した。
実験室試験に用いた装置は約800cc容量の円筒形軟鋼テフロン(登録商標) 被覆反応器から成るものであった1反応器は温度制御のための熱水または冷水循 環用ジャゲット付きであった。
反応前の中間生成物中の砒素不純物の初期値はAs金属としての砒素500〜1 500pp+nの範囲内であった。過酸化水素としては、50%商用等級H2O 2を用いた。上記実験室用反応器に中間生成物200g、過酸化水素、第11表 に示した種類と量の金属、および第11表に示した種類と量のリン酸塩(Pと略 記)成分を装入し、これらの成分を約36〜62psigの圧力、約55〜62 ℃の反応温度において、約60分間反応させた。SPはピロリン酸ナトリウムを 表す。
例38と39は金属成分として無機モリブデン化合物を用いて実施した1例40 は第11表にMAAと略記したアセチルア七トン酸モリブデンである有機モリブ デン化合物を用いて実施した0例41はバナジウム金属を用いて実施した゛。
例42は第11表にVAと略記した酢酸バナジルである有機バナジウム化合物を 用いて実施した。例43〜・17は無機バナジウム化合物を用いて実施した。
一般に、実験室実験の終了後に高純度無ホフッ化水素を得るために、最終的に反 応した反応混合物を蒸留しなかった。しかし、実際の営利的実施では、高純度無 ホフッ化水素生成物を得るために反応混合物を蒸留する。蒸留した高純度無水フ ッ化水素生成物をAs゛3に関して分析する代りに、最終的に反応した反応混合 物をAs”に間して分析した。蒸留した高純度無水フッ化水素中に存在するAs ”は最終的に反応した反応混合物中に存在するAs”以下であることが発見され た。第11表中に示したH、O,の最終%はこの触媒系がH2O2を分解するこ とを示す。
第1よ老 49ppmHo 49ppmPzOt 39 0.48 12MoOJ−Sio、 123ppmSP 0.014 < 548ppmMo 48ppmPzOy 40 0.53 M^A 136ppmSP 0.008 <553ppmMo  531)plIP20741 0.47 VanadiuwMetal 12 0ppmSP 0.015 <5473ppmV 47ppmPzOt 42 0.49 185ppmV^ 126ppmSP O<549pptaV  49pprtrPzOt43 0.48 86ppJH,VOp 120pp mS 0.001 <533ppmV 47ppmPzOt 44 0.47 151ppmNHnVO31201)I)IIISP 0.0 04 ’、55SppmV 47ppmP20t 45 0.46 168ppmNaVOs 120ppmSP 0.007 < 562pp+*V 47ppaaP20746 0.49 177ppmNas V(L 126ppmSP 0.007 <549ppmV 49ppw+Px Oy 47 0.53 220ppmNasV0. 136piSP O,007<5 61ppmV  請求の範囲において定義した本発明の本質と範囲とがら逸脱することなく、上記 詳細な説明の種々な変更がなされることを理解すべきである。
平成 3年 1月11日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.砒素汚染した無水フッ化水素からの砒素不純物レベルの低い無水フッ化水素 の製造方法において、次の工程: (a)次の成分; (i)モリブデン、モリブデン化合物、バナジウムおよびバナジウム化合物から 成る群から選択される要素、および (ii)リン酸塩化合物 の触媒量から成る触媒の存在下において、前記無水フッ化水素を、無水フッ化水 素中の揮発性三価砒素不純物を不揮発性の五価砒素化合物に酸化するために充分 な温度および充分な期間において、砒素不純物を酸化するのに有効量の過酸化水 素と接触させる工程; および (b)生成した混合物を蒸留して、砒素不純物レベルの低下した無水フッ化水素 を回収する工程 から成る方法。 2.前記砒素汚染したフッ化水素が前記砒素不純物の過酸化水素酸化を妨げるよ うな量の有機汚染物を含まない請求項1記載の方法。 3.前記砒素汚染したフッ化水素が有機物質によって汚染されており、前記無水 フッ化水素が存在する有機物質を酸化するための酸化剤の有効量とも接触する請 求項1記載の方法。 4.前記成分(i)が有機モリブデン化合物である請求項1記載の方法。 5.前記成分(i)がバナジウムである請求項1記載の方法。 6.前記成分(i)が有機バナジウム化合物である請求項1記載の方法。 7.前記成分(i)が無機バナジウム化合物である請求項1記載の方法。 8.前記成分(i)がバナジン酸アンモニウムである請求項1記載の方法。 9.前記成分(i)がバナジン酸ナトリウムである請求項1記載の方法。 10.触媒中の金属成分の量が100%HFを基準にして少なくとも約3.7p pmであり、触媒中のリン酸塩成分の量が100%HFを基準にして少なくとも 3.5ppmである請求項1記載の方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010061838A1 (ja) * 2008-11-28 2010-06-03 国立大学法人京都大学 フッ化水素の精製方法

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4960580A (en) * 1989-10-31 1990-10-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for purifying hydrogen fluoride
AU7243391A (en) * 1990-03-02 1991-09-18 E.I. Du Pont De Nemours And Company Process for purifying hydrogen fluoride
US5089241A (en) * 1990-12-20 1992-02-18 Allied-Signal Inc. Process for converting hexafluoroarsenic acid or any salt thereof to arsenic acid or salt thereof which can then be rendered nonhazardous
GB9300956D0 (en) * 1993-01-19 1993-03-10 British Nuclear Fuels Plc Dehydration of mixtures
US5496778A (en) * 1994-01-07 1996-03-05 Startec Ventures, Inc. Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture
US5846386A (en) * 1994-01-07 1998-12-08 Startec Ventures, Inc. On-site ammonia purification for semiconductor manufacture
WO1996039358A1 (en) * 1995-06-05 1996-12-12 Startec Ventures, Inc. Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture
US5846387A (en) * 1994-01-07 1998-12-08 Air Liquide Electronics Chemicals & Services, Inc. On-site manufacture of ultra-high-purity hydrochloric acid for semiconductor processing
US6350425B2 (en) 1994-01-07 2002-02-26 Air Liquide America Corporation On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF and ammonium fluoride
WO1996039266A1 (en) * 1995-06-05 1996-12-12 Startec Ventures, Inc. On-site generation of ultra-high-purity buffered-hf for semiconductor processing
US5785820A (en) * 1994-01-07 1998-07-28 Startec Ventures, Inc. On-site manufacture of ultra-high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing
US5722442A (en) * 1994-01-07 1998-03-03 Startec Ventures, Inc. On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF for semiconductor processing
WO1996041687A1 (en) * 1995-06-05 1996-12-27 Startec Ventures, Inc. On-site manufacture of ultra-high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing
AU6329096A (en) * 1995-06-05 1996-12-24 Startec Ventures, Inc. On-site ammonia purification for semiconductor manufacture
AU6161996A (en) * 1995-06-05 1996-12-24 Startec Ventures, Inc. On-site manufacture of ultra-high-purity hydrochloric acid f or semiconductor processing
US6001223A (en) * 1995-07-07 1999-12-14 Air Liquide America Corporation On-site ammonia purification for semiconductor manufacture
WO1997018158A1 (en) * 1995-11-13 1997-05-22 Alliedsignal Inc. Manufacture of very low arsenic hydrogen fluoride
US6214173B1 (en) 1996-06-05 2001-04-10 Air Liquide Electronics Chemicals & Services, Inc. On-site manufacture of ultra-high-purity nitric acid
DE10031565B4 (de) 2000-06-28 2006-02-23 Bulan, Andreas Verfahren zur Herstellung von perfluorierten organischen Verbindungen durch elektrochemische Fluorierung
DE10031563B4 (de) 2000-06-28 2009-01-29 Lanxess Deutschland Gmbh Verfahren zur Herstellung von perfluororganischen Verbindungen durch elektrochemische Fluorierung
US20080003172A1 (en) * 2006-06-29 2008-01-03 Honeywell International Inc. Continuous hydrolysis of hexafluoroarsenic acid
MX357878B (es) 2014-12-18 2018-07-27 Mexichem Fluor Sa De Capital Variable Proceso para la purificación del ácido fluorhídrico incluyendo la obtención del subproducto ácido arsenioso.
CN108862200B (zh) * 2018-07-31 2020-04-28 苏州香榭轩表面工程技术咨询有限公司 一种超高纯氢氟酸的制备方法
CN114195099B (zh) * 2021-12-16 2023-04-28 浙江博瑞电子科技有限公司 一种多通道微反应器原位除砷制备电子级氟化氢和电子级氢氟酸的方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE62309C (de) * Dr. R. HIRSCH in Berlin W., Potsdamerstr. 113 Verfahren zur Darstellung von Diphenylamin, o- und p-Amidodiphenyl
BE620698A (ja) * 1961-07-27
FR1335675A (fr) * 1961-07-27 1963-08-23 I C P M Ind Chimiche Porto Mar Procédé pour l'élimination de composés d'arsenic et d'antimoine de l'acide fluorhdrique moyennant la formation de complexes, facilement séparables, entre l'arsenic et l'antimoine, le fluor et un métal alcalin
BE632837A (ja) * 1962-06-04 1963-10-21
US3663382A (en) * 1969-08-19 1972-05-16 Du Pont Process of recovering hydrogen fluoride free of arsenic by distillation
US3689370A (en) * 1970-02-20 1972-09-05 Daikin Ind Ltd Process for purifying hydrofluoric acid by distillation with an oxidizing agent and a ferrous salt
US3687622A (en) * 1970-11-30 1972-08-29 Du Pont High pressure purification of hydrogen fluoride
US4032621A (en) * 1975-11-24 1977-06-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Preparation of hydrogen fluoride with low levels of arsenic, iron and sulfite
JPS5354463A (en) * 1976-10-27 1978-05-17 Nec Corp Microwave tube
US4083941A (en) * 1977-04-18 1978-04-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Purification of anhydrous hydrogen fluoride
DE2942545A1 (de) * 1979-10-20 1981-06-04 Riedel-De Haen Ag, 3016 Seelze Verfahren zur herstellung einer gereinigten oxidationsbestaendigen anorganischen saeure und danach erhaltene saeure
US4491570A (en) * 1984-05-03 1985-01-01 Pennwalt Corporation Removal of arsenic from hydrogen fluoride
JPH0238521B2 (ja) * 1984-12-25 1990-08-30 Hashimoto Chemical Ind Futsukasuisosannoseiseiho
US4752380A (en) * 1986-09-23 1988-06-21 Union Oil Company Of California Arsenic removal from shale oil by chloride addition
US4752379A (en) * 1986-09-23 1988-06-21 Union Oil Company Of California Arsenic removal from shale oil by oxidation
US4756899A (en) * 1987-02-12 1988-07-12 Allied-Signal Inc. Manufacture of high purity low arsenic anhydrous hydrogen fluoride

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010061838A1 (ja) * 2008-11-28 2010-06-03 国立大学法人京都大学 フッ化水素の精製方法
JP5595283B2 (ja) * 2008-11-28 2014-09-24 国立大学法人京都大学 フッ化水素の精製方法
US9260306B2 (en) 2008-11-28 2016-02-16 Kyoto University Hydrogen fluoride purification method

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